vacuum platingとは 意味・読み方・使い方

The multilayer films 3, 4, 6, 7 are deposited with vacuum deposition, ion plating, ion assisted deposition and sputtering method.例文帳に追加

前記多層膜３，４，６，７は、真空蒸着、イオンプレーティング、イオンアシスト蒸着、スパッタリング法で成膜される。 - 特許庁

To simply form a decorative panel having plating-like metal appearance at a low cost by applying a paint without using a conventional processing method (plating, vacuum vapor deposition or sputtering).例文帳に追加

めっき調の金属外観装飾板を従来の加工方法（めっき・真空蒸着・スパッタ等）を用いずに塗料を塗装することで簡単かつ低コストで形成する。 - 特許庁

The porous lithium film is provided by vacuum evaporating, ion plating, or sputtering under prescribed conditions.例文帳に追加

このような多孔質リチウム膜は、特定条件下で真空蒸着、イオンプレーティングあるいはスパッタリングすることにより得られる。 - 特許庁

The plating base layer is mainly composed of Cu or Ni and formed by vacuum-deposition or sputtering.例文帳に追加

当該メッキ下地層はＣｕまたはＮｉを主体とする金属からなり、真空蒸着またはスパッタリングで形成される。 - 特許庁

One resin substrate 1 is provided, and a copper alloy layer 2 is adhered to the resin substrate 1 by a vacuum physical plating method.例文帳に追加

一つの樹脂基材１を有し、真空物理メッキ方式により樹脂基材１上に銅合金層２を付着する。 - 特許庁

This arc type ion plating device is provided with a holder 26 provided in a vacuum vessel 20 and holding a substrate 24.例文帳に追加

このアーク式イオンプレーティング装置は、真空容器２０内に設けられていて基体２４を保持するホルダ２６を備えている。 - 特許庁

The electroless plating method comprises the steps of: subjecting a substrate to coupling treatment of vaporizing a coupling agent toward the surface in a vacuum chamber having a vacuum atmosphere; forming a catalytic metal thereon; reducing the catalytic metal with a reducing agent; and electroless-plating the surface.例文帳に追加

真空雰囲気にした真空槽内で基板表面にカップリング剤を蒸発させてカップリング処理する工程と、触媒金属を付与させる工程と、還元剤による処理工程と、無電解めっき処理工程とを有する無電解めっき方法。 - 特許庁

The method comprises: a stage wherein a nickel based vacuum thin film 13 is deposited on a substrate 11 based on a physical vapor deposition technique; and a stage wherein the substrate 11 with the vacuum thin film 13 deposited is subjected to substitution gold plating treatment in a substitution gold plating bath to deposit a substitution gold layer 14 on the surface of the vacuum thin film 13.例文帳に追加

基板１１上に物理的蒸着技術に基づくニッケル系の真空薄膜１３を形成する工程と、この真空薄膜１３を形成した基板１１を置換金メッキ浴において置換金メッキ処理を施し該真空薄膜１３の表面に置換金層１４を形成する工程とを有する。 - 特許庁