例文 (5件) |
"fringe order"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 5件
In the surface shape measuring method, an error distribution contained in fringe order computation is estimated in the determination of fringe order of each position in two-wavelength phase-shifting interferometry (Step S21-S24), and the fringe order is determined by subtracting specified errors from the error distribution (Step S25 and S26).例文帳に追加
本発明の表面形状測定方法によれば、2波長位相シフト干渉法における各位置の縞次数の決定において、縞次数の計算に含まれる誤差分布が推定され(ステップS21〜S24)、その誤差分布から特定した誤差を差し引いて縞次数が求められる(ステップS25,S26)。 - 特許庁
Then, the control device specifies the fringe order of the individual first height data, based on the second height data and substitutes a value of the first height data by a value that takes the fringe order into consideration.例文帳に追加
そして、第2高さデータを基に、各第1高さデータの縞次数を特定し、当該第1高さデータの値を縞次数を考慮した値に置き換える。 - 特許庁
This method uses an entity grid-type moire optical system to exactly shift a specific fringe order moire fringes by desired phase, and limits its measuring area to the vicinity of the fringe order, performing three- dimensional measurement of surface shape of a specimen from at least three phase-shifted moire fringes data.例文帳に追加
実体格子型のモアレ光学系を用い、特定の縞次数のモアレ縞を所望の位相だけ正確にシフトさせて、測定領域をその縞次数近辺に限定して、少なくとも3つの位相シフトしたモアレ縞データから被検物表面の形状を3次元測定する。 - 特許庁
As enlarging a measuring range by two-wavelength phase-shifting interferometry, it is therefore possible to reduce the effects of errors due to fringe order errors in its arithmetic processes and maintain original high accuracy in phase-shift interferometry.例文帳に追加
このため、2波長位相シフト干渉法により計測レンジを拡大しつつ、その演算過程における縞次数誤りによる誤差の影響を少なくし、位相シフト干渉法本来の高い精度を維持することができる。 - 特許庁
A stripe pattern A_k having a sine wave shape indispensable for three-dimensional shape measurement utilizing a phase shift method, and a space code pattern C_k for deciding a fringe order n of the stripe pattern A_k by coding a space are projected onto the measuring object simultaneously as a projection pattern P_k and imaged.例文帳に追加
位相シフト法を利用した3次元形状計測において必須となる正弦波状の縞パターンA_kと、空間をコード化して縞パターンA_kの縞次数nを確定するための空間コードパターンC_kとを投影パターンP_kとして被計測物に同時に投影して撮像する。 - 特許庁
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