reoxidizingとは 意味・読み方・使い方

NITRIDING/OXIDIZING TREATMENT METHOD FOR METAL MEMBER AND REOXIDIZING METHOD THEREFOR例文帳に追加

金属部材の窒化・酸化処理及び再酸化処理方法 - 特許庁

In addition, a reoxidizing process can be utilized through the above-mentioned sintering cycle for optimizing the dielectric breakdown resistance of the ceramic.例文帳に追加

また再酸化処理がセラミックの耐絶縁破壊を最適化するために上記焼結サイクルを通じて利用できる。 - 特許庁

To provide a method for forming the gate electrode of a semiconductor element with which a reoxidizing process that causes abnormal oxidizing phenomenon can be omitted.例文帳に追加

本発明は、異常酸化現象を誘発する再酸化工程を省略できる半導体素子のゲート電極の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor ceramic having sufficient PTC characteristics in the method for producing the BaTiO3-based semiconductor ceramic by carrying out reduction firing and reoxidizing treatment.例文帳に追加

還元焼成再酸化処理を行うＢａＴｉＯ_3 系の半導体磁器の製造方法において十分なＰＴＣ特性を有する半導体磁器の製造方法を提供する。 - 特許庁

To realize a method of forming a gate electrode with which an abnormal oxidizing phenomenon of metal can be prevented, without increasing the required quality of heat and deterioration of a gate insulating film, in the gate reoxidizing step.例文帳に追加

ゲート再酸化工程の際、所要熱量及びゲート絶縁膜の劣化を増加させることなく、金属の異常酸化現象を防止できる半導体素子のゲート電極形成方法を提供する。 - 特許庁

The step of reoxidizing the nitride layer includes a step of heating the nitride layer for a short time in the presence of a nitrogen oxide gas with a temperature of about 650-1,000°C and pressure of about 7.50×10^-3 Pa to about 5.70 Pa.例文帳に追加

窒化物層を再酸化させる工程は、温度約６５０℃〜約１０００℃、圧力約７．５０×１０^-3Ｐａ〜約５．７０Ｐａの酸化窒素ガスの存在下で、窒化物層を短時間加熱する工程を含む。 - 特許庁

This method for producing the semiconductor ceramic is characterized in that the firing is carried out at a temperature ≥25°C lower than the sintering-finishing temperature of the BaTiO3-based semiconductor ceramic in the method for producing the BaTiO3-based semiconductor ceramic by carrying out reduction firing and reoxidizing treatment.例文帳に追加

半導体磁器の製造方法は、還元焼成再酸化処理を行うＢａＴｉＯ__3 系の半導体磁器の製造方法において、ＢａＴｉＯ_3 系の半導体磁器の焼結完了温度より２５℃以上低い温度で焼成することを特徴とする。 - 特許庁