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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > "ohmic electrodes"に関連した英語例文

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"ohmic electrodes"を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 62



例文

A n^--type SiC layer 2 and a p^+-type SiC layer 3 are formed sequentially on a n^+-type SiC substrate 1 whose main surface has an off angle θ, a guard ring 6 is formed around the device and a plurality of ohmic electrodes 4a are provided on the p^+-type SiC layer 3.例文帳に追加

主面がオフ角θを有するn^+型SiC基板1上に、n^-型SiC層2、p^+型SiC層3が順次形成され、素子周辺にガードリング6が形成されると共に、p^+型SiC層3上に、複数のオーミック電極4aが設けられている。 - 特許庁

The present invention relates to a semiconductor device and a method of manufacturing the semiconductor device, in which the semiconductor device is provided with: a nitride semiconductor layer including a channel layer; a Schottky electrode, containing indium 20, provided in contact with the nitride semiconductor layer; and ohmic electrodes 16, 18 provided in connection with the channel layer.例文帳に追加

本発明は、チャネル層を含む窒化物半導体層と、窒化物半導体層に接して設けられたインジウムを含むショットキ電極(20)と、チャネル層に接続して設けられたオーミック電極(16、18)と、を具備する半導体装置及びその製造方法である。 - 特許庁

The field effect transistor includes: a first semiconductor layer 19; a gate electrode 24 formed by means of a Schottky junction with the first semiconductor layer 19 on the first semiconductor layer 19; and ohmic electrodes 22, 23 formed on both sides of the gate electrode 24 on the first semiconductor layer 19.例文帳に追加

電界効果トランジスタは、第1の半導体層19と、第1の半導体層19の上に第1の半導体層19とショットキー接合して形成されたゲート電極24と、第1の半導体層19の上におけるゲート電極24の両側方に形成されたオーミック電極22、23とを備えている。 - 特許庁

This invention discloses the field effect transistor comprising a nitride semiconductor layer including a channel layer, a Schottky electrode 20 including a GZO layer 22 provided in contact with the nitride semiconductor layer and heat-treated under an inert gas atmosphere and ohmic electrodes 16 and 18 connected to the channel layer, and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、チャネル層を含む窒化物半導体層と、窒化物半導体層に接して設けられ不活性ガス雰囲気中で熱処理されたGZO層22を含むショットキ電極20と、チャネル層に接続して設けられたオーミック電極16、18と、を具備する電界効果トランジスタおよびその製造方法である。 - 特許庁

例文

This semiconductor device includes a first group III-V nitride semiconductor layer 12 and a second group III-V nitride semiconductor layer 13 having a large bandgap relative to that of the first group III-V nitride semiconductor layer 12, a third group III-V nitride semiconductor layer 21 having a p-type conductivity, and first ohmic electrodes 14, all of which are sequentially formed on a substrate 11.例文帳に追加

半導体装置は、基板11の上に順次形成された、第1のIII−V族窒化物半導体層12及び第1のIII−V族窒化物半導体12と比べてバンドギャップが大きい第2のIII−V族窒化物半導体層13と、p型の導電型を有する第3のIII−V族窒化物半導体層21と、第1のオーミック電極14とを備えている。 - 特許庁


例文

To provide an AlGaInP LED, which is of high brightness and capable of diffusing an operating current over the wide region of a light-emitting part, where the AlGaInP LED is equipped with a light-emitting layer, a III-V compound semiconductor layer, ohmic electrodes which are split and arranged, a light-transmitting window layer, and a wiring pedestal electrode.例文帳に追加

発光層、III−V族化合物半導体層、分割して配置されたオーミック電極、発光透過用の窓層、および結線用の台座電極を有するAlGaInP系発光ダイオードにおいて、動作電流を発光部の広範な領域に拡散し高輝度のAlGaInP系LEDを提供する。 - 特許庁

The information recording medium is characterized by having the recording layer (2) containing molecules with a charge transfer property, molecules with a nonlinear optical property and optically functional molecules whose three-dimensional structure changes with light irradiation and a pair of transparent ohmic electrodes (3a, 3b) sandwiching the recording layer and having conductance which is reduced on light irradiation.例文帳に追加

前記情報記録媒体は、電荷輸送性を有する分子、非線形光学特性を有する分子及び光照射により立体構造が変化する光機能分子を含有する記録層(2)と、前記記録層を挟持する一対の透明オーミック電極(3a,3b)とを有し、光照射時に伝導度が減少することを特徴とする。 - 特許庁

For example, an MMIC 100 in which an FET as an active element and an MIM capacitor are provided on a GaAs substrate 10 has a structure in which source and drain electrodes 16a, 16b as ohmic electrodes of the FET and the lower electrode 16c of the MIM capacitor are made of the same metal by simultaneously forming them.例文帳に追加

例えば、GaAs基板10上に、能動素子としてのFETと、MIMキャパシタとが設けられたMMIC100では、FETのオーミック電極たるソース・ドレイン電極16a・16bと、MIMキャパシタの下側電極16cとを同時に形成することにより、これらを同じ金属からなる構造とする。 - 特許庁

Ohmic electrodes 111, 112 and 113 are formed on the surfaces of the anode-electrode side heavily-doped, cathode-electrode side heavily- doped, and Schottky-electrode side heavily-doped semiconductor layers 105, 110 and 102, respectively, and at the same time, a Schottky electrode 115 is formed on the surface of the Schottky-electrode side lightly-doped semiconductor layer 103.例文帳に追加

アノード電極側高濃度半導体層105の表面およびカソード電極側高濃度半導体層110の表面、並びにオーミック電極側高濃度半導体層102の表面にそれぞれオーミック電極111,112,113を形成するとともに、ショットキー電極側低濃度半導体層103の表面にショットキー電極115を形成する。 - 特許庁

例文

On the active region 12A, there are formed a gate electrode 13 which has Schottky contact with the active region 12A, is extendingly formed on the insulating oxide film 12B and has a drawn portion 13a on the insulating oxide film 12B, and ohmic electrodes 14 which are spaced from both sides of the gate electrode 13 in a gate longitudinal direction to form a source electrode and a drain electrode, respectively.例文帳に追加

活性領域12Aの上には、該活性領域12Aとショットキ接触すると共に、絶縁酸化膜12Bの上に延びるように形成され該絶縁酸化膜12B上に引き出し部13aを有するゲート電極13と、該ゲート電極13のゲート長方向側の両側部と間隔をおき、それぞれがソース電極及びドレイン電極となるオーミック電極14とが形成されている。 - 特許庁

例文

The gas sensor is provided with a first semiconductor layer and a second semiconductor layer of different conductivity types, ohmic electrodes in contact with the respective semiconductor layers, and a catalyst layer provided on one surface of the ohmic electrode for dissociating a hydrogen atom from a molecule having the hydrogen atom, and the semiconductor layers in contact with the ohmic electrode provided with the catalyst layer has a specified thickness corresponding to a concentration of an impurity.例文帳に追加

本発明のガスセンサは、導電型の異なる第1半導体層及び第2半導体層と、各々の半導体層とそれぞれコンタクトしているオーミック電極と、これらのオーミック電極のうちのいずれか一方の表面に設けられ、水素原子を有する分子から水素原子を解離する触媒層と、を備え、触媒層が設けられたオーミック電極とコンタクトしている半導体層は、不純物濃度に応じた所定の膜厚を有する。 - 特許庁

例文

The diamond electron emitting element comprises a diamond substrate 1, a diamond n-type semiconductor layer 2 formed on the diamond substrate 1, a diamond p-type semiconductor layer 3 formed on the diamond n-type semiconductor layer 2, ohmic electrodes 4, 5 respectively formed on surfaces 2a, 3a of the diamond n-type semiconductor layer 2 and the diamond p-type semiconductor layer 3.例文帳に追加

ダイヤモンド下地基板1と、該ダイヤモンド下地基板1上に形成したダイヤモンドn型半導体膜2の層と、該ダイヤモンドn型半導体膜層上に形成したダイヤモンドp型半導体膜3の層と、前記ダイヤモンドn型半導体膜2の層及び前記ダイヤモンドp型半導体膜3の層のそれぞれの表面2a,3aに形成したオーミック電極4,5とにより、ダイヤモンド電子放出素子を構成した。 - 特許庁

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