unipotentialとは 意味・読み方・使い方

Moreover, the amount of exposure currents is calculated based on the on-off information of a blanking electrode, and the magnification adjusted by the electrostatic type unipotential lens is corrected.例文帳に追加

また、ブランキング電極のオンオフ情報に基づいて露光電流量を算出し、それに基づいて静電型ユニポテンシャルレンズにより調整される倍率を補正する。 - 特許庁

To provide an ion implanting apparatus which is installed between a beam scanner and a beam collimator, and capable of electrically correcting a deviation of an orbit in an XZ plane of the ion beam caused by an assembling error and a production error of an electrode constituting a unipotential lens to converge the ion beam in Y-direction in the unipotential lens.例文帳に追加

ビーム走査器とビーム平行化器との間に設けられていて、イオンビームをＹ方向において絞る働きをするユニポテンシャルレンズを構成する電極の組立誤差や製作誤差によって生じるイオンビームのＸＺ平面内での軌道のずれを当該ユニポテンシャルレンズにおいて電気的に修正することができるイオン注入装置を提供する。 - 特許庁

In an electron beam exposure device using a plurality of electron beams, an electrostatic type unipotential lens is arranged in a middle image surface position formed by a demagnification doublet optical system to carry out the magnification adjustment.例文帳に追加

複数の電子線を用いた電子線露光装置において、縮小ダブレット光学系により形成された中間像面位置に静電型ユニポテンシャルレンズを配置し、倍率調整する。 - 特許庁

This gun is a unipotential type three-beam single electron gun, and the second electrode G_2 and the third electrode G_3 are formed with faces 22_G, 23_G having a center beam transmission hole formed protrudedly toward a cathode K side, in the gun.例文帳に追加

ユニポテンシャル型の３ビーム単電子銃であって、第２電極Ｇ_２ と第３電極Ｇ_３ が、センタービーム透過孔を形成した面２２_Ｇ 、２３_Ｇ をカソードＫ側に突出させた凸型形状に形成されて成る。 - 特許庁

This ion implanting apparatus is equipped with the unipotential lens 40 installed between the beam scanner and the beam collimator, and a direct current power supply 60 to apply direct current voltages V_1, V_2 to their second electrode 42 and third electrode 43.例文帳に追加

このイオン注入装置は、ビーム走査器とビーム平行化器との間に設けられたユニポテンシャルレンズ４０と、その第２電極４２、第３電極４３に直流電圧Ｖ_1 、Ｖ_2 を印加する直流電源６０とを備えている。 - 特許庁

Then, the positions of the curvature center of a first gap 51 and a third gap 53 of the unipotential lens 40 are made to be coincided with the position of the scanning center of the beam scanner, and the position of the curvature center of the second gap 52 is shifted more to the downstream side of an ion beam traveling direction than the position of the scanning center.例文帳に追加

そして、ユニポテンシャルレンズ４０の第１ギャップ５１、第３ギャップ５３の曲率中心の位置を、ビーム走査器の走査中心の位置と一致させており、第２ギャップ５２の曲率中心の位置を、走査中心の位置よりもイオンビーム進行方向の下流側にずらしている。 - 特許庁