plasma chemical reactionとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR ACCELERATING CHEMICAL REACTION IN DISCHARGE PLASMA例文帳に追加

放電プラズマ中での化学反応の促進方法 - 特許庁

The preliminary reaction plasma processing chamber is constituted so as to generate reaction radicals, by subjecting to chemical reaction based on the plasma of a reaction substance.例文帳に追加

予備反応プラズマ処理チャンバは、反応物質のプラズマに基づく化学反応を行って反応基を生成するように構成されている。 - 特許庁

The chemical reaction (decomposition reaction and/or synthetic reaction) of a chemical substance fluid is accelerated by plasma treatement applying a pulse voltage of 100 V-50 kV to perform high frequency plasma discharge with a frequency of 1 KPPS (1 kHz)-500 KPPS (500 kHz).例文帳に追加

100Ｖ〜50ｋＶのパルス電圧を印加して、周波数１ｋＰＰＳ(１ｋＨｚ)〜５００ｋＰＰＳ(５００ｋＨｚ)での高周波プラズマ放電を行わせるプラズマ化処理によって、化学物質流体の化学反応(分解または／および合成反応）を促進させる。 - 特許庁

To improve reaction acitivity in the presence of a catalyst in a plasma catalytic reactor (20) in which a chemical reaction is accelerated by combining a low temperature plasma with the catalyst.例文帳に追加

低温プラズマと触媒とを組み合わせて化学反応を促進するプラズマ触媒反応器(20)において、触媒の存在下での反応活性をより高めるようにする。 - 特許庁

A rotating electrode 18 is confronted with a substrate, and, while plasma is generated on the space therebetween, this plasma is fed with reaction gas to cause chemical reaction, by which a thin film is formed on the substrate.例文帳に追加

回転する電極１８を基板１４に対向させて両者間にプラズマを発生させながら、このプラズマに反応ガスを供給して化学反応を起こさせることにより基板１４上に薄膜を形成する薄膜形成装置。 - 特許庁

As to a thin film forming device, a rotating electrode 18 is confronted with a substrate, and, while plasma is generated between both, this plasma is fed with reaction gas to cause chemical reaction, by which a thin film is formed on the substrate.例文帳に追加

回転する電極１８を基板１４に対向させて両者間にプラズマを発生させながら、このプラズマに反応ガスを供給して化学反応を起こさせることにより基板１４上に薄膜２３を形成する薄膜形成装置。 - 特許庁

The surface stain of the tire mold held to a preheated temperature is subjected to plasma cleaning by the chemical reaction of the plasma discharged in a chamber with a reaction gas.例文帳に追加

予め、予熱して保温したタイヤ成形用金型をチャンバー内において放電されたプラズマと反応ガスとの化学反応により、表面の汚れをプラズマクリーニングする。 - 特許庁