sintering temperaturesとは 意味・読み方・使い方

To form internal electrodes comprising 100% Ag and increase B constant even in sintering at temperatures ≤960°C under atmospheric conditions.例文帳に追加

９６０℃以下の大気雰囲気で焼結しても、Ａｇ１００％の内部電極を形成し、Ｂ定数を大きくする。 - 特許庁

A two-step sintering process may be used to fabricate such hardmetals at relatively low sintering temperatures in the solid-state phase to produce substantially fully-densified hardmetals.例文帳に追加

２ステップ焼結法を利用して、比較的低い焼結温度にして固体相で上記超硬合金を製造し、実質的に完全に緻密化した超硬合金を生産することができる。 - 特許庁

The surface treatment agent has a property of remaining on surfaces of the aluminum particles at sintering temperatures about at least 550°C or higher.例文帳に追加

該表面処理剤は、少なくとも約５５０℃以上の焼成温度で、アルミニウム粒子の表面に残留する特性を有する。 - 特許庁

The metal component is formed as a solid solution in the surface layer of alumina particles by subjecting the alumina particles and the metal component to the thermal treatment prior to sintering, so that the metal aluminate crystal phase can be formed by sintering at temperatures lower than ordinary sintering temperature.例文帳に追加

このような加熱処理を焼成前に施すことにより、アルミナ粒子の表層に上記金属成分を固溶させることができるので、一般的な焼成温度よりも低い温度での焼成によって耐熱性に優れる金属アルミネート結晶相を生成させることができる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a transparent conductive thin film that is sintered at low temperatures and has low electrical resistances after sintering, and to provide the transparent conductive film with low resistances.例文帳に追加

焼結温度が低く、かつ、焼結後の電気抵抗が小さい透明導電膜の製造法及び得られた低抵抗透明導電膜の提供。 - 特許庁

To provide a method for sintering copper particulates in low temperatures and in a short time, and to manufacture the copper film on a base material by this method.例文帳に追加

本発明は、銅微粒子を低温かつ短時間で焼結できる方法を提供、その方法により基材上に銅膜を製造することを目的とする。 - 特許庁

The composite material is obtained by previously forming the above reaction preventive layer on the surface of SiC powder, and mixing the same with Cu powder, and subsequently subjecting the mixture to press sintering at high temperatures.例文帳に追加

この複合材料は、あらかじめＳｉＣ粉体の表面に上記反応防止層を形成し、その後、Ｃｕ粉末と混合の後、高温下で加圧焼結して得られる。 - 特許庁

The dense sintered compact having a density of ≥3.85 g/cm3 can be obtained at lower sintering temperatures as the amount of silica contained in the impurities becomes smaller.例文帳に追加

また、この不純物に含まれるシリカが少量であるほど、より低い焼成温度で密度が３．８５ｇ／ｃｍ^3以上の緻密な焼結体とすることができる。 - 特許庁