「コンマス」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

この場合、ＤＬＣ膜４２の除去時間と、シリコンマスク５０ａの除去時間とがほぼ等しくなるか、あるいは、ＤＬＣ膜４２の除去時間よりも、シリコンマスク５０ａの除去時間の方が若干長くなるように、混合ガスの組成を定めるのが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the composition of mixed gas be decided, so that the removing time of the DLC film 42 and that of the silicon mask 50a become almost equal, or the removing time of the silicon mask 50a becomes slightly longer than that of the DLC film 42. - 特許庁

次に、テトラフルオロカーボン（ＣＦ_４）と酸素との混合ガスを用いて、反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）により、シリコンマスク５０ａとＤＬＣ膜４２とを同時にエッチングする。例文帳に追加

Then, a silicon mask 50a and the DLC film 42 are simultaneously etched through reactive ion etching (RIE), by using the mixed gas of tetrafluorocarbon (CF4) and oxygen. - 特許庁

ウエハ４０表面に形成されたポールチップ２０の周囲にＤＬＣ膜４２を形成し、その上に、テーパ断面を有するシリコンマスク５０ａを形成する。例文帳に追加

A DLC film 42 is formed around a pole chip 20 formed on the surface of the wafer 40, and a silicon mask 50a, having a taper cross section, is formed on the film. - 特許庁

シリコンマスクを形成するエッチング処理時に、エッチング処理を最適な時期に終了させることが容易なマスク、及びマスクの製造方法を提案する。例文帳に追加

To provide a mask with which ending of etching treatment is easy during the etching treatment to form a silicon mask and a production method of the mask. - 特許庁

これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。例文帳に追加

Herewith, fabrication of the silicon mask 11M to the glass substrate 12 is facilitated, fabrication processes can be simplified because bonding work after forming the mask is dispensable and thereby workability can be improved. - 特許庁

これにより、ガラス基板１２に対するシリコンマスク１１Ｍの作製を容易に行うことができるとともに、マスク形成後の接合作業を廃止できるので加工プロセスを簡素化でき、作業性の向上を図ることが可能となる。例文帳に追加

Herewith, fabrication of the silicon mask 11M to the glass substrate 12 is facilitated, fabrication processes can be simplified because bonding work after forming the mask is dispensable and thereby workability can be improved. - 特許庁

被加工膜に対するマスク性が劣化することのない有機シリコンマスクを形成することを可能とする、パターン形成方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for forming patterns by which the formation of an organic silicon mask retaining a masking property to a film to be processed without being deteriorated is made possible. - 特許庁

被成膜基板に対して所定パターンを有する薄膜を形成するためのシリコンマスクＭが、シリコン基材Ｓ上に、所定パターンに対応する開口部２０と、開口部２０を形成する際の形成状態を検知可能な検知部１５と、を備える。例文帳に追加

The silicon mask M for depositing a thin film having a prescribed pattern for a substrate to be formed with the film has an opening 20 corresponding to the prescribed pattern and a detection section 15 where the forming state when forming the opening 20 is detectable on a silicon base material S. - 特許庁

結晶性ポリエチレン樹脂、石油樹脂及びＰＰワックスをベースとし、これに炭酸カルシウム、タルク等の無機物フィラー、又は、融点１５０℃以下の有機物フィラーを５〜２０重量部、並びに、シリコンマスターバッチを０．１〜１．０重量部添加した。例文帳に追加

The moisture-proof composition is obtained by using a crystalline polyethylene resin, a petroleum resin and a PP wax as a base, and adding 5-20 pts.wt. inorganic filler such as calcium carbonate and talc, or organic filler having ≤150°C melting point, and 0.1-1.0 pt.wt. silicone master batch thereto. - 特許庁