「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

位相シフト差動プッシュプル・トラッキングのための位相シフト回折格子例文帳に追加

PHASE SHIFT GRATING FOR PHASE SHIFT DIFFERENTIAL PUSH-PULL TRACKING - 特許庁

位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び露光方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

位相シフトマスクおよびその位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および、装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND DEVICE - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THESE - 特許庁

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びそれらの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK BLANK, PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

位相シフトマスクの修正方法と位相シフトマスクの修正装置例文帳に追加

CORRECTING METHOD OF PHASE SHIFT MASK AND CORRECTING DEVICE OF PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクを製作するための方法および位相シフトマスク例文帳に追加

METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスク加工用位相シフト量測定方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING PHASE SHIFTING AMOUNT FOR WORKING PHASE SHIFTING MASK - 特許庁

位相シフトマスク検査装置及び位相シフトマスク検査方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK BLANK, AND METHOD FOR PRODUCING PHASE SHIFTING MASK - 特許庁

位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクの検査方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

位相シフタ２２ｂの位相シフト量は−π／４である。例文帳に追加

The phase shift amount of the phase shifter 22b is -π/4. - 特許庁

アシスト位相領域を有する位相シフトマスク例文帳に追加

PHASE-SHIFT MASK WITH ASSIST PHASE REGION - 特許庁

位相シフトマスクの位相差測定方法および装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASUREMENT OF PHASE DIFFERENCE OF PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフト制御部３２は、電気信号にもとづいて位相制御信号を生成し、位相制御信号を位相シフト部１ａ−３に与えて、位相シフト部１ａ−３で設定すべき位相シフト量を制御する。例文帳に追加

A phase shift controller 32 generates a phase control signal based on the electric signal and applies the signal to the shifter 1a-3 to control the phase shift amount to be set by the shifter 1a-3. - 特許庁

位相シフト回路２１１Ａは０度、位相シフト回路２１１Ｂは４５度、位相シフト回路２１１Ｃは９０度とシフトし、順に位相シフト回路２１１Ｈまで回転角度に応じてシフトする。例文帳に追加

The phase shift circuit 211A performs phase shift at 0°, the phase shift circuit 211B performs phase shift at 45° and the phase shift circuit 211C performs phase shift at 90°, and phases are shifted to the phase shift circuit 211H in order in accordance with a rotation angle. - 特許庁

クロムレス位相シフトマスク用フォトマスクブランク、クロムレス位相シフトマスク、及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

PHOTOMASK BLANK FOR CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING CHROMELESS PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK, AND EXPOSURE METHOD USING THE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクス及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD - 特許庁

位相シフトマスク用ブランクスの製造方法、位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク用ブランクス例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND BLANK FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PRODUCTION OF HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの作製方法、位相シフトマスクによるパターン露光方法例文帳に追加

METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD BY PHASE SHIFT MASK - 特許庁

本発明の他の態様において、透明媒体に位相シフト領域が形成され、位相シフト領域の両側に非位相シフト領域がある。例文帳に追加

Further, a phase shift region in formed in a transparent medium with non-phase shift regions at both sides of the phase shift region. - 特許庁

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクの製造方法、及びパターン転写方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

位相シフタ２０は、補正位相角を規定するための位相シフト信号を形成するために、受信信号の位相情報をシフトする。例文帳に追加

A phase shifter 20 shifts the phase information o f a received signal for forming a phase shift signal for specifying a corrected phase angle. - 特許庁

４５゜位相信号発生回路１４は、位相シフト制御信号Ｃ１を受けたときに位相を４５゜シフトさせる位相信号Ｐ２を出力する。例文帳に追加

When receiving the phase shift control signal C1, a 45° phase signal generation circuit 14 outputs a phase signal P2 which shifts the phase at 45°. - 特許庁

位相シフト量設定方法、並びに、位相シフト型のフォトマスク及びその作製方法例文帳に追加

METHOD FOR SETTING PHASE SHIFT AMOUNT, AND PHASE SHIFT PHOTOMASK AND METHOD FOR FABRICATING PHOTOMASK - 特許庁

位相シフトフォトマスクブランクス及び位相シフトフォトマスク並びに半導体装置の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

レベンソン位相シフトマスク１０に代えてシフタエッジ位相シフトマスク使用することができる。例文帳に追加

A shifter edge phase shift mask may be used in place of the mask 10. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK AND BLANK FOR THE SAME - 特許庁

３つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK HAVING THREE DIFFERENT PHASE SHIFT REGION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトフォトマスクの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT PHOTOMASK - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びに半導体素子の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位相シフト回路２１１Ａ〜２１１Ｈは、各マイクアレイの設置位置に応じて位相シフトする。例文帳に追加

The phase shift circuits 211A-211H perform phase shift in accordance with positions at which the microphone arrays are installed. - 特許庁

位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁