simultaneous evaporationとは 意味・読み方・使い方

SHEET WITH ELECTROSTATIC ELIMINATING FUNCTION, SHEET ELECTROSTATIC ELIMINATING SYSTEM, AND SIMULTANEOUS PATTERN-FORMING METHOD, PRINTING METHOD AND EVAPORATION METHOD USING SHEET WITH ELECTROSTATIC ELIMINATING FUNCTION例文帳に追加

除電機能付きシート、シート除電システム、並びに、除電機能付きシートを使用する絵柄同時成形方法、印刷方法、及び、蒸着方法 - 特許庁

A thermosensitive coating material produced by a multilayer simultaneous coating process, is characterized in that the average diameter of moisture evaporation pores of its outermost coating surface the moisture evaporation pores is 1.5 μm or less.例文帳に追加

多層同時塗布法により製造される感熱塗膜材料であって、その最上層塗膜表面の水分蒸発孔の平均直径が1.5μｍ以下であることを特徴とする塗膜材料であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a sheet with an electrostatic eliminating function causing no spark, a sheet electrostatic eliminating system, and a simultaneous pattern-forming method, a printing method and an evaporation method using the sheet with the electrostatic eliminating function.例文帳に追加

スパークを発生させない除電機能付きシート、シート除電システム、並びに、除電機能付きシートを使用する絵柄同時成形方法、印刷方法、及び、蒸着方法を提供する。 - 特許庁

The element can be manufactured by aligning the Er atoms to the position among the lattices of the GaAs crystal through the epitaxial growth with simultaneous control of the evaporation velocity of the molecular beam source and expitaxial growth temperature on the GaAs substrate 2 of the (001) alignment or on the epitaxial growth layer of the (001) alignment using the Ga atoms, As atoms and Er atoms as the molecular beam sources.例文帳に追加

Ｇａ原子、Ａｓ原子及びＥｒ原子を分子線源とし、（００１）面方位ＧａＡｓ基板２上、または（００１）面方位エピタキシャル成長層上に、分子線源の蒸発速度と、エピタキシャル成長温度とを同時に制御してエピタキシャル成長し、Ｅｒ原子をＧａＡｓ結晶の格子間位置に配位させることにより製作できる。 - 特許庁