「pattern intensity」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

A rainfall data computing part 21 in an operating value computing device 19 computes rainfall intensity data Rt and no-rainfall-time data Tt on the basis of detection by a radar rain gage 26 and a ground rain gage 27 and outputs the data Rt and Tt and season data St to a similar rainfall pattern retrieval part 22.例文帳に追加

運転操作量演算装置１９内の降雨データ演算部２１は、レーダ雨量計２６及び地上雨量計２７の検出に基づいて降雨強度データＲt及び無降雨時間データＴtを演算し、季節データＳtと共にこれらを類似降雨パターン検索部２２に出力する。 - 特許庁

In the measuring stage, the polarized light is linearly polarized light for instance, and the polarization state can be measured by the intensity of a polarized light vertical component which is a polarization component orthogonal to the polarization plane of the linearly polarized light in the light emitted from the evaluation pattern layer.例文帳に追加

上記測定段階において、偏光は例えば直線偏光であり、偏光状態は、評価パターン層から出射した光における、直線偏光の偏光面と直交する偏光成分である偏光垂直成分の強度により測定してもよい。 - 特許庁

To provide a method and a device for inspecting patterns and a mask manufacturing device using thereof correcting effects to pattern inspection caused by polarization of intensity distribution due to beam shape, size, and optical axis deviation of an illumination light source illuminating a body to be inspected for obtaining a constantly stable inspection result.例文帳に追加

被検査体を照明する照明光源のビーム形状、サイズ、光軸ずれによる強度分布の偏りから生ずる、パターン検査への影響を補正して、常に安定した検査結果が得られるパターン検査方法とその装置およびそれを用いたマスク製造装置を提供すること。 - 特許庁

A signal processor 12 normalizes a strength distribution of measured three-kinds of image signals, calculates a change polarity and a change amount of light intensity signals of different polarized lights of a flaw to a normal part, compares the calculated change polarity and change amount respectively with a preliminarily set pattern, thereby discriminating types of flaws.例文帳に追加

信号処理部１２は測定した３種類の画像信号の強度分布を正規化し、正常部に対する疵部の異なる偏光の光強度信号の変化極性と変化量とを算出し、算出した変化極性と変化量とをそれぞれあらかじめ定めたパタ−ンと比較して疵種を判定する。 - 特許庁

The another vehicle detection apparatus for detecting another vehicle using a reflected wave of an irradiation wave irradiated by an own vehicle comprises an another vehicle decision means (Step S3 to Step S5) for deciding the presence or absence of another vehicle from an intensity pattern of the reflected wave.例文帳に追加

自車両から照射した照射波の反射波を用いて他車両の検出を行う他車両検出装置において、反射波が持つ強度のパターンから他車両の有無を判定する他車両判定手段を備えた（ステップＳ３〜ステップＳ５）。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive composition for a color liquid crystal display capable of keeping effective intensity of radiation on a sufficient level in the whole region of a coating film from the top to the bottom and capable of forming a pattern having high hardness in the whole region and an excellent shape.例文帳に追加

塗膜の上部から底部までの全領域において放射線の有効強度を十分なレベルに保つことができて、形成されたパターンが該全領域において高い硬度を有し、優れた形状のパターンを形成しうるカラー液晶表示装置用感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

The light beams with higher light intensity, among the beams emitted from the light emitting diode 12 are allowed to pass through the lens portion 13A so that they may be irradiated toward an irradiated surface with a larger diffusion angle, and consequently almost rectangular photometric pattern is formed on the irradiated surface.例文帳に追加

発光ダイオード１２から発した光のうち、光強度の強い光がレンズ部１３Ａを透過することで大きな拡散角度をもって被照射面に向けて照射されるようにし、被照射面上にほぼ矩形状の配光パターンを形成する。 - 特許庁

By the residual electric charge measuring method, AC voltage electrification based upon a specific electrification pattern is repeated in steps and the degree of the water tree deterioration is diagnosed by using as an index the ratio of the maximum AC electrification electric field intensity when the residual electric charges are measured and the insulator thickness of the tested cable.例文帳に追加

残留電荷測定法において、所定の課電パターンからなる交流電圧課電をステップ状に複数回行い、残留電荷が測定される最高交流課電電界強度と供試ケーブルの絶縁体厚さとの比を指標として水トリー劣化の程度を診断する。 - 特許庁

To improve, when a pattern is drawn on a substrate by scanning the substrate with plural light beams from plural light beam irradiation devices, the drawing quality by correcting variation in intensity distribution of diffraction light of the light beams due to variation in operation angle of a mirror of a spatial optical modulator.例文帳に追加

複数の光ビーム照射装置からの複数の光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、空間的光変調器のミラーの動作角度のばらつきによる光ビームの回折光の強度分布のばらつきを補正して、描画品質を向上させる。 - 特許庁

A Levenson phase shift mask 4 is subjected to projection exposure and the intensity distribution of the light which transmitted through the Levenson phase shift mask 4 is detected by a CCD camera 6, to obtain the relation between the defocus quantity on the CCD camera 6 and the dimension of the optical pattern.例文帳に追加

レベンソン位相シフトマスク４を投影露光し、このレベンソン位相シフトマスク４を透過した光の強度分布をＣＣＤカメラ６により検出し、ＣＣＤカメラ６上のデフォーカス量と、光学的パターン寸法との関係を求める。 - 特許庁

The super resolution optical recording medium has at least a recording layer and a super resolution layer on a substrate, and a recording mark being super resolution limit or below and a space are formed by adjusting the intensity or light emitting pattern of laser beams used for recording so that a recording mark 26 is a recessed part with respect to a unrecorded part 29.例文帳に追加

超解像光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層と超解像層とを有してなり、記録マーク２６が未記録部２９に対して凹部となるように、記録に供するレーザの強度または発光パターンを調整して、解像限界以下の記録マーク及びスペースを形成する。 - 特許庁

To reduce luminous intensity of light irradiated on the optical axis 1' of a light-emitting element source 1 from the light-emitting surface 2b of a light guide lens 2, and to clarify the contour of the fringe part P1 of a light distribution pattern P formed by light irradiated from the light-emitting surface 2b of the light guide lens 2.例文帳に追加

導光レンズ2の出射面2bから発光素子光源1の光軸1'上に照射される光の光度を低くすると共に、導光レンズ2の出射面2bから照射される光によって形成される配光パターンPの縁部P1の輪郭を明瞭にする。 - 特許庁

To provide a traffic control system in which a control center side can instantly grasp an abnormal position and a traffic light side can immediately operate with an emergency pattern when the earthquake having abnormal seismic intensity occurs and which is inexpensive and is easily introduced and to provide communication equipment used in the traffic control system.例文帳に追加

震度異常発生時に、管制センタ側では瞬時に異常地点が把握でき、信号機側では直ちに異常時パターンで動作させることができ、かつ、低コストで導入も容易である交通管制システム及びこれに用いられる通信装置を提供する。 - 特許庁

By adjusting the imaging position to match with the read in image plane 16, the scattered light from the light scattering pattern 13 can be made to enter the reading image plane 16 without loss, and the distribution of spatial intensity of light in the subscanning direction can be made uniform.例文帳に追加

そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁

Thereby, when the light source 22a moves to the front movement position, the reflected light from the additional reflection face 24a1 is converged at the rear focus F and the central luminous intensity of the low-beam light distribution pattern is increased and, thereby distant visibility becomes superior.例文帳に追加

これにより、光源２２ａが前方移動位置へ移動したとき、付加反射面２４ａ１からの反射光を後側焦点Ｆに収束させて、ロービーム用配光パターンの中心光度を高め、これを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁

This grating scale measurement system is composed of a telephoto lens (250) which is arranged so as to form an image of a grating (120), and is composed of a plurality of aspheric lenses (252, 254), and detectors (180) arranged so as to measure the movement of the intensity distribution pattern (175) in the image plane of the telephoto lens.例文帳に追加

本願発明の格子スケール計測システムは、格子（120）の像を形成するように配置され、複数の非球面レンズ（252、254）からなる望遠レンズ（250）と、望遠レンズの像平面における強度分布（175）の移動を計測するように配置されている検出器（180）からなることを特徴とする。 - 特許庁

Then, after the cable conductor is grounded, a prescribed voltage application pattern is applied in a plurality of times in the order from a low voltage side to a high voltage side as AC voltage application by a transformer 2 for a test, and the highest AC application voltage or field intensity by which the residual charge is measured and a residual charge total amount Q_E* are determined.例文帳に追加

ついで、ケーブル導体を接地した後に、試験用変圧器２により交流電圧課電として所定の課電パターンを低電圧側から高電圧側の順に複数回行い、残留電荷が測定される最高交流課電電圧あるいは電界強度と残留電荷総量Ｑ_E ^* を求める。 - 特許庁

Since each light transmitting/blocking part 4 has a different light transmitting/blocking pattern in a direction perpendicular to a direction A of movement, it is possible to specify a light transmitting/blocking part 4 positioned over the light receiving region 100 on the basis of optical intensity profile data V_Y(m).例文帳に追加

ここで、各光透過／遮断部４は、移動方向Ａに垂直な方向において光の透過／遮断パターンが異なるため、光強度プロファイルデータＶ_Ｙ(ｍ)に基づき、受光領域１００上に位置する光透過／遮断部４を特定することができる。 - 特許庁

Further, the distance between a concave surface 45a of the column body 45 and each photoreflector 46 varies as the column body 45 moves in a percussion direction, and the light emission intensity of the column body 45 varies, which is viewed as a percussion pattern in meshes of the head 12 through the tube body 41.例文帳に追加

また、柱体４５が、打撃方向に移動するのに応じて、柱体４５の凹面４５ａとフォトリフレクタ４６との距離が変化し、柱体４５の発光強度が変化し、それが、打撃態様として、チューブ体４１を介して、ヘッド１２の網目から視認される。 - 特許庁

To provide an illuminating optical device which can provide illumination conditions which are highly diverse regarding proper illumination conditions such as a secondary light source shape, light intensity and polarization state required for transferring a mask pattern with various characteristics truly when mounted on an aligner.例文帳に追加

露光装置に搭載された場合に、様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の形状や光強度や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現することのできる照明光学装置。 - 特許庁

By using an element which can respectively set light intensity distribution emitted in the direction of giving parallax as a minimum unit constituting a pixel, pixels are arrayed nearly in the state of stripe or nearly in the state of matrix to form a three-dimensional pattern consisting of a (first) segment group.例文帳に追加

画素を構成する最小単位として、視差を持たせる方向に射出する光強度分布を個別に設定することが可能な素子を用い、略ストライプ状または略マトリクス状に画素を配列して（第１の）セグメント群からなる３次元パターンを形成する。 - 特許庁

In a pattern 164 of antenna coils closely arranged on the side of the center part 01, the intensity of the magnetic field is strong as shown by a section D2 (figure (c)) because the magnetic field in a certain direction is generated in the center part 01, and the card 2 is electromagnetically coupled to the card reader only in this section D2.例文帳に追加

これに対し中心部Ｏ１側に密に配置されたアンテナコイルのパターン１６４では、中心部Ｏ１に一定方向の磁界を発生するため、区間Ｄ２（図３（ｃ））のように強磁界となり、この区間Ｄ２のみでカード２はカードリーダ１と電磁結合する。 - 特許庁

Various elements (44) of light scattering or optical absorption performance are installed on the surface (42), thereby, the intensity of light which reflects to a region (214) upper than the light-shade boundary line (206) of the light distribution pattern (202) is made smaller than the case wherein the light scattering or optical absorption elements (44) are not installed.例文帳に追加

表面（４２）に、光散乱性または光吸収性の諸要素（４４）を設け、これによって、配光パターン（２０２）の明暗境界線（２０６）より上の領域（２１４）へ反射する光の強度を、光散乱性または光吸収性諸要素（４４）が設けられなかった場合よりも小さくする。 - 特許庁

To enhance the contrast of a light intensity distribution by exposure light transmitting a main pattern, even in an arbitrary layout where main patterns, comprising light transmitting parts provided in a light shielding part of a photomask are close to each other, at a distance shorter than the exposure light wavelength.例文帳に追加

フォトマスクの遮光部中に設けられた透光部よりなる主パターン同士が露光波長以下の間隔で近接する任意のレイアウトにおいても主パターンを透過した露光光による光強度分布のコントラストを強調できるようにする。 - 特許庁

The lower reflecting region R2 has a level difference at the boundary part with the upper reflecting region R1, and an intermediate pattern Pc by the refection light at the lower reflecting region R2 is formed so as to be overlapped partially on a high luminous intensity side.例文帳に追加

下部反射領域Ｒ２は、上部反射領域Ｒ１との境界部に段差を有しているとともに、当該下部反射領域Ｒ２での反射光による中間パターンＰｃが高光度側で部分的に折り重なるように形成されている。 - 特許庁

A dispersion liquid composed of oxide particles, and a dispersion medium comprising water as a principal constituent is treated by heating under a hydrothermal condition to obtain oxide particles having maximum peak intensity of not less than 1.2 times by the heat treatment when the diffraction pattern of the oxide particles is measured with an X-ray diffractometer.例文帳に追加

酸化物粒子と主成分が水である分散媒とからなる分散液に、水熱条件下で加熱処理を施し、Ｘ線回折装置で酸化物粒子の回折パターンを測定したときに、最強ピークの強度が、加熱処理により１．２倍以上大きい酸化物粒子を得る。 - 特許庁

In a pattern drawing apparatus, the alignment mark on an object side of a substrate which is a drawing object is imaged on an image pick-up portion 15 via the optical system for drawing by the observation light with a wavelength different from that of the drawing light, and the alignment mark is memorized in a memory 31 as a mark image intensity distribution 311.例文帳に追加

パターン描画装置では、描画対象である基板の対象面上のアライメントマークが描画光の波長とは異なる波長の観察光により描画用の光学系を介して撮像部１５にて撮像され、マーク像強度分布３１１として記憶部３１に記憶される。 - 特許庁

The method of crystallization includes: providing a cap film on a laser beam incident surface of a non-single crystal semiconductor film; and irradiating the non-single crystal semiconductor film with a laser light of a light intensity distribution having an upside-down triangularly-profiled peak pattern formed of an alternate repetition of monotonous increase and monotonous decrease.例文帳に追加

非単結晶半導体膜のレーザ光入射面上にキャップ膜を設け、単調増加と単調減少を繰り返す断面逆三角形状ピークパターンを有する光強度分布のレーザ光を非単結晶半導体膜に照射する。 - 特許庁

If a setting is performed so that an image-formation position is conformed to a reading image surface 16, a scattered light from the light scattering pattern 13 is input to the reading image surface 16 without futility and a spatial light intensity distribution in sub scanning direction can be made uniform.例文帳に追加

そこで、この結像位置と読み込み画像面１６とが一致するように設定しておけば、光散乱パターン１３からの散乱光が無駄なく読み込み画像面１６に入射することになり、副走査方向における空間光強度分布の均一化も図れる。 - 特許庁

To provide an illumination optical device which can achieve appropriate lighting conditions required for transferring a mask pattern having various characteristics faithfully, e.g. diverse lighting conditions for the light intensity distribution or the polarization state of a secondary light source.例文帳に追加

様々な特性を有するマスクパターンを忠実に転写するために必要な適切な照明条件、たとえば二次光源の光強度分布や偏光状態などに関して多様性に富んだ照明条件を実現できる照明光学装置を提供する。 - 特許庁

An angle θ between the optical axis (z axis) of the object to be measured and the advancing direction of light (the extending direction of a straight line OP) and a far field pattern which is the distribution of light intensity P (θ, Ψ) of the measuring point P with respect to a rotation angle Ψ around the optical axis are obtained.例文帳に追加

測定結果より、被測定物の光軸（ｚ軸）と光の進行方向（直線ＯＰの延在方向）とのなす角度θ、および測定位置Ｐの光軸のまわりの回転角ψに対する光強度Ｐ（θ，ψ）の分布すなわちファーフィールドパターンが求められる。 - 特許庁

As for the CuKα-ray diffraction pattern of a negative electrode material, the peak intensity ratio of a peak A corresponding to a tin element existing in a region of 31.5-32.5 degree, to a peak B corresponding to Cu_6Sn_5 existing in a region of 29.5-30.5 degree (A/B) is 0.2 or less.例文帳に追加

ＣｕＫα線によるＸ線回折パターンにおいて、３１．５〜３２．５度の領域内に表れる錫単体に対応するピークＡと、２９．５〜３０．５度の領域内に表れるＣｕ_６Ｓｎ_５に対応するピークＢとのピーク強度比（Ａ／Ｂ）が０．２以下であることを特徴としている。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle installed with an auxiliary pattern with a function of light intensity reduction, which consists of diffraction grating pattern or semi-translucent film, a barrier rib having portions with different heights is formed on pixel electrodes (also called first electrodes) in a display region and around a pixel electrode layer.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a barrier rib having portions with different film thicknesses is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of steps.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

A manufacturing method of a gray scale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate 430 by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate 430 with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

The disk 81 has a recording layer given heat processing for lowering the intensity of magnetization occurring in magneto-optical recording to the degree of not disappearing by a prescribed pattern on a substrate and has a prescribed signal magneto- optically recorded in an area in which the identification signal is recorded by the difference of a performance index corresponding to the prescribed pattern.例文帳に追加

光磁気ディスク８１は、光磁気記録時に生じる磁化の大きさを消失しない程度に低下させる熱処理が所定のパターンで施された記録層を基板上に有し、前記所定のパターンに対応する性能指数の違いによって識別信号が記録された領域に所定の信号が光磁気記録されている。 - 特許庁

In the method for checking, by combining line illuminating means 11 to 14 from four directions in the photographing range 5 in the work 1 and illuminating the work 1 so that the intensity of the light input to the one-dimensional CCD 3 of the light diffused in the pattern to be checked on the work 1 becomes uniform, the proper image of the stereoscopic pattern to be checked is made obtainable.例文帳に追加

ワーク１上の撮像範囲５に対して４方向からのライン照明手段１１〜１４を組み合わせて照明することによりワーク１上の検査対象パターンで拡散した光が１次元ＣＣＤ３に入力する光の強度が均一になるようにし、立体的な検査対象パターンの適正な画像が得られるようにした。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle provided with an auxiliary pattern made of a diffraction grating pattern or a semi-permeable membrane and having a function of light intensity reduction, a partition wall having portions with different film thickness is formed on a pixel electrode (also called first electrode) in a display region and around a pixel electrode layer without any increase of processes.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

The photomask is used to manufacture a fine hemispherical structure, such as a microlens, where a gradation pattern 1A, gradually varying in intensity of exposure light from the center part to the peripheral part according to the spherical shape of the hemispherical structure, is formed on a transparent substrate 10 by pattern drawing by means of a drawing device.例文帳に追加

マイクロレンズ等の微小な半球状構造体の製造に用いられるフォトマスクにおいて、透明基板１０上に、前記半球状構造体の球面形状に対応させて、露光した光の強度が中心部から周辺部に向けて徐々に変化するような階調パターン１Ａを、描画装置によるパターン描画によって形成する。 - 特許庁

A light receptor unit 20 receives the light and produces a binary signal in accordance with the intensity of the light and, when the bit pattern sequence included in the binary signal is coping with either one of the two bit pattern sequences, the light receptor unit 20 generates a logical signal 1 or a logical signal 0 to effect the reproduction of the information included in the light.例文帳に追加

受光ユニット２０は、前記光を受光してその光の強度に応じた二値化信号を生成し、該二値化信号に含まれるビットパターン系列が、前記二つのビットパターン系列のいずれか一方に対応するときに、論理信号１または論理信号０を発生して、前記光に含まれる情報の再生を行う。 - 特許庁

The second aperture 2a and the first aperture 5a are separately adjusted based on the line width data and the line width density difference data of the pattern transferred by the aligner onto a wafer 6, and this changes the optical intensity of the image plane on the wafer 6 for the adjustment of the density of the resist pattern to be transferred onto the wafer 6.例文帳に追加

この露光装置によってウェハ６上へ転写したパターンの線幅データおよび線幅疎密差データに基づいて、第２の開口２ａおよび第１の開口５ａをそれぞれ調整することにより、ウェハ６上の結像面での光強度を変化させ、ウェハ６上に転写されるレジストパターンの疎密性を調整する。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle formed with an auxiliary pattern having a light intensity reduction function formed of a diffraction grating pattern or a translucent film, the width of a region with a small thickness of a gate electrode can be freely set, and the widths of two LDD regions capable of being formed in a self-aligned manner with the gate electrode as a mask can be different in accordance with the each circuit.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることによって、ゲート電極の膜厚の薄い領域の幅を自由に設定でき、そのゲート電極をマスクとして自己整合的に形成できる２つのＬＤＤ領域の幅を個々の回路に応じて異ならせることができる。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask which need not form a superfine pattern, suppresses a sub peak of light intensity exerting adverse influence on image formation at the time of exposure and has a light shielding pattern of lowered transmissivity in an outside region of an element region where multiple exposure is applied and to provide a manufacturing method of the halftone phase shift mask.例文帳に追加

超微細なパターンの形成を必要とせず、露光時の像形成に悪影響を及ぼす光強度のサブピークを抑え、かつ、素子領域の外側の多重露光される領域での透過率を下げた遮光パターンを有するハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

A manufacturing method of a grayscale mask having a variable density pattern corresponding to change of optical transmissivity has a step of forming a dry plate by applying a photoemulsion onto a transparent substrate and a step of irradiating the dry plate with laser beams which are subjected to a plurality of gradations of intensity modulation corresponding to the variable density pattern.例文帳に追加

本発明に係るグレイスケールマスクの製造方法は、光透過率の変化に対応した濃淡模様を有するグレイスケールマスクの製造方法であって、透明基板上にフォトエマルジョンを塗布して乾板を形成するステップと、濃淡模様に対応して複数階調の強度変調を行ったレーザー光を乾板に照射するステップと、を備える。 - 特許庁

To provide a fluorescent pattern detector, with which only the fluorescent pattern of a specic fluorescent material in a plurality of kinds of fluorescent materials having different light emitting wavelength bands can be selectively detected and lowering of a detecting signal level caused by lowering in the light emitting intensity of a light source can be corrected in simple configuration.例文帳に追加

この発明は、簡単な構成により、発光波長帯域の異なる複数種類の蛍光物質のうち特定の蛍光物質の蛍光パターンだけを選択的に検出でき、光源の発光強度の低下に起因した検出信号レベルの低下を補正できる蛍光パターン検出装置を提供することを課題とする。 - 特許庁