shower particleとは 意味・読み方・使い方

To provide a method for washing an unnecessary film adhered to a shower plate for a film making device by blasting without causing particle defects and without deforming shower holes.例文帳に追加

パーティクル欠陥を生じずに、また、シャワー穴の変形をもたらさずに、ブラスト処理により、成膜装置用シャワー板に付着した不要な膜を洗浄する方法の提供。 - 特許庁

Solvable crystals of small particle (with large surface area) with large amount of lattice defects can be generated, since the droplets in shower form are small in diameter and can be easily dried out.例文帳に追加

シャワー状の液滴は、小径であり、乾燥しやすいゆえ、より粒子の小さい（表面積の大きい）、格子欠陥の多い、溶解しやすい結晶を生成することができる。 - 特許庁

To provide a gas introducing method of a treatment apparatus for preventing two kinds of gases causing particle generation in a shower head part from being brought into contact and reaction with each other.例文帳に追加

シャワーヘッド部内でパーティクル発生の原因となる２種類のガスが接触して反応することを防止することが可能な処理装置のガス導入方法を提供する。 - 特許庁

Next, a negatively charged ion 8 emitted toward the object 1 from an ion shower nozzle 6 is attached to the particle 5 painted on the surface of the object 1 to convert the electrification polarity of the particle 5 from positive charge to negative charge.例文帳に追加

次に、イオンシャワーノズル６から被塗装物１に向けて放出された負極性イオン８が、被塗装物１の表面に塗着している粉体粒子５に付着して、粉体粒子５の帯電極性を正極性から負極性に置き換える。 - 特許庁

Even if a given number of films are formed, and then an NF_3 gas is introduced to the deposition chamber 11 as the cleaning gas, aluminum fluoride is not generated, and hence adherence to the susceptor 14 and a shower plate 16 is prevented, thus forming the SiO_2 film having uniform film thickness, and preventing contamination due to an AF_3 particle from being generated.例文帳に追加

所定枚数の成膜後に、ＮＦ_3 ガスをクリーニングガスとして成膜室１１へ導入してもフッ化アルミニウムは生成せず、従ってサセプタ１４やシャワープレート１６に付着することはなく、膜厚の均一なＳｉＯ_2 膜が形成され、ＡＦ_3 パーティクルによる汚染も生じない。 - 特許庁

To provide a gas feeder referred to as a gas shower head which is capable of suppressing generation of, for example, a cruciform particle dense area and enhancing the degree of versatility of a process condition by unifying the distribution of the flow speed between the circumferential direction of a gas flow directed from a center of a substrate toward an outer peripheral part thereof.例文帳に追加

ガスシャワーヘッドなどと呼ばれているガス供給装置において、基板の中心部から外周部に向かうガス流について周方向の間の流速分布を従来に比べて揃えることで、例えば十文字状のパーティクルの密集領域の発生を抑え、しかもプロセス条件の自由度を広げられるようにすること。 - 特許庁