plasma contaminationとは 意味・読み方・使い方

To provide a method and device for plasma treatment by which the amount of contamination transferred from a pedestal to a wafer can be reduced by reducing backside contamination.例文帳に追加

裏面異物を低減し、ウェハに対する載置台からの異物転写の少ない、プラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma measuring device capable of measuring a plasma density, an electron temperature, and a plasma parameter of plasma potential with high accuracy even when the contamination caused by plasma is deposited thereon.例文帳に追加

プラズマにより生じる汚れが付着しても精度良くプラズマ密度、電子温度及びプラズマポテンシャルのプラズマパラメータを測定できるようにする。 - 特許庁

To reduce the level of metal contamination of an oxide film formed on a silicon substrate by plasma oxidation.例文帳に追加

プラズマ酸化によりシリコン基板上に形成される酸化膜の金属汚染量を低減すること。 - 特許庁

To provide an equipment for plasma treatment, with which nitriding can be carried out with reduced contamination.例文帳に追加

汚染を低減して窒化処理を行うことのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent deterioration of the characteristics of a device by reducing the metal contamination of a semiconductor substrate after a plasma treatment.例文帳に追加

半導体基板のプラズマ処理後の金属汚染を低減し、デバイス特性の劣化を防ぐ。 - 特許庁

To measure plasma characteristics precisely by providing a reference electrode resistant to metal contamination in a chamber.例文帳に追加

チャンバ内に金属汚染されにくい基準電極を設置し、精密にプラズマ特性を計測すること。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving processing efficiency by reducing contamination of a sample.例文帳に追加

試料の汚染を低減して処理の効率を向上することのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generator capable of high-speed wafer processing with no contamination.例文帳に追加

無汚染で高速度のウエハ処理ができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁