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threading dislocationsとは 意味・読み方・使い方
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「threading dislocations」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
Therefore, threading dislocations can be eliminated also from a p-type electrode side.例文帳に追加
したがって、p型電極側からも、貫通転位を無くすことができる。 - 特許庁
To provide a diamond thin film structure having sufficiently low density of lamination defects and threading dislocations, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加
積層欠陥及び貫通転位の密度が十分に低いダイヤモンド薄膜構造とその製造方法を提供する。 - 特許庁
By using this phenomenon to discharge the threading dislocation 3 from a side face of the epitaxial film, threading dislocations 3 can be almost completely eliminated from the growth surface of the epitaxial film 2.例文帳に追加
このため、この現象を利用し、エピタキシャル膜2の側面から貫通転位3を排出させることにより、エピタキシャル膜2の成長表面から貫通転位3をほぼ無くすことが可能となる。 - 特許庁
To provide a group III nitride crystal in which threading dislocations are reduced by a crystal growth method using an alkali metal as a flux.例文帳に追加
アルカリ金属をフラックスとして用いた結晶成長方法によって貫通転位を低減したIII族窒化物結晶を提供する。 - 特許庁
The semiconductor layer may include a seed layer disposed proximal to the surface of the semiconductor layer and having the threading dislocations uniformly distributed therein.例文帳に追加
この半導体層は、半導体層の表面に近接して位置するシード層、およびそこに均一的に分布するレッディング転位を有することを含み得る。 - 特許庁
Therefore, without performing sequential lamination of p-layers and n-layers, the SiC single crystal capable of reducing threading screw dislocations can be produced while suppressing transfer of polymorphism and dislocation.例文帳に追加
したがって、p層とn層を順次積層させなくても、多形や転位の引継ぎを抑制しつつ、貫通転位を低減できるSiC単結晶を製造することができる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing an SiC single crystal capable of reducing threading dislocations while suppressing transfer of polymorphism and dislocation without performing sequential lamination of p-layers and n-layers.例文帳に追加
p層とn層を順次積層させなくても、多形や転位の引継ぎを抑制しつつ、貫通転位を低減できるSiC単結晶の製造方法を提供する。 - 特許庁
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「threading dislocations」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
Between a silicon carbide epitaxial layer for device fabrication (i.e., a drift layer) and a base substrate formed of a silicon carbide single-crystal wafer, a highly efficient dislocation conversion layer through which any basal plane dislocations in the silicon carbide single-crystal wafer are converted into threading edge dislocations very efficiently when the dislocations propagate into the layer epitaxially grown is provided by epitaxial growth.例文帳に追加
デバイスが作り込まれる炭化珪素エピタキシャル層(ドリフト層)と炭化珪素単結晶ウエハからなる下地基板との間に、 炭化珪素単結晶ウエハ中の基底面転位がエピタキシャル成長層中に伝播する際に貫通刃状転位に変換される変換効率の高い層(転位変換層)を、エピタキシャル成長によって設ける。 - 特許庁
This is accomplished by introducing a semiconductor layer having a plurality of threading dislocations distributed substantially uniformly across its surface as a starting layer before following growth and relaxation of the compositionally graded layer and/or at least one intermediate layer during the growth and relaxation of the compositionally graded layer.例文帳に追加
このことは、組成的に勾配したバッファ層の後に続く成長および緩和の前のスタート層としておよび/または組成的に勾配した層の成長および緩和中の少なくとも1つの中間層としてその表面にわたり実質的に均一に分布する複数のスレッディング転位を有する半導体層を導入することによって達成される。 - 特許庁
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