「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

送信器と受信器との間の位相シフトを補正する方法及び装置例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTING PHASE SHIFT BETWEEN TRANSMITTER AND RECEIVER - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、及びパターン転写方法例文帳に追加

METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD - 特許庁

位相シフト法による形状測定方法及び測定装置例文帳に追加

SHAPE MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD - 特許庁

位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法例文帳に追加

PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK - 特許庁

第１位相シフト部４８は、希望波周波数信号２００を生成する。例文帳に追加

A first phase shift section 48 generates a desired wave frequency signal 200. - 特許庁

半導体装置の製造で用いられる位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時の処理アライメントの決定方法、位相シフトマスクの製造における位相シフト領域の形成時のフォトレジストパターンアライメントの決定方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for determining process alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask to be used for the manufacture of a semiconductor device, and to provide a method for determining photoresist pattern alignment when a phase shift region is formed in the manufacture of a phase shift mask. - 特許庁

位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置例文帳に追加

DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME - 特許庁

位相シフトを与える位置は、両固定間の他適当な場所でよい。例文帳に追加

The position where the fiber is given the phase shift may be other suitable place between both fixed positions. - 特許庁

位相シフト・ホトリソグラフイック・マスクのレイアウト及び設計例文帳に追加

DESIGN AND LAYOUT OF PHASE SHIFTING PHOTOLITHOGRAPHIC MASK - 特許庁

入力側の位相シフト３０とサンプリング回路４０をテストするために、出力側の位相シフト回路２０においてＤＱとＤＱＳの位相をそろえて出力し、ＤＱＳは位相シフト回路３０で９０度シフトされ、サンプリング回路４０でＤＱがサンプルされる。例文帳に追加

In order to test the phase shift circuit 30 and the sampling circuit 40 of an input side, phases of DQ and DQS are adjusted and output in the phase shift circuit 20 of an output side, the DQS is shifted by 90 degrees by the phase shift circuit 30, and the DQ is sampled by the sampling circuit 40. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクブランク及びその製造方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SANE - 特許庁

ＥＵＶ露光用反射型位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION-TYPE PHASE SHIFT MASK FOR EUV LIGHT EXPOSURE - 特許庁

位相シフトマスクおよびその製造方法およびパターン転写方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク、露光方法及び露光装置例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFTING MASK, EXPOSURE METHOD, AND ALIGNER - 特許庁

第２位相シフト部５４は、妨害波周波数信号２０２を生成する。例文帳に追加

A second phase shift section 54 generates a interference wave frequency signal 202. - 特許庁

効率よく被測定信号の位相シフト量を測定する。例文帳に追加

To efficiently measure the phase shift amount of the signal to be measured. - 特許庁

ヒータ２１２での位相シフト量は制御部５０によって制御される。例文帳に追加

A phase shift amount in the heater 212 is controlled by a control unit 50. - 特許庁

位相シフトマスクブランク及びその製造方法、並びに積層体例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME, AND LAMINATE - 特許庁

そして、位相シフト命令である制御データＤ_pcを端末装置に送る。例文帳に追加

With a phase shift instruction, control data Dpc are sent to the terminal device. - 特許庁

透明膜の段差の測定方法及び位相シフトマスクの作成方法例文帳に追加

METHOD FOR MEASURING STEP ON TRANSPARENT FILM AND METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK - 特許庁

位相シフトマスク（１０４）を製作するための方法（１１００）を提供する。例文帳に追加

To provide a method (1100) for fabricating a phase shift mask (104). - 特許庁

周波数シフトフリー位相共役器及びそれを用いた通信システム例文帳に追加

FREQUENCY SHIFT FREE PHASE CONJUGATOR AND COMMUNICATION SYSTEM USING SAME - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法例文帳に追加

HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

特定の減衰および位相シフトを与える材料を堆積させる方法例文帳に追加

METHOD OF DEPOSITING MATERIAL PROVIDING SPECIFIED ATTENUATION AND PHASE SHIFT - 特許庁

非線形光学媒体における波伝搬位相シフト補償による波生成例文帳に追加

WAVE GENERATION BY WAVE PROPAGATION PHASE-SHIFT COMPENSATION IN NONLINEAR OPTICAL MEDIUM - 特許庁

位相シフトマスクの製造方法、近接効果補正装置およびプログラム例文帳に追加

METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, PROXIMITY EFFECT CORRECTION DEVICE AND PROGRAM - 特許庁

ホトリソグラフィー工程の位相シフトマスクの形成方法例文帳に追加

METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK IN PHOTOLITHOGRAPHIC PROCESS - 特許庁

加算部８０は、位相シフト部７２から出力された値を加算する。例文帳に追加

An addition part 80 adds a value outputted from the phase shift part 72. - 特許庁

薄膜強誘電性位相シフト素子を採用した電力増幅器例文帳に追加

POWER AMPLIFIER EMPLOYING THIN FILM FERROELECTRIC PHASE SHIFT ELEMENT - 特許庁

位相シフト干渉測定装置及び方法、並びに記憶媒体例文帳に追加

MEASURING APPARATUS FOR INTERFERENCE OF PHASE SHIFT, METHOD THEREFOR AND RECORD MEDIUM - 特許庁

この構成を位相シフト回路としての基本構成とする。例文帳に追加

This constitution is regarded as the basic constitution of the phase shift circuit. - 特許庁

位相シフトマスク及び、それを用いたホールパターン形成方法例文帳に追加

PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

位相シフトマスクを使用したフォトリソグラフィによるＬＥＤの作製例文帳に追加

PHOTOLITHOGRAPHIC LED FABRICATION USING PHASE-SHIFT MASK - 特許庁

ブランクマスク及びこれを用いた位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

BLANK MASK AND PRODUCTION OF PHASE SHIFT MASK USING SAME - 特許庁

多重露光法に用いられる少なくても２つの位相シフタを有する位相シフトマスクの位相シフタ間の遮光領域の幅に対応して位相シフタのシフト幅を調整し、プロセスウィンドウを広げた位相シフトマスクを製作する。例文帳に追加

The phase shifting mask which widens a process window is manufactured by preparing a phase shifting mask having at least two phase shifters used for a multiple exposure method and adjusting the shifting width of the phase shifters according to the width of a light shielding region between the phase shifters. - 特許庁

透過光の位相を１８０°反転させるハーフトーン位相シフト膜１を用いて形成された位相シフト部を備え、上記位相シフト部は、中央部に上記透過光の位相を反転させない膜２を有することを特徴とする。例文帳に追加

The halftone phase shift mask is provided with a phase shift part formed by using a halftone phase shift film 1 which inverts the phase of transmitted light by 180°, and the phase shift part has a film 2 which does not make the phase of the transmitted light invert at the center part. - 特許庁

透過光の位相を１８０°反転させるハーフトーン位相シフト膜１を用いて形成された位相シフト部１０を備え、上記位相シフト部１０は、所定の間隔で配置された、上記透過光の位相を反転させない複数の膜２を有することを特徴とする。例文帳に追加

The halftone phase shift mask is provided with a phase shift part 10, formed by using a halftone phase shift film 1 which inverts the phase of transmitted light by 180°, and the phase shift part 10 has a plurality of films 2, which are arranged at prescribed intervals and do not invert the phase of the transmitted light. - 特許庁

位相シフターは、位相シフト部を構成する点において交わる４本以上の偶数本の位相シフト線を有し、各位相シフト線について一方の側の領域と他方の側の領域とが約１８０度の位相差を有するように構成されている。例文帳に追加

The phase shifter constituted so that it is provided with even phase shift lines of four or more crossing at points forming the phase shift, and has a phase difference of about 180° between one area and the other area in the respective phase shift lines. - 特許庁

さらに、当該素子は、位相シフト用導波路の近傍に形成され、少なくとも該位相シフト用導波路における光学的な屈折率を変化させるために、位相シフト用導波路に電界を印加するための電極対とを含む。例文帳に追加

The element is formed near the phase shift waveguide, and includes an electrode pair for applying an electric field to the phase shift waveguide, for varying an optical refractive index in at least the phase shift waveguide. - 特許庁

基板彫り込み型の位相シフトマスク用のマスクブランクス、基板彫り込み型の位相シフトマスク、および基板彫り込み型の位相シフトマスクの製造方法例文帳に追加

MASK BLANK FOR PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE, PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK OF SUBSTRATE MORTISE TYPE - 特許庁

位相シフトセルＡは、共通の入力信号を受理し、各々は、その他の位相シフトセルＡとは異なる量だけ入力信号を位相シフトさせる。例文帳に追加

The phase shifting cells A receive a common input signal and each phase-shifts the input signal just by a different amount from the other phase shifting cells A. - 特許庁

位相シフトユニットは、回折格子像の複数の位相シフトパターンを形成し、それを物体表面（１６）上に反射して、複数の投影位相シフトパターンを形成するように構成される。例文帳に追加

The phase shift unit is composed to form a plurality of phase shift patterns of diffraction grating image, which is reflected on the surface of an object (16) to form a plurality of projection phase shift patterns. - 特許庁

および、基板上に位相シフト膜が設けられ、位相シフト膜は金属及びシリコンを含み、スパッタ法でシリコンターゲットと、金属シリサイド等のターゲットを同時に放電させて成膜された位相シフトマスクブランク。例文帳に追加

The phase shift mask blank has a phase shift film deposited on a substrate, the phase shift film containing metals and silicon and deposited by discharging both of a silicon target and a metal silicide target or the like at a time by sputtering. - 特許庁