uniform surface concentrationとは 意味・読み方・使い方

This makes uniform the doping concentration of Zn or Mg in the layer thickness direction, and hence a satisfactory surface carrier concentration is obtained for forming an ohmic contact with a p-type electrode 10, without raising the carrier concentration at an initial growth stage.例文帳に追加

ＺｎまたはＭｇのドーピング濃度を層厚方向に均一にできるので、成長開始時のキャリア濃度を高くしなくても、ｐ型電極１０とオーミックコンタクトを取るために十分な表面キャリア濃度が得られる。 - 特許庁

To provide the uniform surface treatment of an object using a treatment solution while adequately controlling the concentration of components contained in the treatment solution.例文帳に追加

処理液に含まれる成分の濃度を適切に制御し、当該処理液を用いた被処理物の均一な表面処理を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid chemical coating method for applying a liquid chemical in a uniform concentration on the whole surface of a substrate.例文帳に追加

本発明の解決課題は、基板の表面全面に均一な濃度で薬液を塗布する薬液塗布方法を開発することにある。 - 特許庁

Therefore, Si2H6 and H2Se are supplied at the same time, by which a temperature distribution is canceled through the surface of the wafer, and a carrier concentration gets uniform.例文帳に追加

従って、Ｓｉ_2Ｈ_6およびＨ_2Ｓｅを同時に供給することにより、面内の温度分布がキャンセルされ、キャリア濃度分布が均一になる。 - 特許庁

To provide a new glass surface treatment liquid capable of making an even, uniform surface roughness, having no irritant odor, which is easy in concentration control and in handling in winter, and to provide a glass surface treatment method in which the even, uniform surface roughness is effectively formed by using the glass surface treatment liquid.例文帳に追加

ムラのない均一な凹凸を作ることができ、刺激臭がなく、濃度管理が容易で冬季の扱いも簡易な新規なガラス表面処理液及びこのガラス表面処理液を用いることによってムラのない均一な凹凸を効率よく作ることができるようにしたガラス表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for keeping boron concentration along the depth direction in the surface layer of a wafer satisfactorily uniform, even in a silicon wafer doped with boron at a low concentration.例文帳に追加

低濃度にボロンがドープされたシリコンウエハに対しても、ウエハ表層におけるウエハ深さ方向のボロン濃度の十分な均一化を図るということを達成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To improve a crystal property and electrical conductivity and also uniform the composition ratio and the p-type impurity concentration in a growth surface of a crystal.例文帳に追加

結晶性および電気伝導性を向上させると共に、結晶の成長面内における組成比やｐ型不純物濃度を均一とする。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device capable of generating uniform plasma on a processing surface by alleviating electric field concentration right under a dielectric window.例文帳に追加

誘電体窓直下の電界集中を緩和し、被加工物表面に均一なプラズマを生成することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁