「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

位相シフトマスクの製造方法および位相差測定方法例文帳に追加

PRODUCTION OF PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING PHASE DIFFERENCE - 特許庁

異なった位相差を持つレベンソン型位相シフトマスク２２を作成する。例文帳に追加

A Levenson-type phase shift mask, having different phase difference, is manufactured. - 特許庁

これにより、位相シフタ２０の位相シフト量が調整され、位相エラーが減少される。例文帳に追加

Thus, the phase shift quantity of the phase shifter 20 is controlled, and phase errors are decreased. - 特許庁

位相ずれ量測定装置及び位相ずれ量測定方法並びに位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING AMOUNT OF PHASE SHIFT AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

微細な量の位相シフトが可能であるがシフト可能な位相量が小さい位相シフタ１４と、粗い量（例えばπ／２単位）の位相シフトのみが可能であるがシフト可能な位相量が大きいπ／２位相シフタ１８とを組み合わせて位相補正を行う。例文帳に追加

The phase correction device executes phase correction by combining a phase shifter 14 capable of executing phase shift of a fine amount but of which the shiftable phase amount is small and a π/2 phase shifter 18 capable of executing phase shift of a rough amount (e.g. a π/2 unit) but of which the shiftable phase amount is large. - 特許庁

フォトマスク、位相シフトマスク、露光装置例文帳に追加

PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE APPARATUS - 特許庁

フォトマスクブランク及び位相シフトマスク例文帳に追加

PHOTOMASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK - 特許庁

位相シフト分布帰還型半導体レーザ例文帳に追加

PHASE SHIFT DISTRIBUTION FEEDBACK TYPE SEMICONDUCTOR LASER - 特許庁

位相シフトフォトマスクの洗浄方法および洗浄装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CLEANING PHASE SHIFT PHOTOMASK - 特許庁

フォトマスク、位相シフトマスク、およびその作製方法例文帳に追加

PHOTOMASK, PHASE-SHIFT MASK AND THEIR PRODUCTION - 特許庁

描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK HAVING ALIGNMENT MARK FOR DRAWING - 特許庁

透過型位相シフトフォトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFT PHOTOMASK - 特許庁

分散位相シフト構造分布帰還型半導体レーザ例文帳に追加

DISPERSED PHASE SHIFT STRUCTURE DISTRIBUTED FEEDBACK SEMICONDUCTOR LASER - 特許庁

フィゾー型の位相シフト干渉計を提供する。例文帳に追加

To provide a Fizeau type phase shift interferometer. - 特許庁

超高透過率の位相シフト型のマスクブランク例文帳に追加

PHASE SHIFT TYPE MASK BLANK OF SUPER-HIGH TRANSMISSION RATIO - 特許庁

位相シフトマスクの設計方法および設計装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法と半導体装置例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND SEMICONDUCTOR APPARATUS - 特許庁

位相シフト量測定装置及び透過率測定装置例文帳に追加

PHASE SHIFT AMOUNT MEASURING APPARATUS AND TRANSMITTANCE MEASURING APPARATUS - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

位相シフトマスクおよびその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

位相シフトマスクおよびその設計方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND ITS DESIGN METHOD - 特許庁

マスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びマスク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND MASK - 特許庁

位相シフトフォトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING PHOTOMASK AND METHOD OF FABRICATING THE SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク例文帳に追加

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND MASK BLANK - 特許庁

位相シフト干渉法に基づく光ファイバー検定装置例文帳に追加

OPTICAL FIBER ASSAY APPARATUS BASED ON PHASE-SHIFT INTERFEROMETRY - 特許庁

位相シフトマスク及びその作製方法例文帳に追加

PHASE SHIFTING MASK AND ITS FABRICATION METHOD - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその検査方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS INSPECTION METHOD - 特許庁

マイクロ構造光位相シフトフィルムとレンズ例文帳に追加

MICROSTRUCTURE OPTICAL PHASE SHIFTING FILM AND LENS - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK AND BLANK - 特許庁

位相シフトマスクのひさし量測定方法例文帳に追加

EAVES QUANTITY MEASURING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁

レベンソン型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

LEVENSON TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME - 特許庁

位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME - 特許庁

位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトデジタルホログラフィ装置例文帳に追加

PHASE SHIFT DIGITAL HOLOGRAPHY DEVICE - 特許庁

露光方法及びハーフトーン型位相シフトマスク例文帳に追加

EXPOSURE METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

活性層分離型位相シフトＤＦＢレーザ例文帳に追加

ACTIVE LAYER DISCRETE TYPE PHASE SHIFT DFB LASER - 特許庁

自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法例文帳に追加

SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスク及びそれを用いた露光方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD USING THE SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥修正方法例文帳に追加

DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁