| 例文 (10件) |
プレーナ工程の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 10件
エアゾール工程を用いたプレーナ型光導波管及びその製造方法例文帳に追加
PLANAR OPTICAL WAVEGUIDE USING AEROSOL PROCESS AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁
エアゾール工程を用いたプレーナ型光増幅素子及びその製造方法例文帳に追加
PLANAR TYPE LIGHT AMPLIFYING ELEMENT USING AEROSOL PROCESS AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁
エアゾール工程を用いてプレーナ型光導波管の光伝搬層を形成することによって、コア及びオーバークラッド層の屈折率、溶融温度及び熱的プロセス温度を容易に制御し得るプレーナ型光導波管及びその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a planar optical waveguide in which the refractive index, the melting temperature and the thermal process temperature of the core and the over clad layer can be easily controlled by forming a light propagating layer of the planar optical waveguide by using an aerosol process, and to provide a method for manufacturing the optical waveguide. - 特許庁
プレーナＣＭＯＳトランジスタを形成する方法は、ゲート層を形成する工程を、ゲート層パターンの第一の部分でレジスト層をパターン形成し、次にゲートのパターンで多結晶シリコンをエッチングする第一の工程に分割する。例文帳に追加
The method of forming a planar CMOS transistor divides the step of forming the gate layer into a first step of patterning a resist layer with a first portion of the gate layer pattern and then etching the polysilicon with the pattern of the gates. - 特許庁
それぞれが適した閾値を有するフィン型ＭＯＳＦＥＴとプレーナ型ＭＯＳＦＥＴが混載され、且つ少ない工程で製造することができる半導体装置を提供する。例文帳に追加
To provide a semiconductor device on which a fin type MOSFET and a planar type MOSFET having respectively suitable thresholds are mixedly mounted and which can be manufactured through a small number of processes. - 特許庁
リッジ導波路を有する従来の導波路型光素子の欠点を克服し、樹脂工程などを用いずに電極とパッドとをプレーナ状に接続できる導波路型光素子を提供することを目的とする。例文帳に追加
To provide a waveguide type optical element wherein defects of the conventional waveguide type optical element having a ridge waveguide are conquered and an electrode and a pad can be connected in a planar shape without using a resin process or the like. - 特許庁
エアゾール工程を用いてエルビウムの均一にドープされた低価高機能性のプレーナ型光増幅素子及びその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide an inexpensive planar type light amplifying element with high functionality in which erbium is uniformly doped by using an aerosol process and a method for manufacturing this light amplifying element. - 特許庁
共振周波数が狙い値よりはずれても後工程で良品化が可能なプレーナー型ガルバノミラー及びその製造方法を提供する。例文帳に追加
To provide a planar type galvano-mirror the resonance frequency of which can be corrected in a post-process even when the resonance frequency deviates from the target value, and to provide a method for manufacturing the same. - 特許庁
シリコン基板１０上にアンダークラッド層２０を被着し、エアゾール工程を用いてアンダークラッド層２０上にコア層を被着し、このコア層をエッチングしてコア３０を生成し、エアゾール工程を通じてアンダークラッド層２０及びコア３０上にオーバークラッド層４０を形成することによって、プレーナ型光導波管が製造される。例文帳に追加
The planar optical waveguide is manufactured by depositing an under clad layer 20 on a silicon substrate 10, depositing a core layer on the under clad layer 20 by using an aerosol process, etching the core layer to produce the core 30, and forming the over clad layer 40 on the under clad layer 20 and on the core 30 in an aerosol process. - 特許庁
本発明の製造方法は、プレーナ型受光素子の高耐圧用パシベーション膜として半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜を有する双方向フォトサイリスタの製造方法であって、半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜の屈折率を測定する工程と、測定した屈折率に基き半絶縁性酸素ドープ多結晶シリコン膜の酸素濃度を推定する工程とを備える。例文帳に追加
The method of manufacturing a bidirectional photo thyristor having a semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film as a high voltage withstanding passivation film of a planar type light receiving device comprises a step of measuring the refractive index of the semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film, and a step of estimating the oxygen concentration of the semiinsulating oxygen-doped polycrystalline silicon film, based on the measured refractive index. - 特許庁
| 例文 (10件) |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
検索履歴を保存できる！|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
