radical 45とは 意味・読み方・使い方

A mist generation means 53 for generating radical-containing mist is arranged inside the circulation air path 45.例文帳に追加

循環風路45内にラジカルを含むミストを発生するミスト発生手段53を配置する。 - 特許庁

The ratio (weight ratio) of the conducting agent to the radical polymerization thermosetting resin is about 55/45 to 95/5.例文帳に追加

導電剤とラジカル重合性熱硬化型樹脂系との割合（重量比）は、導電剤／ラジカル重合性熱硬化型樹脂系＝５５／４５〜９５／５程度である。 - 特許庁

A cured resin layer 3 to 45 μm in thickness composed of a radical polymerization-type thermosetting resin 3 or its resin composition is provided on one side or both sides of a thermoplastic film 2.例文帳に追加

熱可塑性フィルム２の一面側又は両面側に、ラジカル重合型熱硬化性樹脂３又はその樹脂組成物から形成される厚み３〜４５μｍの樹脂硬化物層を設ける。 - 特許庁

The electrostatic atomizing device includes an electrode part 59 including: the electrodes 78 absorbing water condensed on the heat absorption side by cooling by heat absorption of the Peltier element 45 from at least the tip side, and atomizing the water to mist containing a radical by natural discharge from the tip side; and an electrode holding part 79 holding the electrodes 78.例文帳に追加

ペルチェ素子45の吸熱による冷却によって吸熱側に結露した水分を少なくとも先端側から吸水し、この先端側からの自然放電によりラジカルを含むミストへと霧化する電極78、および、電極78を保持する電極保持部79を備えた電極部59を有する。 - 特許庁

This electroconductive paste is obtained by compounding 50-90 wt.% crystalline solid solution powder, a total of 9-45 wt.% of radical- polymerizable unsaturated monomer, radical-polymerizable unsaturated oligomer, radical polymerization initiator and photosensitizer and a total of 1-5 wt.% pigment, inert resin, wax and leveling agent and is curable by irradiation of ultraviolet rays and another subject is an electroconductive film obtained from the paste.例文帳に追加

インジウム−スズ−酸化物の結晶質固溶体粉末５０〜９０重量％に、ラジカル重合性不飽和単量体、ラジカル重合性不飽和オリゴマー、ラジカル重合開始剤及び光増感剤の合量を９〜４５重量％、顔料、イナートレジン、ワックス、レベリング剤の合量を１〜５重量％配合し、紫外線の照射により硬化する導電ペースト及び該導電ペーストから得られる導電膜。 - 特許庁

The process for producing the hydroxyvinylnaphthalene compound includes a step of subjecting a crude hydroxyvinylnaphthalene compound having a hydroxyl group and a vinyl group on the naphthalene ring to active carbon treatment in the presence of a phenolic radical scavenger at a temperature of 45°C or higher to perform purification.例文帳に追加

本発明のヒドロキシビニルナフタレン化合物の製造方法は、ナフタレン環にヒドロキシル基とビニル基とを有する粗ヒドロキシビニルナフタレン化合物を、フェノール系ラジカル捕捉剤の存在下、４５℃以上の温度で活性炭処理に付して精製する工程を含む。 - 特許庁

The content of the photoacid generator is effectively 0.5 to 25 mass% with respect to the content of the polymer; and the content of the photo-radical polymerization initiator is effectively 0.3 to 45 mass% with respect to the content of the polymer.例文帳に追加

前記光酸発生剤の含有量は、好ましくは前記ポリマーの含有量に対し０．５質量％乃至２５質量％であり、前記光ラジカル重合開始剤の含有量は、好ましくは前記ポリマーの含有量に対し０．３質量％乃至４５質量％である。 - 特許庁