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rms roughnessとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 RMSあらさ
「rms roughness」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 50件
The surface of the wafer is polished in a matted surface having a root mean square(rms) roughness of about 10 μm.例文帳に追加
ウエーハの表面は約10マイクロメートルの自乗平均(rms)粗さを有するつや消し仕上げに研磨される。 - 特許庁
The surface roughness, RMS, of the barrier layer 7 is not more than 3.0 nm.例文帳に追加
バリア層7の表面粗さRMSが3.0nm以下である。 - 特許庁
The substrate for the optical display device has surface roughness with ≤0.9 nm Ra (arithmetic mean roughness) and ≤1.5 nm Rms (root- mean-square roughness).例文帳に追加
本発明の光学デバイス用基板は、Raが0.9nm以下でかつRmsが1.5nm以下の表面粗さを有する。 - 特許庁
A rms value for the surface roughness of the cylindrical surface 20a of the outer ring 20 is smaller than a rms value for the ramp surface 21a of the inner ring 21.例文帳に追加
外輪20の円筒面20aの表面粗さとしてのrms値が、内輪21のランプ面21aのrms値より小さい。 - 特許庁
The surface after etching with the solution is so polished that the surface roughness is 1 nm in RMS.例文帳に追加
水溶液でのエッチング後の表面粗さをRMSで1nmに抑える研磨を行う。 - 特許庁
RMS of surface roughness is 1.3 nm or less, and the substrate with a good step condition can be obtained.例文帳に追加
表面の高低差のRMSは1.3nm以下、ステップ状態の良好な基板面が得られた。 - 特許庁
The backside 21b of the plate material has an RMS roughness of ≤2 nm in a region of 1×1 μm.例文帳に追加
板材の裏面21bは、1μm×1μmの領域のRMS粗さが2nm以下である。 - 特許庁
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「rms roughness」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 50件
At this time, the roughness (interface roughness) of the base film is about 0.5 nm (RMS) or less so that the scattering loss may be not derived from reflecting the roughness on the surface of the multilayer reflection film 3.例文帳に追加
このとき下地膜部分の粗さ(界面粗さ)はおよそ0.5nm(RMS)以下であり多層反射膜3の表面に粗さが反映されて散乱損失の原因となることはない。 - 特許庁
In this image forming method in which a toner unfixed image is formed on transfer material and heated and melted to be fixed on the transfer material, the mean square roughness RMS of the surface roughness of a solid image after fixation is within the range of RMS≤5.0 μm and 15.0 μm≤RMS.例文帳に追加
トナーの未定着画像を転写材上に形成し、該未定着画像を加熱融解して該転写材に定着する画像形成方法において、定着後ベタ画像の表面粗さのうち二乗平均粗さRMSが RMS≦5.0μm, 15.0μm≦RMS の範囲にあることを特徴とする。 - 特許庁
The substrate has flatness of less than 230 nmPV and surface roughness in RMS of less than 0.20 nm.例文帳に追加
平面度が230nmPV未満、表面粗さがRMSで0.20nm未満であることを特徴とする基板。 - 特許庁
A silicon carbide single crystal treated to be ground to ≤0.9 nm surface roughness Rms is used as the seed crystal 5.例文帳に追加
種結晶5として、表面粗さRmsを0.9nm以下に研磨処理した炭化硅素単結晶を用いる。 - 特許庁
At this time, preprocessing conditions are properly set so that the surface roughness RMS decreases to ≤60 nm.例文帳に追加
このとき、前処理条件を適切に設定することで、面の表面粗さのRMSを、60nm以下とする。 - 特許庁
Also, the intermediate transfer belt may be configured such that the surface roughness is at least Ry=1.1 or more and RMS=0.11 or more.例文帳に追加
また、この表面の粗さは少なくともRy=1.1以上で且つRMS=0.11以上であるように構成されてもよい。 - 特許庁
Particularly, an optical element substrate of 0.2 nm RMS or less in surface roughness is can be obtained so that a high precision optical system can be obtained.例文帳に追加
特に、表面粗さ0.2nmRMS以下の光学素子基材が可能となり、高精度な光学系を実現することができる。 - 特許庁
The compound semiconductor substrate has the surface roughness Rms of 0.2 nm or less measured by the method for inspecting the compound semiconductor substrate.例文帳に追加
化合物半導体基板は、上記化合物半導体基板の検査方法により測定される表面粗さRmsが0.2nm以下である。 - 特許庁
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RMSあらさ
英和対訳
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