「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

また、メモリアドレスが所定の値の場合には、位相データを用いて画素クロックの位相をシフトする。例文帳に追加

When the memory address is a prescribed value, a phase of the pixel clock is shifted by using phase data. - 特許庁

位相シフト素子の寸法上の要件を軽減する位相差電子顕微鏡を提供する。例文帳に追加

To provide a phase difference electron microscope capable of alleviating the dimensional requirement of a phase shift element. - 特許庁

位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER - 特許庁

半導体集積回路は、位相シフト部と、複数の位相一致検出回路と、出力部とを備える。例文帳に追加

A semiconductor integrated circuit is provided with a phase shift unit, a plurality of phase coincidence detection circuits, and an output unit. - 特許庁

このチェッカーボードアレイは、１８０度の位相差を有する交互位相シフト領域Ｒを有している。例文帳に追加

The checkerboard array comprises alternating phase-shift regions R that have a relative phase difference of 180 degrees. - 特許庁

位相シフトマスクの検査方法において露光光の位相差の計測精度を向上させること。例文帳に追加

To improve the precision in measuring the phase difference of exposure light, in a phase-shift mask inspection method. - 特許庁

高周波位相変調器における位相シフトの高精度測定装置および方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR HIGHLY ACCURATELY MEASURING PHASE SHIFT IN HIGH-FREQUENCY PHASE MODULATOR - 特許庁

この誤差信号は、位相同期ループの位相シフト入力に供給される。例文帳に追加

The error signal is fed to a phase shifting input of a phase lock loop. - 特許庁

位相補正回路５は、基準無効信号１０２に基づいて位相シフトを補正する。例文帳に追加

A phase correction circuit 5 corrects the phase shift on the basis of a reference reactive signal 102. - 特許庁

任意の位相シフトが実現される光位相変調器を利用した独特なエンコーダが用いられた。例文帳に追加

A unique optical encoder is employed that utilizes an optical phase modulator, in which an arbitrary phase shift can be realized. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びこれを作製するためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK AND BLANK FOR HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK FOR PRODUCING SAME - 特許庁

位相シフト型フォトマスクの製造方法、位相シフト型フォトマスク、半導体装置の製造方法及び半導体装置例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT PHOTOMASK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位相シフトフォトマスクブランクス、位相シフトフォトマスク及びそれらの製造方法、並びに該ブランクスの製造装置例文帳に追加

PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, THEIR FABRICATION AND EQUIPMENT FOR FABRICATION OF THE SAME PHOTOMASK BLANK - 特許庁

ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びそのためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス並びにこれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

HALF-TONE PHASE-SHIFTING PHOTOMASK, BLANKS FOR HALF-TONE PHASE-SHIFTING PHOTOMASK THEREFOR AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

一実施形態では、位相シフト処理を使用して製造される構成要素を含む第１のマスク（例えば位相シフトマスク）を製造する。例文帳に追加

In one embodiment, a first mask (a phase shift mask, for example) is generated that includes the component to be manufactured using the phase shifting process. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法。例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びその位相シフトマスク及びそのマスクを用いた半導体装置の製造方法例文帳に追加

BLANK FOR HALFTONE VERSION PHASE SHIFT MASK, ITS PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK - 特許庁

各マイクアレイが出力する音声信号を位相シフト回路２１１Ａ〜２１１Ｈで位相シフトし、加算器２１２で合成する。例文帳に追加

Audio signals outputted by microphone arrays are phase-shifted by phase shift circuits 211A-211H and combined by an adder 212. - 特許庁

ブラシレスモータを９０°位相シフト法と３０°位相シフト法を用いて回転制御する際に、切り換えを滑らかに行う。例文帳に追加

To perform switching smoothly when rotation of a brushless motor is controlled using 90° phase shift method and 30° phase shift method. - 特許庁

フォトマスクブランクを位相シフト型のものとする場合には、成膜用基板と遮光性膜との間に位相シフト層を成膜する。例文帳に追加

When a phase shift type photomask blank is required, a phase shift layer is formed between the film forming substrate and the light shielding film. - 特許庁

そして、位相シフト部１８における位相シフト量をλ／ｎ（ただし、λは発振波長、ｎ＞４）、例えばλ／８（ｎ＝８）に相当する量とする。例文帳に追加

A phase shift made through the phase shifter 18 is equivalent to λ/n (where λis oscillation wavelength, n>4), for instance, λ/8 (n=8). - 特許庁

高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask and a phase shift mask blank capable of high precision patterning and high in acid resistance and reliability. - 特許庁

基板とこの基板に形成される複数の位相シフトパターンとを有する位相シフトマスクを開示する。例文帳に追加

The phase shift mask has a substrate and a plurality of phase shift patterns formed on the substrate. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

光位相シフトフィルム３１０は、光位相シフトフィルムベース３１１と、その上に位置する凸型表面を含む積層構造である。例文帳に追加

An optical phase shifting film 310 is an integrated structure which includes a light-phase-shifting-film base 311 and a convex surface positioned thereon. - 特許庁

位相シフト量の変動が少ないλ／４位相シフト分布帰還型半導体レーザ素子の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a λ/4 phase shift distribution feedback type semiconductor laser element which is less in the fluctuation of phase shift amount. - 特許庁

さらに、ハーフトーン型位相シフトマスクブランクス１０をパターニング処理してハーフトーン型位相シフトマスク２０を得る。例文帳に追加

The halftone phase shift mask 20 is obtained by patterning the halftone phase shift mask blank 10. - 特許庁

パターン形成方法、半導体装置の製造方法、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの設計方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

第２の位相シフトクロック生成回路７は、第１の位相シフトクロック生成回路と同様に第２のクロックを生成する。例文帳に追加

A second phase shift clock generating circuit 7 generates second clocks in the same way as the first phase shift clock generating circuit does. - 特許庁

位相シフトマスク、位相シフトマスクを用いたパターンの形成方法および電子デバイスの製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR FORMING PATTERN BY USING PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

トリム・マスクを使用する必要なしに交互位相シフト・マスクから印刷可能交互位相シフト欠陥をなくす様々な方法を提供すること。例文帳に追加

To provide various methods which eliminate printable alternate phase shift defects from an alternate phase shift mask without the need for using a trim mask. - 特許庁

位相シフト部１３は、１／Ｐ分周された信号の位相をシフトして、複数の異なるＱ相の信号を出力する。例文帳に追加

A phase shifter 13 shifts the phase of the 1/P frequency signal and outputs a plurality of different Q-phase signals. - 特許庁

これにより出力信号Ｓｏは、ユーザーが設定する位相シフト量に従ってその位相がシフトする。例文帳に追加

Thus, the phase of the output signal So is shifted in accordance with the phase shift set by the user. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

第１の位相シフト器３１は、２値化信号の位相をシフトさせて、同期検波用のタイミング信号として出力する。例文帳に追加

The first phase shifter 31 shifts the phase of the binary signal to output it as the timing signal for the synchronous detection. - 特許庁

位相シフトマスクの作製装置及び作製方法並びに位相シフトマスクを使用するパターン形成方法例文帳に追加

APPARATUS FOR MANUFACTURING PHASE SHIFTING MASK, METHOD THEREFOR AND PATTERN FORMING METHOD USING PHASE SHIFTING MASK - 特許庁

スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

半遮光部形成領域の透過性基板１０上に下層位相シフト膜１１と上層位相シフト膜１２とが積層されている。例文帳に追加

The lower layer phase shift film 11 and an upper layer phase shift film 12 are layered on the light transmitting substrate 10 in the region where the half-shielding part is formed. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク並びにその製造方法例文帳に追加

BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND PRODUCTION METHOD THEREFOR - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトフォトマスクブランクとハーフトーン型位相シフトフォトマスク及びその製造方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift photomask blank, a halftone phase shift photomask, and a fabricating method thereof. - 特許庁

位相シフト領域と非位相シフト領域の間の遷移だけで、ウェハ上のパターンを画定するため、マスク上の不透明構造は不要となる。例文帳に追加

The transition between the phase shift region and non-phase shift region alone defines a pattern on the wafer, without the need for an opaque structure on the mask. - 特許庁

改良された位相シフトリソグラフィと、狭いトラック幅Ｄの書き込み極を画定するためのハーフトーン位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide an advanced phase shift lithography and attenuated phase shift mask for narrow track width D write pole definition. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法、並びにパターン転写方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFTING MASK, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

半遮光部形成領域の透過性基板１０上に下層位相シフト膜１１と上層位相シフト膜１２とが積層されている。例文帳に追加

The lower-layer phase shift film 11 and an upper-layer phase shift film 12 are laminated on the transmissive substrate 10 in a light half-shielding part formation area. - 特許庁