slit exposure typeとは 意味・読み方・使い方

To rationalize integrated exposure on an object to be exposed, when the object is exposed by the slit scanning exposing method using a pulsed light type exposure beam.例文帳に追加

パルス発光型の露光ビームを用いてスリットスキャン露光方式で露光を行うときに露光対象となる物体上の積算露光量を適正化する。 - 特許庁

In a projecting light exposure apparatus of a slit scanning light exposure type, there is provided, other than optical means (5) for setting an illumination area illumination distribution control means (4), luminance distribution control means (4) for making variable luminance distribution in a nonscanning direction extending perpendicularly to a scanning direction in an illumination area set by the optical means (5).例文帳に追加

スリットスキャン露光方式の投影露光装置において、照明領域を設定する光学手段（５）とは別に、その光学手段（５）によって設定された照明領域内における走査方向と直交する非走査方向の照度分布を可変とする照度分布制御手段（４）を設ける。 - 特許庁

Also, the moving speed of the slit coincides with scanning speed to read out the picture signal, and exposure time for the silver salt film coincides with that for the MOS type imaging device.例文帳に追加

また、スリットの移動速度と画像信号を読み出す走査速度、および銀塩フィルムに対する露光時間とＭＯＳ型撮像素子に対する露光時間とを一致させる。 - 特許庁

An auxiliary pattern board 33 formed with a slit pattern 36 and a pattern 37 for difference in level is set at a position adjacent to a scanning direction to the holding face of a reticle R of a reticle stage 31 of a scanning type exposure device.例文帳に追加

走査型露光装置のレチクルステージ３１のレチクルＲの保持面に対して走査方向に隣接する位置に、スリットパターン３６及び段差用パターン３７が形成された補助パターン板３３を設置する。 - 特許庁

A scanning exposure part 20 has the panel type light irradiation part 22 where many linear light sources 21 are provided side by side in parallel in a direction Z, and a slit array plate 24 where many slits 23 are provided side by side in parallel in the direction Z and whose thickness is 1mm.例文帳に追加

走査露光部２０は、多数のライン光源２１がＺ方向へ平行に並んで設けられているパネル状光照射部２２と、多数のスリット２３がＺ方向へ平行に並んで設けられている厚さ１mmのスリットアレイ板２４とを有している。 - 特許庁

To provide a scan type lithographic projector usable for manufacturing ICs, etc., wherein the exposure error of the projector occurs at the start and end of scan due to the reflection from a reticle mask blade and hence this is improved to make the slit illumination const. and uniform over the entire scan.例文帳に追加

ＩＣ製造等に使用する走査型リソグラフ装置の露出誤差は、走査の始めと終りで起り、レチクル・マスクブレードからの反射によって生ずるので、それを改善し、スリット照明を走査全体にわたって一定且つ均一にした装置を提供すること。 - 特許庁

The camera controlling the exposure time of an imaging part by a focal plane type shutter having a front curtain and a rear curtain fetches data repeatedly from the predetermined pixel of an imaging part in a predetermined cycle during the traveling of a slit formed by the front curtain and the rear curtain and measures the shutter second time based on the fetched data.例文帳に追加

先幕と後幕を有するフォーカルプレーン式シャッターにより撮像部の露光時間を制御するカメラであって、先幕と後幕で形成するスリットの走行中に所定周期で撮像部の所定画素から繰り返しデータを取り込み、取り込んだデータに基づいてシャッター秒時を測定する。 - 特許庁