polyhydroxystyreneとは 意味・読み方・使い方

As for the photosensitive org. thin film, for example, a polyimide film, acrylic resin film, polyhydroxystyrene film, novolak resin film, polyvinylalcohol film or the like is preferably used.例文帳に追加

感光性有機薄膜は、ポリイミド膜、アクリル系樹脂膜、ポリヒドロキシスチレン膜、ノボラック樹脂膜、ポリビニルアルコール膜、カルド系樹脂膜等が好ましい。 - 特許庁

To provide a method for producing a partially protected polyhydroxystyrene which has the hyroxy groups partially protected with a tertiary alkyl group or a tertiary alkyl group and an acetal group.例文帳に追加

ヒドロキシル基の一部が３級アルキル基または３級アルキル基とアセタール基で保護された部分保護ポリヒドロキシスチレンの製造法を提供すること。 - 特許庁

A positive photosensitive resin composition contains a hydroxystyrene-styrene copolymer having a specific polyhydroxystyrene-styrene ratio and a specific weight-average molecular weight.例文帳に追加

特定のポリヒドロキシスチレン／スチレン比と重量平均分子量を有するヒドロキシスチレン／スチレン共重合体を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises (A) 100 parts by mass of a polymer selected from the group consisting of an alkali-soluble phenolic resin and polyhydroxystyrene or polyhydroxystyrene derivatives, (B) 1-100 parts by mass of a specific photosensitive diazonaphthoquinone compound and (C) 100-1,000 parts by mass of an organic solvent.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、及びポリヒドロキシスチレンまたはポリヒドロキシスチレン誘導体からなる群より選択される重合物１００質量部に対して、特定の（Ｂ）感光性ジアゾナフトキノン化合物１〜１００質量部、及び（Ｃ）有機溶剤１００〜１０００質量部を含む感光性樹脂組成物。 - 特許庁

A resist material comprises a polyhydroxystyrene resin in which hydroxyl groups are protected with dissolution inhibiting groups, a phenol novolac resin, a photoacid generator capable of generating an acid upon exposure and a diazonaphthoquinone compound.例文帳に追加

水酸基が溶解抑止基で保護されたポリヒドロキシスチレン樹脂と、フェノールノボラック樹脂と、露光により酸を発生する光酸発生剤と、ジアゾナフトキノン化合物とを含む。 - 特許庁

The transparent film 30 is made of, for example, a polymer material, containing at least one kind of polyhydroxystyrene copolymer, novolac resin, acrylic resin and methacrylic resin.例文帳に追加

このような透明膜３０は、例えば、ポリヒドロキシスチレン共重合体、ノボラック系樹脂、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂の少なくとも１種を含有する高分子材料で形成された膜である。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises (a) a polyhydroxystyrene resin, (b) a 1,2-quinonediazide compound, (c) a photoacid generator, (d) a melamine crosslinking agent and (e) a solvent.例文帳に追加

ａ）ポリヒドロキシスチレン系樹脂；ｂ）１，２−キノンジアジド化合物；ｃ）光酸発生剤；ｄ）メラミン架橋剤；およびｅ）溶媒を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物に関する。 - 特許庁

This positive photosensitive resin composition contains (B) 1-50 pts.mass of photoacid generating agent, (C) 0.01-70 pts.mass of benzyl acetate compound having one substituent selected from the group comprising an alkoxy group, an alkyl group and a cyano group, with respect to (A) 100 pts.mass of an alkali-soluble phenol resin, or a polymer of a polyhydroxystyrene or a polyhydroxystyrene derivative.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性フェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、またはポリヒドロキシスチレンの誘導体である重合物１００質量部に対して、（Ｂ）光酸発生剤１〜５０質量部、（Ｃ）アルコキシ基、アルキル基、及びシアノ基からなる群から選択されるいずれか１つの置換基を有する酢酸ベンジル化合物０．０１〜７０質量部、を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 特許庁