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「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 位相シフトの意味・解説 > 位相シフトに関連した英語例文

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位相シフトの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1884



例文

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

残余周波数シフトの存在における位相推定例文帳に追加

PHASE ESTIMATION IN EXISTENCE OF RESIDUAL FREQUENCY SHIFT - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

強い位相シフトマスクを製造する方法例文帳に追加

PRODUCTION OF STRONG PHASE-SHIFT MASK - 特許庁

例文

位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法例文帳に追加

METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK - 特許庁


例文

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND BLANK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクスの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK - 特許庁

露光方法および位相シフトマスク例文帳に追加

METHOD FOR EXPOSURE AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

例文

光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク例文帳に追加

VORTEX PHASE SHIFT MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY - 特許庁

例文

位相シフトマスク及びパターン形成方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁

位相シフトマスクおよびパターン形成方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN - 特許庁

位相シフト法による計測方法と装置例文帳に追加

MEASUREMENT METHOD AND DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD - 特許庁

基板上に、少なくとも位相シフト膜とメタル含有膜を有する位相シフトマスクブランクであって、該位相シフト膜と該メタル含有膜の密着性を向上した位相シフトマスクブランクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask blank having at least a phase shift film and a metal-containing film on a substrate and to provide a phase shift mask blank in which the adhesion property between the phase shift film and the metal-containing film is improved. - 特許庁

位相シフトマスクブランク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK BLANK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

位相シフト法による三次元形状測定装置例文帳に追加

THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD - 特許庁

ヘイズ防止のための位相シフトマスク例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK FOR PREVENTING HAZE - 特許庁

マスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク例文帳に追加

MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND MASK BLANK - 特許庁

位相シフトマスク及びパターン形成方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

パターン形成方法及び位相シフトマスク例文帳に追加

PATTERN FORMING METHOD AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

信号中の位相シフトを決定する方法例文帳に追加

METHOD FOR DETERMINING PHASE SHIFT IN SIGNAL - 特許庁

新規な構造を有する位相シフトマスクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask having a new structure. - 特許庁

遮光領域つきハーフトーン型位相シフトマスク例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK WITH SHADING REGION - 特許庁

基板上に、少なくとも位相シフト膜とメタル含有膜を有する位相シフトマスクブランクであって、該位相シフト膜と該メタル含有膜の密着性を向上した位相シフトマスクブランクを提供する。例文帳に追加

To provide a phase shift mask blank which has at least a phase shift film and a metal-containing film on a substrate and has an enhanced adhesive strength between the phase shift film and the metal-containing film. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥検査装置例文帳に追加

DEFECT INSPECTION APPARATUS OF PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスク用データ補正方法例文帳に追加

DATA CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK - 特許庁

自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトヌルバーストパターンのための方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR PHASE-SHIFT NULL-BURST-PATTERN - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

高性能回路用交互位相シフト・マスクの設計例文帳に追加

DESIGN OF ALTERNATING PHASE SHIFT/MASK FOR HIGH PERFORMANCE CIRCUIT - 特許庁

位相シフトマスクを用いたリソグラフ法例文帳に追加

LITHOGRAPHY METHOD USING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクおよび集光素子の製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING LIGHT CONDENSING ELEMENT - 特許庁

偏光ビームスプリッター膜の位相シフト調整方法例文帳に追加

PHASE SHIFT ADJUSTING METHOD FOR POLARIZING BEAM SPLITTER FILM - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフタの位相シフト量を一層正確に測定できる位相シフト量測定装置を実現することにある。例文帳に追加

To achieve a phase shift amount measuring apparatus capable of further correctly measuring the phase shift amount of a phase shifter. - 特許庁

位相シフト回路22は、正弦波発生回路20の出力する正弦波の位相をπ/2だけシフトして位相変調器18に印加する。例文帳に追加

A phase shift circuit 22 shifts the phase of the sine wave outputted by the sine wave generating circuit 20 by π/2 for applying it to a phase modulator 18. - 特許庁

下層位相シフト膜11及び上層位相シフト膜12はそれぞれ、開口部を基準として露光光を反対位相で透過させる。例文帳に追加

The lower-layer phase shift film 11 and the upper-layer phase shift film 12 transmit exposure light with opposite phases with the aperture part as a reference. - 特許庁

磁気軸受制御時には、記憶部306に記憶した位相位相シフト部321の位相シフト量に設定して制御を行う。例文帳に追加

The phase stored in the storage part 306 is determined as a phase shifting quantity of the phase shifting part 321 to perform the control, in controlling the magnetic bearing. - 特許庁

位相差制御部34は、フィルタ32の出力信号のパワーを最小化するように位相シフト部19の位相シフト量を調整する。例文帳に追加

A phase difference controller 34 adjusts the phase shift amount of the phase shift part 19 to minimize the power of the output signal of the filter 32. - 特許庁

位相シフト部72は、第2シフトレジスタ部76に記憶された値に応じて、乗算部68の乗算結果を位相シフトする。例文帳に追加

A phase shift part 72 performs phase shift of a multiplication result of the multiplication part 68 according to values stored in the second shift register 76. - 特許庁

基板及び前記基板上に形成された位相シフトパターンを有する位相シフトマスクを修理する方法において、位相シフトマスクの露出された表面に保護膜を形成する段階S42と、位相シフトマスクを洗浄する段階S43と、を含むことを特徴とする位相シフトマスクの修理方法。例文帳に追加

The method of repairing a phase shift mask, comprising a substrate and a phase shift pattern formed on the substrate includes a step S42 of forming a protective film on the exposed surfaces of the phase shift mask and a step S43 of cleaning the phase shift mask. - 特許庁

製造プロセスの早い段階で位相シフト層に生じた欠陥の発見を可能とする、位相シフトマスクの製造方法、その位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスク、および、その位相シフトマスクにより製造された装置を提供する。例文帳に追加

To provide a method of manufacturing a phase shift mask which makes the discovery of the defect produced in a phase shift layer possible in an early stage of a manufacturing process, a phase shift mask manufactured by this method for manufacturing the phase shift mask and a device manufactured by the phase shift mask. - 特許庁

位相シフト装置(32)は位相シフト変圧器を備え、信号が合成される際に交互の出力(28)のノイズ成分が逆位相となりほぼ完全に互いを相殺するように、180°の位相シフトを導入する。例文帳に追加

The phase shift device (32) prepares a phase shift transformer which carries out a phase shift of 180° so that the components of the alternative output (28) become inverse, and nearly completely cancel each other when they are composed. - 特許庁

遮光層及び位相シフト層の黒欠陥のない、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層の厚み低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask having no black defect in a light shielding layer or in a phase shift layer and no decrease in the transmittance due to gallium stain, and no change in the phase difference due to a decrease in the thickness of the phase shift layer. - 特許庁

位相シフト値を指定する操作子(摘まみ)と、操作子により指定された位相シフト値に基づいて位相調整を行う位相シフト回路と、を設ける。例文帳に追加

The sound adjusting console is provided with an operating knob (knob) for designating a phase shift value and a phase shift circuit for performing phase adjustment on the basis of a phase shift value designated by the operating knob. - 特許庁

例文

基準クロックの位相をそのパルス幅の1/n幅ずつシフトして、n個の位相シフトパルスを出力し、各位相シフトパルスのうちの2つの位相シフトパルスを入力して、両者の位相差から微小幅パルスを生成する。例文帳に追加

A phase of a reference clock is shifted by 1/n width of a pulse width, n pieces of phase shift pulse are output, two phase shift pulses among each phase shift pulse are input, and a micro-width pulse is generated from a phase difference of both pulses. - 特許庁

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