「位相シフト」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法例文帳に追加

HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

第１のイメージ区分３０は、所定の周波数の電磁放射に関して所定の位相シフトを与え、第２のイメージ区分４０は、第１のイメ−ジ区分の位相シフトより、１８０°大きいまたは小さい位相シフトを与える。例文帳に追加

The 1st image division 30 gives a prescribed phase shift with respect to electromagnetic radiation having a prescribed frequency and the 2nd image division 40 gives a phase shift which is 180° larger or smaller than the phase shift by the 1st image division. - 特許庁

反射型フォトマスクは、位相シフト部９と、位相シフト部９の外側に位置する反射部１１と、位相シフト部９と反射部１１との間に位置する半吸光部１２とを備えている。例文帳に追加

The reflective photomask comprises: a phase shift part 9; a reflection part 11 located at the outside of the phase shift part 9; and a half absorption part 12 located between the phase shift part 9 and the reflection part 11. - 特許庁

位相シフトデータ生成部５は、位相シフトデータ・パターンを記憶したＬＵＴを内蔵し、上記差に応じた位相シフトデータをＬＵＴより読み出し出力する。例文帳に追加

A phase shift data generating section 5 includes an LUT storing a phase shift data pattern and reads a phase shift data corresponding to the above difference from the LUT to output it. - 特許庁

本発明の位相シフトマスクにおいては、位相シフト効果によって発生する不要な露光イメージとなる暗部の光強度を意図的に大きくする機能を位相シフトマスクに持たせる。例文帳に追加

The phase shift mask is structured, in such a manner that the phase shift mask has a function to intentionally enhance the intensity of light in a dark portion which gives an unwanted exposure image caused by a phase shift effect. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びパターン転写方法例文帳に追加

METHOD FOR PRODUCING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN - 特許庁

改善した減衰型の位相シフトマスク、こうした減衰型の位相シフトマスクの製造方法、およびこうした減衰型の位相シフトマスクの使用方法を提供する。例文帳に追加

To provide an improved attenuated phase shift mask, a method of manufacturing such an attenuated phase shift mask and a method for using such an attenuated phase shift mask. - 特許庁

これら３つの位相シフト領域の形成は、第１位相シフト４３０と第２位相シフト領域４４０を形成するための２回のエッチングステップによって達成される。例文帳に追加

These three phase shift regions are achieved by two times of etching steps for forming the first phase shift 430 and the second phase shift region 440. - 特許庁

透明基板１の上に位相シフト層２が形成される位相シフト層形成工程の後に、位相シフト層２の上の所定領域に遮光膜としてのＣｒ膜６Ａを形成する遮光膜形成工程が施される。例文帳に追加

After a step of forming the phase shift layer by which the phase shift layer 2 is formed on a transparent substrate 1, a step of forming a light shielding film for forming a Cr film 6A as a light shielding film in the prescribed regions on the phase shift layer 2 is performed. - 特許庁

光の位相を遅らせる位相シフト板２００により、位相差を有するＡ相信号、Ｂ相信号が生成される。例文帳に追加

With a phase shift plate 200 delaying the phase of light, A phase signal and B phase signal having a phase difference are produced. - 特許庁

位相変調器１８は、位相シフト回路２２からの正弦波に従い、データ変調器１６からの各光パルスの光位相を変調する。例文帳に追加

The phase modulator 18 modulates the optical phase of each optical pulse from the data modulator 16 in accordance with the sinusoidal waves from the phase shifting circuit 22. - 特許庁

これにより、位相差の算出値に基づいて、追加エッチングを行い、位相シフトマスクの位相差を制御する。例文帳に追加

Then additional etching is performed on the basis of the phase difference calculation value to control the phase difference of the phase shifting mask. - 特許庁

２．90°の位相をシフトする素子と２つのスイッチで構成されたマトリックス回路により、アンテナ間位相差±90°と位相差0°を得る。例文帳に追加

By a matrix circuit constituted of an element for shifting a phase at 90° and two switches, an inter-antenna phase difference ±90° and a phase difference 0° are obtained. - 特許庁

位相設定部にて位相差が設定されたプレス機では、基準回転位置情報が位相差シフトされる。例文帳に追加

The information on the reference rotational position is shifted in terms of the phase difference in the press with the phase difference set by a phase difference unit. - 特許庁

位相回路４は、分周回路３の分周信号（０°位相の信号）を、１８０°位相シフト（ｃ）して加算回路５へ出力する。例文帳に追加

The phase circuit 4 shifts the phase of the frequency dividing signal 0° phase signal) of the frequency dividing circuit 3 by 180° to output the shifted signal to the adder circuit 5. - 特許庁

位相シフトフィルタＰの位相は制限された帯域内でＧ／（１＋ＧＨ）の位相と±９０度の範囲内で一致する。例文帳に追加

The phase of the phase shift filter P coincides with the phase of G/(1+GH) within the range of ±90° within a limited band. - 特許庁

検出された位相差が設定範囲から外れた時に、基準電圧の位相をシフトすることにより、位相差を設定範囲内に収める。例文帳に追加

When the detected phase difference is out of a set range, the phase of the reference voltage is shifted so as to set the phase difference within a set range. - 特許庁

位相シフトマスク作製工程途中で位相差を測定し、目標とする位相差になるよう制御する。例文帳に追加

To control a phase difference to a target phase difference by measuring the phase difference on the way of a phase shifting mask fabrication process. - 特許庁

基板彫り込み型の位相シフトマスクの所定の位相差を設ける透明領域間の位相差を正確に設定することができ製造方法。例文帳に追加

To provide the method for manufacturing a phase shift mask of a carved substrate type which can precisely set a phase difference between transparent regions to set a specified phase difference. - 特許庁

位相差顕微鏡の位相板に電気光学素子を用い、０次以外の回折光に対する０次光の位相シフト量を可変にする。例文帳に追加

An electro-optical device is used as a phase plate for a phase- contrast microscope, and the phase shift volume of zero-order light is made variable for diffracted light other than zero-order light. - 特許庁

位相０領域及び位相１８０領域の周辺の境界領域を用いてポジ型（ＣＦ：ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ）位相シフトマスク（不透明な開口を有する透明な位相シフトマスク）の向上を図る方法例文帳に追加

METHOD FOR ENHANCING POSITIVE (CLEAR FIELD) PHASE SHIFT MASK (TRANSPARENT PHASE SHIFT MASK WITH OPAQUE APERTURE) WITH BORDER REGIONS AROUND PHASE 0 REGION AND PHASE 180 REGIONS - 特許庁

位相シフトマスクに使用される材料（透明基板及び位相シフタ膜）及びエッチング薬液を適宜選定することにより、位相シフトマスクの位相差を精度良く調整する方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a method for accurately adjusting the phase contrast of a phase shift mask by appropriately selecting materials used for the phase shift mask (a transparent substrate and a phase shifter film) and an etching solution. - 特許庁

その比較結果に基づき位相シフト制御部１４が位相シフト器３，４を制御して受信信号の位相をＡ／Ｄ変換に適した位相に制御する。例文帳に追加

On the basis of the compared result, a phase shift control part 14 controls phase shifters 3 and 4 and controls the phase of a reception signal into phase suitable for A/D conversion. - 特許庁

このサブレゾリューション・アシスト位相領域Ｒ’は、対応する位相シフト領域Ｒの隣に配設されているとともに、当該位相シフト領域Ｒとの間で１８０度の位相差を有している。例文帳に追加

Sub-resolution assist phase regions R' reside adjacent to the corresponding phase-shift regions R and have a relative phase difference of 180 degrees thereto. - 特許庁

ハーフトーン位相シフトマスクの透過率及び位相差特性を、所望の透過率及び位相差に補正することができるハーフトーン位相シフトマスクの特性の補正方法を提供する。例文帳に追加

To obtain a correction method for the characteristics of a halftone phase shift mask which is capable of correcting the transmittance and phase difference characteristic of the halftone phase shift mask to the desired transmittance and phase difference. - 特許庁

位相シフト部１ａ−３は、位相変調部１ａ−１の前段または後段に設けられ、入力光または位相変調後の光の位相をシフトする。例文帳に追加

A phase shifter 1a-3 is provided at the upstream or downstream of the phase modulator 1a-1 and shifts a phase of the input light or of the phase-modulated light. - 特許庁

したがって、その位相シフト部の位相差をＡＦＭ等の段差測定器で測定し、また、この位相シフト部を形成する際の遮光膜が受けたダメージも考慮して位相差を算出する。例文帳に追加

Thereby the phase difference of the phase shifting part is measured by the level difference measuring instrument such as an AFM and the phase difference is calculated while considering damage applied to a light shielding film when forming the phase shifting part. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスクの位相効果を持つ白欠陥修正やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥修正を可能にする。例文帳に追加

To correct a white defect having a phase effect in a halftone phase shift mask or to correct a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask. - 特許庁

位相シフトマスク作製途中に位相差を測定可能な位相差モニタパターンを作成し、その位相シフト部における透光基板の掘り込み量をレジスト付きの状態でも段差測定器で測定できるようにする。例文帳に追加

A phase difference monitoring pattern capable of measuring a phase difference on the way of fabricating a phase shifting mask is created and the engraving quantity of a translucent substrate on a phase shifting part is controlled so as to be measured by a level difference measuring instrument even in a deposited state of resist. - 特許庁

複数の位相シフト器（７０ａ〜７０ｎ）は、基準信号５４の位相をそれぞれ異なるシフト量だけシフトすることにより、複数のシフト信号（７２ａ〜７２ｎ）のそれぞれを独立して出力することができる。例文帳に追加

The phase shifters (70a to 70n) can output a plurality of shift signals (72a to 72n) independently of one another by shifting the phase of the reference signal 54 by mutually different shift quantities. - 特許庁

また、電子シャッター用シフトレジスタと読み出し用シフトレジスタとは、高速シフトさせるタイミングを所定の位相差を以って同期させる。例文帳に追加

Fast shifts of the shift register for the electronic shutter and the shift register for readout are synchronized with each other with a predetermined phase difference. - 特許庁

シフト回路５は同期信号パルス発生器７から発生される水平及び垂直同期信号の位相を、前記シフト量に応じてシフトする。例文帳に追加

A shift circuit 5 shifts the phase of horizontal and vertical synchronization signals generated from a synchronization signal pulse generator 7, in response to the shift amount. - 特許庁

位相シフトマスクとして露光光での屈折率及び消衰係数が満たされ、露光光での反射率や検査波長での透過率が制御され、正確なパターニングがされたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクの製造に好適なハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス、及びハーフトーン型位相シフトマスクを提供すること。例文帳に追加

To provide a blank suitable for the manufacture of a halftone type phase shift mask having a halftone type phase shift film which has a refractive index and an extinction coefficient for exposure light satisfying the requirements as a phase shift mask, which has controlled reflectance for the exposure light and controlled transmittance at the inspection wavelength and which is accurately patterned, and to provide a halftone type phase shift mask. - 特許庁

復号出力を生じるように第１の出力に復号アルゴリズムを適用するデコーダ回路と、データセットの第２の位相が、位相シフトされた出力として供給される復号出力を位相シフトする位相シフト回路とを含む。例文帳に追加

The circuit further includes a decoder circuit that applies a decoding algorithm to the first output to yield a decoded output, and a phase shift circuit that phase-shifts the decoded output such that a second phase of the data set is provided as a phase shifted output. - 特許庁

遮光層の黒欠陥は除去され、位相シフト層の黒欠陥は発生させず、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層パターンの厚みの低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。例文帳に追加

To provide a manufacturing method for a halftone type phase shift mask in which black defects of a light shield layer are removed and black defects in a phase shift layer are not generated and transmissivity is not deduced due to gallium stain and phase difference due to decrease in thickness of a phase shift layer pattern is not varied. - 特許庁

位相シフトマスク毎の透過率や位相差などの出来映え（光学的特性の個体差）に応じて、検出すべき欠陥サイズの判定基準を適正化する位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの検査装置及び半導体装置の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an inspecting method for phase shift mask and an inspecting device for phase shift mask for optimizing a criterion for size of a defect to be detected according to results (individual differences of optical characteristics) of transmissivity, phase difference, etc., by phase shift masks, and the manufacturing method of a semiconductor device. - 特許庁

受光素子の受光面積は微小であるため、回折光や多重反射光が入射することにより特異的な位相量を出力する受光素子の位相シフト量を除外し、残りの受光素子の出力信号から求めた位相シフト量に基づいて位相シフト量を決定する。例文帳に追加

Since the light-receiving area of the light-receiving element is very small, the phase shift amount of any light-receiving element outputting a specific phase amount due to the incidence of diffracted light or multiply-reflected light is excluded; and the phase shift amount is determined, based on the phase shift amount found from output signals of the remaining light-receiving elements. - 特許庁

正弦波格子位相シフト法を用いて、複数の照射部より正弦波状の明暗分布を持つパターンを照射しながら位相シフトさせ、その位相シフトに同期させて、複数の撮影部で撮影したパターン画像をもとに照射光の位相値を計算する。例文帳に追加

Phase shifting is performed while a plurality of emitting parts emit a pattern having sine wave-shaped contrast distribution by using a sine wave grid phase shift method, and a phase value of emitted light is calculated on the basis of a pattern image photographed by a plurality of photographing parts while synchronizing with the phase shifting. - 特許庁

ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造工程数を減らし、高精度な位相差と透過率制御が可能な遮光領域つきハーフトーン型位相シフトマスクを提供することを目的とする。例文帳に追加

To decrease the number of production stages for a blank for a halftone type phase shift mask and the halftone type phase shift mask and to enable the control of a phase difference and transmittance with high accuracy. - 特許庁

本発明における半導体装置は、位相シフト量を決定するDLL２００と、テストモード時に所定位相ずらす演算回路３００と、位相シフト量を設定するレジスタ１１〜１６と、設定した位相にシフトして信号の送受信を行う伝送回路１０とを備える。例文帳に追加

The semiconductor device includes: a DLL 200 determining a phase shift amount; an arithmetic circuit 300 for shifting the phase by a prescribed phase during the test mode; registers 11 to 16 setting the phase shift amount; and a transmission circuit 10 transmitting and receiving a signal by shifting the phase to a set phase. - 特許庁

位相シフト回路１２は、前記差分値に応じて磁極位置検出信号の位相をシフトし、インバータ２の出力電圧の位相をモータ逆起電圧の位相とほぼ一致させることにより、両電圧の位相差に起因して流れる過大なモータ電流を回避する。例文帳に追加

A phase shift circuit 12 shifts the phase of a magnetic position detection signal according to the differential value, and makes the phase of the output voltage of the inverter 2 and the phase of the motor back-electromotive voltage nearly coincide with each other, thus avoiding an excessive motor current flowing caused by the phase difference of both the voltages. - 特許庁

検出された位相差分ｃは、位相範囲回転回路１２により、変調による位相差分を除去する処理がなされて周波数オフセットによる位相シフト量ｄが検出され、平均化回路１３でタイムスロット毎に平均化されてタイムスロット毎の位相シフト量ｅが得られる。例文帳に追加

A phase range rotation circuit 12 carries out processing of eliminating a modulation phase difference component to detect a phase shift amount "d" due to the frequency offset, and an averaging circuit 13 averages the phase shift amounts by each time slot to obtain a phase shift amount "e" by each time slot. - 特許庁

位相制御部９は、送信機がオフからオンに操作されたとき（カーテシアンループにおける初期動作時）は位相調整回路１１における位相シフト量の制御を行い、カーテシアンループの初期動作が完了したときは、位相調整回路８における位相シフト量の制御を行う。例文帳に追加

When the transmitter is operated from off to on (at the time of initial operation in a cartesian loop), a phase control part 9 controls a phase shift amount at the circuit 11 but when the initial operation of the cartesian loop is completed, the part 9 controls a phase shift amount at the circuit 8. - 特許庁

透明基板上に、少なくとも、位相シフター部又は半透光性位相シフター部を有する位相シフトマスクにおいて、前記位相シフター部又は半透光性位相シフター部の位相差及び前記半透光性位相シフター部の透過率の測定における測定光波長として、マスクで露光する際に用いる波長とは異なる波長の光を用いることを特徴とする位相シフトマスクの検査方法。例文帳に追加

The method of inspecting the phase shift mask comprises using the light of the wavelength different from the wavelength used in performing exposure with the mask as the wavelength of the measuring light in measurement of the phase difference in the phase shifter section or translucent phase shifter section of the phase shift mask having at least the phase shifter section or translucent phase shifter section on a transparent substrate or the transmittance of the translucent phase shifter section. - 特許庁

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。例文帳に追加

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern. - 特許庁