「pattern intensity」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method, vibration-related information is determined by projecting an aerial image at an image position in a projection plane, by mapping the intensity of the aerial image into an image map wherein the image map includes values of coordinates of sampling locations and of the intensity sampled at the respective sampling locations, and by measuring the intensity of the aerial image received through a slot pattern.例文帳に追加

投影平面内の画像位置でエアリアル画像を投影し、 エアリアル画像の強度を画像マップにマッピングし、画像マップはサンプル抽出箇所の座標の値とそれぞれのサンプル抽出箇所でサンプル抽出された強度の値とを含み、 スロット・パターンを通して受け取ったエアリアル画像の強度を測定することによって、振動関連情報を決定するための方法。 - 特許庁

The game machine has an electric immumination control means for changing the electric spectacular pattern of a fluorescent lamp 25 for a decorative panel according to inside prize winning roles, an illumination degree detector 55 for detecting the illumination degree outside, and a light intensity set means setting the light intensity of the light intensity detector 55 by the electric illumination control means according to the illumination degree detected by the illumination degree detector.例文帳に追加

内部当選役に応じて、化粧パネル用蛍光灯２５の電飾形態を変化させる電飾制御手段と、外部の照明度を検出する照度検出器５５と、照明度検出手段によって検出された照明度に応じて、電飾制御手段による照度検出器５５の光量を設定する光量設定手段とを有する。 - 特許庁

The light emission part EU emits irradiation light LT with a first intensity distribution pattern PID1 and irradiation light LT with a second intensity distribution pattern PID2 when determining that the distance of the object OB from an object surface 20 on which the detection area RDET is set is short, and emits irradiation light LT with a third intensity distribution pattern PID3 when determining that the distance of the object OB from the object surface 20 is long.例文帳に追加

光出射部ＥＵは、検出エリアＲＤＥＴを設定する対象面２０からの対象物ＯＢの距離が短いと判断された場合には、第１の強度分布パターンＰＩＤ１の照射光ＬＴと第２の強度分布パターンＰＩＤ２の照射光ＬＴとを出射し、対象面２０からの対象物ＯＢの距離が長いと判断された場合には、第３の強度分布パターンＰＩＤ３の照射光ＬＴを出射する。 - 特許庁

An image forming apparatus employing an electrophotographic system includes a toner amount calculation unit 22 that specifies a distribution pattern of an electrostatic latent image based on an exposure signal for controlling an exposure device 2, specifies the intensity of an electric field of a pixel of interest based on the distribution pattern of an electrostatic latent image, and specifies the toner consumption corresponding to the intensity of an electric field.例文帳に追加

電子写真方式の画像形成装置において、トナー量計算部２２は、露光装置２を制御するための露光信号に基づいて静電潜像の分布パターンを特定し、静電潜像の分布パターンに基づいて注目画素の電界強度を特定し、その電界強度に対応するトナー消費量を特定する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of forming an image density correction pattern capable of reducing an influence of an noise from an image carrier on the mean value of the signal intensity in detecting the image density correction pattern constituted of a plurality of density patches formed on an image carrier by a sensor, and then, obtaining the mean value of the detected signal intensity.例文帳に追加

像担持体の上に形成される複数の濃度のパッチからなる画像濃度補正用パターンをセンサで検知し、検知する信号強度の平均値を求める際に、この信号強度の平均値への像担持体からのノイズの影響を少なくすることができる画像濃度補正用パターンを形成することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

The mass distribution within a molecular weight range of 1,000-200,000 Da and development intensity of protein in the blood specimen of a subject are measured and the difference found out by comparing the mass distribution and the pattern of relative development intensity with the pattern in a normal person is used as an index to detect the uterine cancer of the subject.例文帳に追加

被験者の血液検体中のタンパク質における分子量１０００〜２０００００Daの範囲の質量分布と発現強度を測定し、当該質量分布と相対発現強度のパターンを、健常人におけるパターンと比較して見出される差異を指標として、当該被験者における子宮体癌を検出する検出方法を提供することにより、上記の課題を解決し得ることを見出した。 - 特許庁

The optical image intensity distribution formed on a resist disposed on the side of a lower layer of a diffraction pattern by performing whole image exposure from the side of an upper surface of the diffraction pattern formed by lines L and spaces S on a substrate at a predetermined pattern pitch is calculated by using a multi-mode waveguide path analytic model or fractional Fourier transform for the diffraction pattern.例文帳に追加

ラインＬとスペースＳによって所定のパターンピッチで基板上に形成された回折パターンの上面側から全面露光を行なうことによって回折パターンの下層側に配置されたレジストに形成される光学像強度分布を、回折パターンに対してマルチモード導波路解析モデル又はフラクショナルフーリエ変換を用いることにより算出する。 - 特許庁

Also, when the control section generates the screen data, it enlarges or reduces the test pattern to change the size so that the size of the test pattern to be displayed on each the changeover screen has a ratio of 10% to the size of the display screen and sets the driving level of a background region to make the background region of the test pattern have the intensity level corresponding to the test pattern.例文帳に追加

また、画面データを生成する際には、各切替画面において表示するテストパターンのサイズが表示画面のサイズに対して１０％の比率となるように、テストパターンを拡大又は縮小してサイズ変更するとともに、テストパターンの背景領域がそのテストパターンに対応する輝度レベルとなるように背景領域の駆動レベルを設定する。 - 特許庁

The luminous layer is less in film thickness on the light pattern layer than at the circumference of the pattern layer, so the pattern layer is visible in a dark place by generating a difference in intensity of light emission by the difference in film thickness of the luminous layer and is hidden behind the luminous flux when no light is emitted the pattern layer is made invisible in a light place.例文帳に追加

明るい絵柄パターン層上に形成した蓄光層の膜厚が絵柄パターン層周囲の蓄光層の膜厚に比べて薄くすることで、暗い場所では蓄光層の膜厚の差により発光の強度に差を生じさせて絵柄パターン層を視認でき、かつ非発光時は蓄光層が絵柄パターン層を隠蔽するように形成することで、明るい場所では絵柄パターン層が視認できないようにできる。 - 特許庁

A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁

For printed matter on which the plurality of pattern type information parts with different reflection intensities respectively in a set infrared wavelength range is provided on an infrared reflecting substrate, the reflection intensity of the pattern type information part is read using infrared rays in the plurality of infrared wavelength ranges.例文帳に追加

赤外線反射性基材の上に、設定された赤外波長域でそれぞれ反射強度が異なるパターン状情報部を、複数設けてなる印刷物を、複数の赤外波長域の赤外線を用いて、該パターン状情報部の反射強度を読み取る。 - 特許庁

A sampling processing part generates an image group consisting of a plurality of intensity-modulated images by sampling the image data at a plurality of relative positions (k=0-3) in the same period as the periodic pattern of the G1 image with the different phases from the periodic pattern.例文帳に追加

サンプリング処理部は、画像データを、Ｇ１像の周期パターンと同一周期で、かつ周期パターンに対して位相の異なる複数の相対位置（ｋ＝０〜３）でサンプリングすることにより、強度変調がなされた複数の画像からなる画像群を生成する。 - 特許庁

Thus, when the additional light-distributing pattern PA2 is formed by moving the first shade to a shading position, the vertical cut-off line CV1 is formed at a position separated from a headlight front direction to the opposite lane side, and a shape of the additional light-distributing pattern PA2 is made at a shape including the maximum luminous intensity position.例文帳に追加

これにより、第１シェードを遮光位置に移動させて付加配光パターンＰＡ２を形成したとき、その鉛直カットオフラインＣＶ１を灯具正面方向から対向車線側に離れた位置に形成し、付加配光パターンＰＡ２の形状をその最大光度位置を含む形状とする。 - 特許庁

Here, detection sensitivity of each of the optical detectors is adjusted by interposing a filter 40 of which the transmittance varies corresponding to the number of the transmission parts of each mask pattern (the transmission bit number) and the bit pattern of the signal light is identified by comparing the respective detected light intensity values with each other.例文帳に追加

このとき各マスクパターンの透過部の個数（透過ビット数）に応じて透過率が異なるフィルター４０を介することにより各光検出器の検出感度を調整し、各々の光検出強度を比較して信号光のビットパターンを特定する。 - 特許庁

With this constitution, in low-beam irradiation, the region near the cutoff line of the low-beam light distribution pattern in the on-coming vehicle lane side is not illuminated unnecessarily brightly, while sufficiently securing the luminous intensity in the above-mentioned region in the hot zone in high-beam light distribution pattern.例文帳に追加

これにより、ロービーム照射時には、ロービーム配光パターンの対向車線側におけるカットオフライン近傍の領域が必要以上に明るくならないようにした上で、ハイビーム配光パターンのホットゾーンにおける上記領域の部分の光度を十分に確保する。 - 特許庁

To sufficiently enhance visibility in a road face of a vehicle in front in turning travel, in a vehicular headlight system provided with an auxiliary lamp unit for conducting beam emission using an auxiliary luminous intensity distribution pattern for intensifying lightness in a side end part of a headlamp light distribution pattern.例文帳に追加

ヘッドランプ配光パターンの側端部の明るさを補強する補助配光パターンでビーム照射を行う補助灯具ユニットを備えた車両用前照灯装置において、旋回走行時における車両前方路面の視認性を十分に高める。 - 特許庁

A Q value showing an intensity difference between right and left edges of a signal obtained from the photoelectric detection of a pattern image is approximated to a specified order function, related to the defocus quantity Z of a pattern on a focus position corresponding with Gaussian mirror surface of the image formation optical system.例文帳に追加

パターン像を光電検出して得られる信号の左右エッジの強度差を表すＱ値を、結像光学系のガウス像面に対応するフォーカス位置に対するパターンのデフォーカス量Ｚに関する所定次数の関数に近似する。 - 特許庁

An interval between the wiring conductor 85 and the wiring pattern 71 is widened so that an electric field intensity may be less than 1 MV/m between the wiring conductor 85 arranged in the mounting area of the driving IC and the wiring pattern 71 on a mounting face of the driving IC.例文帳に追加

そして、前記駆動用ＩＣ実装領域内に配置された配線導体８５と、前記駆動用ＩＣの実装面の配線パターン７１との間は、その電界強度が１Ｍ（メガ）Ｖ／ｍ以下となるように、配線導体８５と配線パターン７１との間隔を広げた。 - 特許庁

To solve the problem that the dependency on the critical dimension (CD) pitch of a lithographic pattern printing process is associated with the spectrum intensity distribution of radiation used for projecting a pattern and therefore changes from system to system, which is a cause of mismatching of iso-dense bias among systems.例文帳に追加

リソグラフィ・パターン印刷プロセスのＣＤピッチ依存性は、パターンを投影するために使用される放射のスペクトル強度分布に関連付けられるので、システム毎に変化するため、システム間における孤立−稠密バイアス不整合の原因になっている。 - 特許庁

To solve a problem wherein, since various kinds of paper are used for documents mounted on a document base depending on users, and light reflectivity of gloss paper or color paper is different from that of general paper, when a paper pattern is always registered and checked with the same light intensity, it leads to erroneous determination of the paper pattern.例文帳に追加

ユーザにより原稿台に置かれた原稿の紙種はさまざまであり、光沢紙やカラー用紙と普通紙とでは光の反射率が異なるので、常に同じ光量で紙紋の登録、照合を行うと、紙紋の誤判定につながる。 - 特許庁

In the exposure method for irradiating the pattern images of interference fringes on a sensitive substrate to perform exposure, the pattern images of the interference fringes are formed by using the intensity contrasts of the interference fringes generated when irradiating on an interference position from different angles three or more beams whose wavelengths are identical to each other.例文帳に追加

感応基板上に干渉縞パターン像を照射して露光を行う露光方法において、前記干渉縞パターン像を、同一の波長を有する３つ以上の光束を別の角度から干渉位置に照射した際に発生する干渉縞の明暗により形成することを特徴とする。 - 特許庁

This pattern recognition device is equipped with: an image acquisition means for acquiring a reflected light image as an intensity distribution of reflected light; and a recognition means for recognizing a predetermined pattern from the reflected light image based on the reflected light image acquired by the image acquisition means and reflectivity of an imaging object.例文帳に追加

反射光の強度分布としての反射光画像を取得する画像取得手段と、この画像取得手段で取得された反射光画像と被写体の反射率とに基づき該反射光画像から予め定められたパターンを認識する認識手段とを具備する。 - 特許庁

This method comprises a step of performing a first exposure for partly forming the image of a pattern and a step of performing a second exposure for partly forming an image of the pattern, and at least either the first or the second exposure is performed, using an illumination mode substantially having a bipolar intensity distribution.例文帳に追加

パターンを部分的に結像するために、第１感光を行う段階と、パターンを部分的に結像するために、第２感光を行う段階とを含み、しかも、上記第１と第２の感光のうちの少なくとも一方を、実質的に双極強度分布を有する照明モードを使用することで行う。 - 特許庁

In this case, the depth Lr and the position of each of the recesses 4 and 4 are decided so that the near field pattern of the laser beam has the same distribution as the light intensity distribution and the phase distribution obtained by inverse Fourier transformation of the far field pattern of the predetermined single lobe.例文帳に追加

この凹面４，４の深さＬｒおよび位置は、レーザ光の近視野像が、予め定めた単一ローブの遠視野像を逆フーリエ変換して求めた光強度分布および位相分布と同じ分布をなすように決められている。 - 特許庁

The projector device 1 projects a test pattern as a specified image on a screen 3, images the test pattern projected on the screen 3 by a camera 12, and measures image signal intensity representing the lightness of the picked-up image by a control part 11.例文帳に追加

プロジェクタ装置１は、所定画像であるテストパターンをスクリーン３へ投射し、スクリーン３上に投射されたテストパターンをカメラ１２で撮像し、撮像画像の明るさを示す画像信号強度を制御部１１で計測する。 - 特許庁

Subsequently, the difference between the address of peak value of the first intensity waveform 75A and the minimum address jmin is multiplied by the scanning movement of an exposure pattern image 66 per address to determine the distances of the exposed images 673 and 671 in the direction of X-axis thus measuring the dimensions of the exposure pattern image 66.例文帳に追加

続いて、この第１強度波形７５Ａのピーク値のアドレスと該最小値アドレスｊｍｉｎとの差に、１アドレス当たりの露光パターン像６６の走査移動量を乗算して、露光像６７3と露光像６７1とのＸ軸方向の距離寸法を算出して、露光パターン像６６の寸法を測定する。 - 特許庁

To check a pattern not existing in an original image from appearing in an RGB image formed from Bayer pattern image data in an image forming apparatus suitably usable for digital still cameras, etc., without needing a number of operation processes, even if the original image includes a rapid color change or intensity change.例文帳に追加

デジタルスチルカメラ等に使用して好適な画像生成装置に関し、本来の画像が急激な色変化又は明度変化を含む場合においても、多大な演算処理を要せず、本来の画像には存在しないパタンがベイヤパタン画像データから生成されたＲＧＢ画像に現われないようにする。 - 特許庁

The dot patterns 8 are formed on the emulsion layer side of the material 2 and a recessed part corresponding to the intensity of the laser beam 7 is formed immediately under each dot pattern 8.例文帳に追加

ドットパターン８は感光材料２の乳剤層側に形成されるが、その直下のフイルムベースにはレーザービーム７の強度に応じた凹部が形成される。 - 特許庁

A microlens array or a diffraction optical element inputs light from a light source, and outputs an intensity pattern having a flat top with a divergent light stripe.例文帳に追加

マイクロレンズアレイ又は回折光学素子が光源からの光を入力すると共に、発散光ストライプで頂部が平坦な強度パターンを出力する。 - 特許庁

To provide an observation technology by a phase retrieval type electron microscope, making the intensity distribution of a parallel electron beam with a microscopic diameter in measuring a real image and an electron diffraction pattern bright and uniform.例文帳に追加

実像と電子回折像を測定する際の微小径かつ平行な電子線を、明るくかつ均一な強度分布にする位相回復方式の電子顕微鏡による観察技術を提供する。 - 特許庁

To provide a headlamp for a vehicle capable of increasing light intensity emitted ahead from a projection lens, and selectively increasing an illuminance of a specific portion in a distribution light pattern.例文帳に追加

投影レンズから前方に出射する光量を増大させるとともに、配光パターンにおける特定部位の照度を選択的に高めることが可能な車両用前照灯を提供する。 - 特許庁

Accuracy of patterning using an electron beam aligner is enhanced by replacing the unevenness in exposure intensity uncontrollable for a pattern to be obtained by controllable double exposure.例文帳に追加

得るべきパターン形状に対して制御不可能な露光強度むらを、制御可能な２重露光に置き換えることで、電子線露光装置を用いたパターン作製精度が向上する。 - 特許庁

Two hologram images are acquired based on the photo-electron intensity distribution pattern, and a difference hologram image is acquired by taking the difference between the hologram images, and Fourier transform of the difference hologram image is executed to acquire the atomic image.例文帳に追加

この光電子強度分布パターンに基づいて２つのホログラム像を取得し、これらのホログラム像の差をとって差分ホログラム像を取得し、この差分ホログラム像をフーリエ変換して原子像を取得する。 - 特許庁

A constitutive unit 341 constituting the pattern of the heat accumulation part may be formed to make an area or a volume thereof inverse-proportional to the intensity distribution of the laser beam.例文帳に追加

前記蓄熱部のパターンを構成する構成単位３４１は、その面積又は体積と前記レーザー光の強度分布とが反比例するように形成することができる。 - 特許庁

The aluminum oxide carrier has a diffraction pattern obtained by X-ray diffractometry having a specific spacing d between lattice planes and a peak corresponding to a relative intensity I/I_0 in a calcined state.例文帳に追加

この触媒は、該アルミニウム酸化物支持体が、焼成状態において、特定の格子面間隔ｄ、及び相対強度Ｉ／Ｉ_０に対応するピークを含む、Ｘ線回折により得られた回折図を有する。 - 特許庁

PHOTOMASK FOR NEAR FIELD LIGHT EXPOSURE, METHOD FOR CONTROLLING INTENSITY DISTRIBUTION OF NEAR FIELD LIGHT USING THE PHOTOMASK, AND METHOD AND DEVICE FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

近接場光露光用フォトマスク、該フォトマスクを用いた近接場光強度分布の制御方法、パターン作製方法およびパターン作製装置 - 特許庁

A substrate 1 on a placement table 12 is irradiated with an ion beam from an ion source 13, at a position of a functional layer FL corresponding to the desired pattern shape with a prescribed intensity for a prescribed irradiation time.例文帳に追加

イオン源１３からイオンビームを載置台１２上の基板１に向けて、機能層ＦＬの所望のパターン形状に対応する位置に所定の強度および照射時間で照射する。 - 特許庁

The crystallization equipment comprises an optical system (2) for illuminating a phase shifter (1) of a one dimensional pattern and forms a crystallization semiconductor film by irradiating a semiconductor film (4) with light having specified light intensity distribution through the phase shifter.例文帳に追加

一次元パターンの位相シフター（１）を照明する照明光学系（２）を備え、位相シフターを介して所定の光強度分布を有する光を半導体膜（４）照射して結晶化半導体膜を生成する結晶化装置。 - 特許庁

The correlation with deformation of the pattern of the phase shift mask due to the difference in light intensity between a shifter part and a non-shifter part of the phase shift mask by waveguide effect is stored in a rule base.例文帳に追加

導波路効果による位相シフトマスクのシフタ部と非シフタ部との間の光強度の違いに起因する位相シフトマスクのパターンの変形との相関関係をルールベース化する。 - 特許庁

To make waveform deterioration due to a pattern effect not occur by converting an intensity modulating code to a Manchester code and inputting it to an optical limiter amplifier.例文帳に追加

強度変調符号をマンチェスタ符号に変換して、光リミッタアンプに入力することにより、パターン効果による波形劣化を生じないようにする。 - 特許庁

At the intersection of these collimated light beams A3 and A4, an interference fringe having a Gaussian intensity distribution is generated on a work 9 placed on a stage 10 to expose a periodic pattern.例文帳に追加

これらのコリメート光Ａ３，Ａ４の交差部に、ステージ１０上のワーク９上に周期パターンを露光するための光強度分布がガウシアン分布を示す干渉縞が発生される。 - 特許庁

The image of the contact surface is recorded by the image sensor having many more image elements (pixels) than those required for a desired resolution in the final image 71 of the output-side intensity pattern.例文帳に追加

出力側の強度パターンの最終画像（７１）内で望まれる解像度のために必要であるよりも遥かに多くの画像要素（画素）を有する画像センサにより、接触面の結像を記録する。 - 特許庁

To provide a device and a method for data conversion which converts image data to data for luminous intensity simulation by fetching an optically observed image of a photomask pattern into a computer and performing image processing.例文帳に追加

フォトマスクパターンの光学的観察像をコンピュータに取り込み、画像処理を施すことによって、光強度シミュレーションのためのデータに変換する、データ変換装置及びデータ変換方法を提供すること。 - 特許庁

This ensures that the loop antenna 14a and the bar antenna 14b are slightly magnetic-field-coupled and that an electric field intensity pattern of the radiation antenna 14 is approximately nondirectional.例文帳に追加

これにより、ループアンテナ１４ａとバーアンテナ１４ｂとが若干磁界結合するようになり、輻射アンテナ１４の電界強度パターンはほぼ無指向性となる。 - 特許庁

Thus, the light source device having the radiation intensity distribution suitable for the radiation pattern mask of IrDA1.1 at the minimum optical output can be obtained.例文帳に追加

こうすることによって、最小の光出力で、ＩrＤＡ１.１の放射パターンマスクに適合した放射強度分布を有する光源装置を得ることができる。 - 特許庁