reactive nitrogenとは 意味・読み方・使い方

The amino group may be introduced by contacting nitrogen containing reactive species such as ammonia with, for example, the surface of the semiconductor terminated with hydrogen atom and by chemically absorbing the amino group containing the nitrogen atom derived from this reactive species onto the surface of the semiconductor.例文帳に追加

アミノ基は、例えば水素原子で終端された半導体表面にアンモニア等の窒素含有反応種を接触させ、この反応種に由来する窒素原子を含むアミノ基を半導体表面に化学吸着させて導入すればよい。 - 特許庁

When the temperature of sapphire substrate in the reactive chamber 1 comes to a room temperature, the reactive chamber 1 is restored to an atmosphere using nitrogen, and a sample of nitride semiconductor thin-film deposited on the sapphire substrate is taken out.例文帳に追加

反応室１内のサファイア基板２３の温度が室温になったら、反応室１を窒素で大気に戻し、サファイア基板２３に堆積された窒化物半導体薄膜のサンプルを取り出す。 - 特許庁

In the method for depositing a nitride film, one or more types of nitrogen supplying gases selected from hydrazine and nitrogen oxides are introduced into a catalytic reactor 5, a reactive gas generated by bringing the nitrogen supplying gases into contact with a catalyst is spouted from the catalytic reactor 5, and the nitride film is deposited on a substrate 7 by reacting the reactive gas and a compound gas.例文帳に追加

触媒反応装置５内にヒドラジン及び窒素酸化物から選択された１種以上の窒素供給ガスを導入し、この窒素供給ガスを触媒と接触させることにより生成される反応性ガスを触媒反応装置５から噴出させ、反応性ガスと化合物ガスとを反応させて、基板７上に窒化物膜を堆積させる、窒化物膜の堆積方法である。 - 特許庁

The manufacturing method includes a process for forming a thin film of platinum that contains oxygen and nitrogen, oxygen and boron, or oxygen, nitrogen, and boron by a reactive vacuum vapor deposition method; and a process for forming a catalyst of web structure whose main component element is platinum in a reducing process, with the thin film of the platinum containing oxygen and nitrogen, oxygen and boron, or oxygen, nitrogen, and boron.例文帳に追加

反応性真空蒸着法によって白金に酸素と窒素、あるいは酸素と硼素、あるいは酸素と窒素と硼素を含有する薄膜を形成する工程、前記白金に酸素と窒素、あるいは酸素と硼素、あるいは酸素と窒素と硼素を含有する薄膜を還元処理して、白金を主構成元素とするくもの巣状構造の触媒を形成する工程を有する電極触媒層の製造方法。 - 特許庁

This ECR sputtering method attains an excellent nitriding reaction and a high sputtering yield by irradiating a substrate with plasma originating from a sputter target, simultaneously ionizing reactive gases such as nitrogen gas and irradiating the substrate with ions of the ionized reactive gas.例文帳に追加

ＥＣＲスパッタにおいて、スパッタターゲットのプラズマを基板に照射するとともに、窒素ガス等の反応性ガスをイオン化し、このイオン化した反応性ガスイオンを基板に照射することによって、窒化反応を良好なものとするとともに、高いスパッタリングイールドを得る。 - 特許庁

The method comprises the steps of mixing a reactive compound containing nitrogen atom to be introduced with titanium oxide, then casting ionizing radiation to partially activate the titanium oxide and the reactive compound and subsequently heating them in an oxygen-free atmosphere.例文帳に追加

本発明の方法は、導入する窒素原子を含んだ反応性化合物と酸化チタンを混合後、電離性放射線を照射して、酸化チタンおよび反応性化合物を部分的に活性化し、続いて無酸素雰囲気下で加熱処理することを含む。 - 特許庁

The water base coating composition comprises a synthetic resin emulsion (A) obtained by emulsion polymerization of a monomer component (a) containing an ethylenic unsaturated monomer having a reactive functional group reactive with alkoxysilyl and a compound (B) having a nitrogen-containing ring and alkoxysilyl as essential components.例文帳に追加

アルコキシシリル基と反応可能な反応性官能基を有するエチレン性不飽和モノマーを含有する単量体成分（ａ）をエマルション重合して得られる合成樹脂エマルション（Ａ）と、含窒素環基とアルコキシシリル基を有する化合物（Ｂ）を必須成分とする。 - 特許庁

The method for producing a nitrogen-containing zinc oxide film includes: plasmatizing a mixed gas of nitrogen and oxygen into a reactive gas at non-equilibrium atmospheric pressure, mixing it with a vaporized organic zinc compound, and decomposing and depositing the organic zinc compound on a substrate.例文帳に追加

窒素及び酸素の混合ガスを、非平衡大気圧プラズマ化して反応性ガスとし、気化した有機亜鉛化合物と混合させ、該有機亜鉛化合物を分解し、基板上に堆積させる窒素含有酸化亜鉛膜の製造方法である。 - 特許庁