remnant methodとは 意味・読み方・使い方

To provide a semiconductor device which can provide favorable electric characteristics and a high remnant polarization quantity, and its manufacturing method.例文帳に追加

良好な電気的特性を得ながら、高い残留分極量を得ることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method (300) includes removing a remnant of a film-cooling insert from a film-cooling hole (30) of a turbine airfoil (12).例文帳に追加

本方法（３００）は、タービン翼形部（１２）のフィルム冷却孔（３０）からフィルム冷却インサートの残留物を除去する段階（３１０）を含む。 - 特許庁

To provide a TIG welding method for steel preventing a magnetic blow even in a case of steel prone to generate remnant magnetism, and enabling sound welding.例文帳に追加

残留磁気を生じ易い鋼においても磁気吹きを防止でき、健全な溶接が可能となる鋼のティグ溶接方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a tire spew trimming method and apparatus which makes the cutting remnant of a tire spew shorter than heretofore and can improve appearance of the tire.例文帳に追加

従来よりもタイヤのスピューの刈り残しを小さくすると共に、タイヤ外観を向上させることができるタイヤのスピュートリミング方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an unnecessary film removing device and an unnecessary film removing method capable of removing unnecessary resist remnant of the periphery portion of a substrate with resist without fault, and a mask blank manufacturing method.例文帳に追加

レジスト付き基板の周縁部の不要なレジスト残滓を確実に除去することができる不要膜除去装置および不要膜除去方法、並びにマスクブランクス製造方法を提供する。 - 特許庁

To form accurately a desired fine width pattern without depending upon the roughness and fineness of pattern distribution irrespective of an extraction or remnant pattern with respect to a formation method of an electron device and a fine width pattern.例文帳に追加

電子デバイス及び微細幅パターンの形成方法に関し、抜きパターンや残しパターンのいずれの場合もパターン分布の粗密に依存せずに所望の微細幅パターンを精度良く形成する。 - 特許庁

A method of repeating the read/write has: a step for acquiring repetition required time required for repeating the data read/write depending on the type of repeating processing; and a step for terminating the repetition of the data read/write when the repetition required time is longer than the remnant repetition restriction time of the remnant of preset repetition restriction time for data read/write.例文帳に追加

データのリード／ライトに対する反復処理のタイプによって反復されるために必要な反復所要時間を取得する段階と，反復所要時間がデータのリード／ライトのために予め設定された反復制限時間の残りの残余反復制限時間より長ければ，データのリード／ライトの反復を終了する段階とを有する。 - 特許庁

To provide a method for forming a plated through-hole, which enables formation of a suitable plated layer and barely creates problems resulting from remnant plating solution, in the case where a porous film is used as an insulating layer for a circuit board, and to provide a circuit board having the through-hole formed by the method.例文帳に追加

多孔質膜を配線基板の絶縁層に使用する場合に、好適にメッキ層が形成でき、メッキ液の残存による問題も生じにくいメッキスルーホールの形成方法、及び当該方法で形成したメッキスルーホールを有する配線基板を提供する。 - 特許庁