sem analysisとは 意味・読み方・使い方

To provide a scanning electron microscope (SEM) capable of shortening a time for length measuring inspection at a deficiency analysis time by a manual work or the like, and its image display method.例文帳に追加

手作業による不具合解析時などにおける測長検査の時間短縮を図ることが可能な走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）およびその画像表示方法を提供する。 - 特許庁

To form a section on a desired position of a semiconductor device having a fine structure without impairing the original section shape, and to enable section analysis by a SEM, a TEM or the like.例文帳に追加

本来の断面形状を損なうことなく、微細構造を有する半導体装置の所望位置に断面を形成し、ＳＥＭあるいはＴＥＭ等による断面解析を可能とする。 - 特許庁

The sample S is almost isotropically excavated by vibration while rotated at random, the analysis of a component in a radial direction due to glow discharge emission analysis become possible and surface of the cleanly formed sample S can be observed by SEM or the like.例文帳に追加

振動によって試料Ｓはランダムに回転しながらほぼ等方的に掘削され、グロー放電発光分析による半径方向の成分分析が可能となり、清浄に形成した試料Ｓの表面をＳＥＭ等で観察することも可能となる。 - 特許庁

Hereby, the sample 10 for analysis suitable for analyzing the surface state and the state of a plane parallel to the surface by using a SEM or a TEM can be formed easily and highly accurately without fouling the surface of an analysis object film pattern 14.例文帳に追加

これにより解析対象膜パターン１４の表面を汚すことなく、ＳＥＭやＴＥＭなどを用いた表面状態および表面と平行な面内における状態の解析に好適な解析用試料１０を、高精度かつ容易に形成することができる。 - 特許庁

When the sample observation by the SEM is finished (S1) to start the X-ray analysis (S2, S3), the sample position at the time when the sample observation is finished is detected, based on an excitation current of an objective lens under a focused condition, to determine whether the position is proper for the X-ray analysis or not(S4).例文帳に追加

ＳＥＭの試料観察が終了して（Ｓ１）Ｘ線分析が開始されると（Ｓ２、Ｓ３）、合焦状態となっている対物レンズの励磁電流に基づいて試料観察終了時の試料位置を検知し、その位置がＸ線分析に適切な位置であるか否かを判定する（Ｓ４）。 - 特許庁

To accurately find the cell pattern of a specific standard cell parttern from among patterns, such as a regularly formed and arranged memory device and indicate it, when performing an SEM observation for purposes such as failure analysis.例文帳に追加

規則的に配列形成されたメモリデバイスなどのパターンの中の特定の基本セルパターンを、不良解析などの目的でＳＥＭ観察するとき、正確にそのセルパターンをとらえ、指示することができるようにする。 - 特許庁

To provide an image data analysis device with which image processing conditions (threshold value or the like) enabling desired pattern edges with good reproductivity can be easily obtained by using image data obtained by using a scanning type microscope (CD-SEM) even if the patterns change structures in a height direction.例文帳に追加

高さ方向で構造が変化するようなパターンであっても、走査型顕微鏡（ＣＤ−ＳＥＭ）を用いて取得した画像データを用いて所望のパターンエッジが再現性よく決定できる画像処理条件（閾値等）を、簡便に得ることのできる画像データ解析装置を提供する。 - 特許庁

A height measurement function using a laser beam is provided by using a part of components of an optical microscope equipped in the electron beam analyzer, and consequently, the unevenness image of the sample surface can be simultaneously measured in the same visual field as the EPMA analysis image and the SEM observation image.例文帳に追加

レーザーを用いた高さ測定機能を、電子線分析装置が備える光学顕微鏡の構成要素の一部を兼用することによって設け、これによって、試料面の凹凸像をＥＰＭＡ分析像やＳＥＭ観察像と同一視野で同時測定を可能とする。 - 特許庁