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recessed oxideとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 埋込酸化物; リセスド酸化物
「recessed oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 110件
An oxide layer and a sacrificial layer are processed to constitute a recessed part.例文帳に追加
凹所を構成するべく酸化物層および犠牲層が処理される。 - 特許庁
The recessed oxide film structure is formed by forming a porous film 2 made of a metal oxide such as titanium oxide and standing many columnar recessed parts 3 in the porous film 2.例文帳に追加
ガラス板などの基板１上に、酸化チタンなどの金属酸化物からなる多孔膜２が形成され、この多孔質膜２には多数の柱状凹部３、３・・・が多数突設された凹型酸化膜構造体。 - 特許庁
To provide a surface anodization apparatus where, regarding a metallic component having a recessed surface, a metal oxide film is formed at the recessed part.例文帳に追加
凹部表面をもつ金属製部品の凹部に金属酸化被膜を形成する表面陽極酸化処理装置を提供する。 - 特許庁
To improve embedding properties to a recessed part of a groove, while lowering the film formation temperature of an oxide film.例文帳に追加
酸化膜の成膜温度を低下させつつ、溝の凹部への埋め込み性を高める。 - 特許庁
A gate oxide 3 is formed in a recessed part 10 having an arcuate wall 10b, and sidewalls 7 whose bottom faces separately cover the gate oxide film 3 at the upper ends of the recessed part 10 are formed.例文帳に追加
円弧状の側壁１０ｂを有する凹部１０内にゲート酸化膜３が形成され、底面が凹部１０上端のゲート酸化膜３をそれぞれ覆うサイドウォール７が形成されている。 - 特許庁
While filling the recessed part and removing the filling material layer, the oxide layer is protected by the sacrificial layer.例文帳に追加
凹所の充填および充填材層の除去中、犠牲層によって酸化物層が保護される。 - 特許庁
The radius r of the wall 10b of the recessed part is ≥ twice the film thickness t of the gate oxide film 3.例文帳に追加
凹部側壁１０ｂの半径ｒは、ゲート酸化膜３の膜厚ｔの２倍以上である。 - 特許庁
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「recessed oxide」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 110件
In this case, the speed of production of thermal oxide film varies in a part having an oxide film and in a part having no oxide film, by which the recessed part for the gap is formed on the surface of silicon through production and removal of the thermal oxide film.例文帳に追加
酸化膜が存在する部分と存在しない部分とでは、熱酸化膜の生成速度が異なることを利用して、熱酸化膜の生成及び除去によって、シリコン面にギャップ用凹部を形成する。 - 特許庁
As the result, even if a recessed part 16 is produced at a boundary between the element forming region Ac and the element isolation region Is because the thermal oxide film 15 is corroded when the oxide film is removed, the recessed part 16 can be filled up with the deposit film 17.例文帳に追加
その結果、酸化膜の除去の際、熱酸化膜が侵食され素子形成領域と素子分離領域との境界に凹部１６が生じても、堆積膜１７で埋め込むことができる。 - 特許庁
A part where the third oxide film 14 overlaps the first oxide film 4 is formed, not only the bottom surface of the recessed part 18 but also the sidewall thereof are thermally oxidized, and the fourth oxide film is formed.例文帳に追加
第３酸化膜１４と第１酸化膜４が重なる部分が形成されるとともに凹部１８の底面のみでなく側壁も熱酸化されて第４酸化膜が形成される。 - 特許庁
The semiconductor device has a lower electrode, a metal oxide film, and an upper electrode laminated in order at a peripheral edge of the recessed portion and in the recessed portion.例文帳に追加
半導体装置は、凹部の周縁部及び凹部の内部に順次積層された下部電極、金属酸化膜及び上部電極とを備えている。 - 特許庁
An under layer constituted of recessed parts consisting of Fe oxide particles 15 and projecting parts enclosing the recessed parts and mainly made up of an amorphous oxide 14 is formed on a substrate 11, and the FePt ordered alloy crystal particles 16 are formed on the recessed parts of the under layer.例文帳に追加
基板１１上に、Ｆｅ酸化物粒子１５からなる凹部と、該凹部を取り囲む非晶質酸化物１４を主成分とする凸部とから構成された下地層を形成し、下地層の凹部の上にＦｅＰｔ規則合金結晶粒子１６を形成する。 - 特許庁
The protective oxide film formed on the recessed portion protects the low-concentration source/drain region and prevents the concentration of an electric field.例文帳に追加
凹部上に形成された保護酸化膜は低濃度ソース/ドレイン領域を保護し、電界の集中を防止する。 - 特許庁
The polysilicon is recessed from an adjoining mesas, and the polysilicon is insulated from the contacting metal with an oxide layer.例文帳に追加
ポリシリコンは、隣接するメサに対してリセスされており、酸化物層によってコンタクト金属から絶縁されている。 - 特許庁
A thermal oxide film 11 is formed on an electrode substrate 1 and then a recessed pattern having specified gradient and depth is formed.例文帳に追加
電極基板１に熱酸化膜１１を形成して所定の勾配と深さを有する凹パターンを形成する。 - 特許庁
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