plasma contaminationとは 意味・読み方・使い方

To detect an end point of plasma cleaning regardless of the degree of contamination.例文帳に追加

汚染度に拘わらず適切なプラズマクリーニング終点を検出すること。 - 特許庁

To prevent heavy metal contamination, inside a plasma processing chamber by to cleaning.例文帳に追加

クリーニングによるプラズマ処理室内での重金属汚染を防止する。 - 特許庁

To provide a plasma generator capable of high-speed wafer processing with no contamination.例文帳に追加

無汚染で高速度のウエハ処理ができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generator which can perform high speed wafer processing without contamination.例文帳に追加

無汚染で高速度のウエハ処理ができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma producing apparatus capable of high-speed wafer processing with no contamination.例文帳に追加

無汚染で高速度のウエハ処理ができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma-producing apparatus capable of processing a wafer at a high speed without contamination.例文帳に追加

無汚染で高速度のウエハ処理ができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reaction vessel and a plasma processing apparatus free from elemental impurity contamination on a sample and damages by the plasma.例文帳に追加

元素不純物で試料が汚染されず、且つプラズマによる損傷が少ない反応容器及びプラズマ処理装置。 - 特許庁

To provide plasma CVD device and method equipped with on-site plasma cleaning, which removes impurity contamination and improves productivity.例文帳に追加

不純物汚染を無くし、生産性を向上させる現場プラズマクリーニングを備えたプラズマCVD装置及び方法を与える。 - 特許庁