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transmission sputteringとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 透過スパッタリング
「transmission sputtering」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
To remove a damaged layer generated in a cut end face by sputtering- etching with a convereged ion beam, when preparing a thin sample piece for a transmission electron microscope.例文帳に追加
透過型電子顕微鏡用の薄片試料を作製する際に、集束イオンビームによるスパッタエッチングによって切削端面に生じたダメージ層を除去する。 - 特許庁
The light blocking region 3 can be easily formed with means such as sputtering and vapor deposition of metal material such as Cr (chromium) and is provided with the structure 12 for light transmission.例文帳に追加
遮光領域３は、Ｃｒ（クロム）等の金属材料をスパッタ、蒸着等の手段を用いることで容易に形成できるもので、光を透過するための機構１２が備えられている。 - 特許庁
The protection body formed on the organic compound layer has 70 to 100% transmission factor, preventing damage applied to the organic compound layer when the positive electrode is deposited by a sputtering method.例文帳に追加
なお、有機化合物層上に形成された保護体は、透過率が７０〜１００％であり、また、陽極をスパッタリング法により成膜する際に有機化合物層に与えられるダメージを防ぐことができる。 - 特許庁
The protection film formed on the organic compound layer has 70 to 100% transmission factor, preventing damage applied to the organic compound layer when the positive electrode is deposited by a sputtering method.例文帳に追加
なお、有機化合物層上に形成された保護膜は、透過率が７０〜１００％であり、また、陽極をスパッタリング法により成膜する際に有機化合物層に与えられるダメージを防ぐことができる。 - 特許庁
The transmission factor of a protection body formed on the organic compound layer is 70 to 100%, and the protection body prevents damage applied to the organic compound layer when the positive electrode is deposited by a sputtering method.例文帳に追加
なお、有機化合物層上に形成された保護体は、透過率が７０〜１００％であり、また、陽極をスパッタリング法により成膜する際に有機化合物層に与えられるダメージを防ぐことができる。 - 特許庁
To obtain a new barrier layer in which the oxidation of an Ag layer is controlled without spoiling the visible light transmission of a low radiation film, and in addition existing sputtering production equipment can also easily carry out production by low cost, and the low radiation film containing the barrier layer.例文帳に追加
低放射膜の可視光透過性を損ねることなくＡｇ層の酸化を抑制し、なおかつ現行のスパッタ生産設備でも低コストで容易に生産が可能な、新たなバリア層と、該バリア層を含む低放射膜を得ること。 - 特許庁
To provide an amorphous transparent conductive thin film having small resistivity, a low absolute value of internal stress in the film and high light transmission in the visible region, and an oxide sintered compact for producing the transparent conductive thin film, and a sputtering target obtained therefrom.例文帳に追加
比抵抗が小さく、膜の内部応力の絶対値が低く、可視光領域の透過率が高い非晶質の透明導電性薄膜、および、該透明導電性薄膜を製造するための酸化物焼結体と、それから得られるスパッタリングターゲットを提供する。 - 特許庁
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「transmission sputtering」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
To provide a composite target for sputtering, which is capable of introducing a stable, prescribed amount of oxygen vacancies into a transparent conductive film and forming the transparent conductive film which has good light transmission, low electric resistance and good conductivity, and a manufacturing method of the transparent conductive film using the same.例文帳に追加
安定した一定量の酸素欠陥を導入することができ、光透過率が良好であり、低い電気抵抗及び良好な導電性を有する透明導電膜を形成するスパッタリング複合ターゲット及びこれを用いた透明導電膜の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a sputtering composite target forming a transparent conductive film into which a stable fixed amount of oxygen defect can be introduced, and which has satisfactory light transmission, low electric resistance and satisfactory conductivity, to provide a method for producing a transparent conductive film using the same, and to provide a transparent conductive film-fitted base material.例文帳に追加
安定した一定量の酸素欠陥を導入することができ、光透過率が良好であり、低い電気抵抗及び良好な導電性を有する透明導電膜を形成するスパッタリング複合ターゲット、これを用いた透明導電膜の製造方法及び透明導電膜付基材を提供する。 - 特許庁
In the film substrate for mounting the semiconductor, a metallized polyimide film having the oxygen transmission of 20 ml/m^2×day×atm or less of a polyimide film and a heat linear expansion coefficient of 12 ppm/°C or less is used as a base material in the metallized polyimide film using a sputtering layer composed of a nickel-chromium alloy as the foundation layer and having a thickened metallic layer.例文帳に追加
ニッケル−クロム合金のスパッタ層を下地層とし、さらに厚付けされた金属層を有する金属化ポリイミドフィルムにおいて、該ポリイミドフィルムの酸素透過率が２０ｍｌ／ｍ^2・ｄａｙ・ａｔｍ以下で、かつ熱線膨張率が１２ｐｐｍ／℃以下あることを特徴とする金属化ポリイミドフィルムを基材として用いたことを特徴とする半導体実装用フィルムサブストレート。 - 特許庁
To provide a reflective film, a thin film for wiring or for an electrode and a semi-reflection type semi-transmission film having high reflectivity and low electric resistance while suppressing the reduction of the reflectivity caused by reaction with a trace amount of free halogen by heat and also improving the heat resistance of, and to provide a sputtering target material and a vapor deposition material useful for the production of the films.例文帳に追加
熱による微量の遊離ハロゲンとの反応による反射率の低下を抑制し且つ耐熱性を改善しつつ、高い反射率および低い電気抵抗を有し、しかも熱や湿度に対しても高い安定性を有する反射膜、配線用または電極用薄膜及び半反射型半透過膜、ならびにかかる膜の製造に有用なスパッタリングターゲット材および蒸着材料を提供すること。 - 特許庁
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