「アミンイミド」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

（ａ）活性光線の照射により塩基を発生するアミンイミド化合物、および、（ｂ）ポリアミド酸エステルを含有してなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains (a) an amine imide compound which generates a base by irradiation of active ray, and (b) an ester of polyamide acid. - 特許庁

活性エネルギー線の照射により活性化するアミンイミド化合物、それを用いた組成物およびその硬化方法例文帳に追加

AMINIMIDE COMPOUND ACTIVATED BY ACTIVE ENERGY RAY IRRADIATION, COMPOSITION USING THE SAME AND METHOD FOR CURING THE SAME - 特許庁

（ａ）活性光線の照射により塩基を発生するアミンイミド化合物、および、（ｂ）ポリオキサゾール前駆体を含有してなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains (a) an amine imide compound which generates the base by irradiation of active rays, and (b) a polyoxazole precursor. - 特許庁

(a)活性光線の照射により塩基を発生するアミンイミド化合物、(ｂ)ポリアミド酸を含有してなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains (a) an aminimide compound which generates a base when irradiated with active light and (b) a polyamic acid. - 特許庁

本発明は、アミンイミド化合物に光照射をし、塩基を発生させる塩基の発生方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for generating a base by irradiating an aminimide compound with a light. - 特許庁

（Ａ）ポリオキサゾール前駆体、（Ｂ）放射線照射により酸を発生する化合物、および、（Ｃ）加熱により塩基を発生するアミンイミド化合物を含有してなる感光性樹脂組成物。例文帳に追加

The photosensitive resin composition contains: (A) a polyoxazole precursor; (B) a compound which generates an acid by irradiation of radiation; and (C) an amine imide compound which generates a base by heating. - 特許庁

分子中に１つ以上有するアミンイミド化合物（Ａ）が充分なエネルギー線（光）塩基活性を有する光塩基発生剤として有用であり、かつ樹脂への溶解性と低温硬化性に優れることを見出した。例文帳に追加

An amidimide compound (A) having at least one specific structure is useful as a photobase generator having sufficient energy ray (photo) base activity and excellent in solubility in resins and low-temperature curability. - 特許庁

本発明は、一般式（Ｉ）または一般式（II）で示されるアミンイミド化合物に１５０〜７５０ｎｍの光照射をし、塩基を発生させる塩基の発生方法：。例文帳に追加

By irradiating an aminimide compound of general formula (I) or (II) with a light of 150-750 nm, a base is generated. - 特許庁

アルコキシシリル基を有するエチレン性不飽和化合物と、アミンイミド基を有するエチレン性不飽和化合物と、カルボキシル基を有するエチレン性不飽和化合物とを必須成分とする水性アクリル樹脂を含むことを特徴とする水性印刷インキ組成物。例文帳に追加

The aqueous printing ink composition comprises containing an ethylenic unsaturated compound having an alkoxysilyl group; an ethylenic unsaturated compound having an amineimido group and an ethylenic unsaturated compound having a carboxy group as indispensable components. - 特許庁

加熱により十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリオキサゾール前駆体及び光酸発生剤と併用したポジ型感光性樹脂組成物、レリーフの製造方法及びそれを有する電子部品を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive resin composition containing an amine imide as a photobase generating agent which efficiently generates a sufficiently strong base by heating together with a polyoxazole precursor and a photoacid generating agent, and to provide a method for manufacturing a relief and electronic parts having the relief. - 特許庁

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリオキサゾール前駆体と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition containing an amine imide as a photobase generating agent which efficiently generates an enough strong base even with low exposure, together with a polyoxazole precursor, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film. - 特許庁

低露光量の活性光線であっても強塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸エステルと併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法および耐熱性塗膜の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive resin composition containing an amine imide together with an ester of polyamide acid as a photo-base generating agent which efficiently generates a strong base even with active ray of low exposure, and to provide a method for manufacturing a relief pattern and a method for manufacturing a heat-resistant coating film. - 特許庁

低露光量でも十分に強い塩基を効率よく発生する光塩基発生剤としてアミンイミドを、ポリアミド酸と併用した感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造方法及び耐熱性塗膜の製造方法を提供。例文帳に追加

To provide a photosensitive resin composition using an aminimide as a photo-base generator which efficiently generates a sufficiently strong base even under low light exposure in combination with a polyamic acid and to provide a method for producing a relief pattern and a method for producing a heat resistant coating. - 特許庁