plasma etchとは 意味・読み方・使い方

Preferred underlying coating compositions can exhibit enhanced etch rates in plasma etchants.例文帳に追加

好ましい下層被覆組成物は、プラズマエッチ中で高められたエッチ速度を示すことができる。 - 特許庁

Operation of the etching processing in a stable plasma region enables use of a timed etch end point.例文帳に追加

安定プラズマ領域でエッチング処理を行うと、時限エッチング終了点を使用できる。 - 特許庁

The oxygen plasma strips the etch mask from the wafer and removes residual sidewall passivation.例文帳に追加

酸素プラズマは、エッチングマスクをウエハから剥離させ、残留側壁パッシベーションを除去する。 - 特許庁

The M plasma parameters are selected from a group including wafer voltage, ion density, etch rate, wafer current, etch selectivity, ion energy, and ion mass.例文帳に追加

Ｍ個のプラズマパラメータはウェハ電圧、イオン密度、エッチング速度、ウェハ電流、エッチング選択性、イオンエネルギー及びイオン質量を含む群から選択される。 - 特許庁

To provide a method of optimizing the etch resistance of a substrate material in a plasma processing system including a plasma processing chamber.例文帳に追加

プラズマ処理チャンバを含むプラズマ処理システムにおいて、基材のエッチングに対する耐性を最適化する方法を提供する。 - 特許庁

Then, plasma made of the fluorocarbon gas is generated and the resist film is used as a mask to etch the silicon oxide film with the plasma.例文帳に追加

次に、フルオロカーボンガスからなるプラズマを生成して、レジスト膜をマスクにしてシリコン酸化膜に対してプラズマエッチングを行なう。 - 特許庁

In this manufacture, Si3N4 2 is grown on an Si substrate 1, and a mask Si3N4 2 is left behind, so as to plasma-etch it.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上にＳｉ_3Ｎ_4２を成長させ、マスクＳｉ_3Ｎ_4２を残し、プラズマエッチングする。 - 特許庁

To enable performing etching of an etching material hard to etch by using an ECR plasma etching apparatus.例文帳に追加

ＥＣＲプラズマエッチング装置を使用して難エッチング材料のエッチングを行えるようにする。 - 特許庁