意味 | 例文 (999件) |
光と影の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18392件
投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSING METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE EQUIPMENT, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSING METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
電子ビーム投影露光用マスク及び電子ビーム投影露光方法例文帳に追加
ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE MASK AND ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE METHOD - 特許庁
光学素子及び撮影光学系と、結像方法及び撮影方法例文帳に追加
OPTICAL ELEMENT AND PHOTOGRAPHING OPTICAL SYSTEM, AND IMAGING METHOD AND PHOTOGRAPHING METHOD - 特許庁
マイクロリソグラフィのための投影露光方法及び投影露光装置例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE FOR MICRO LITHOGRAPHY - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法および半導体の製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR - 特許庁
その後、可視光投影部PJ1が補正された可視光映像を投影する。例文帳に追加
Thereafter, a visible light projection part PJ1 projects the corrected visible light video image. - 特許庁
投影露光方法、それを用いたデバイス製造方法、及び投影露光装置例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT, AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法及びデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加
INSPECTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影露光装置及び投影露光方法、並びにデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法、並びに集積回路製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁
多重露光方法、マイクロリソグラフィー投影露光装置および投影系例文帳に追加
MULTIPLE EXPOSURE METHOD, MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION ALIGNER, AND PROJECTION SYSTEM - 特許庁
投影露光装置、及び該投影露光装置を用いたパターン形成方法例文帳に追加
PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME - 特許庁
投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加
APPARATUS FOR EXAMINING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影露光装置及び方法、並びに反射縮小投影光学系例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER AND METHOD THOREOF, AND REFLECTION REDUCING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影光学系の検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加
INSPECTION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD AND DEVICE FABRICATION METHOD - 特許庁
荷電粒子線投影露光方法及び荷電粒子線投影露光装置例文帳に追加
METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE - 特許庁
投影露光装置および該投影露光装置を用いたデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁
投影光学系、それを備えた投影露光装置、及び素子製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME, AND ELEMENT MANUFACTURING METHOD - 特許庁
露光投影像予測システム及び露光投影像予測方法例文帳に追加
SYSTEM FOR PREDICTING EXPOSURE PROJECTION IMAGE AND METHOD FOR PREDICTING EXPOSURE PROJECTION IMAGE - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法、及び半導体装置の製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
投影光学系、投影方法、露光装置、およびデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
投影機の光学系構造及びその光学系構造を備えた投影機例文帳に追加
OPTICAL SYSTEM STRUCTURE OF PROJECTOR AND PROJECTOR PROVIDED WITH THE OPTICAL SYSTEM STRUCTURE - 特許庁
投影露光方法、投影露光装置およびデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION EXPOSING METHOD, PROJECTION ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁
光学投影制御装置、光学投影制御方法、及びプログラム例文帳に追加
OPTICAL PROJECTION CONTROL APPARATUS, OPTICAL PROJECTION CONTROL METHOD, AND PROGRAM - 特許庁
投影光学系及び投影露光装置並びにデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION ALIGNER AND PRODUCTION OF DEVICE - 特許庁
3次元情報入力カメラは、撮影領域を撮影する撮影手段と、撮影領域にパターン光を投影する投影手段とを備える。例文帳に追加
The three-dimensional information input camera is provided with a photographing means that photographs a photographing area and with a projection means that projects a pattern light to the photographing area. - 特許庁
投影露光装置は、投影光学系4を介して原版1のパターンを基板2に投影する。例文帳に追加
The projection aligner projects the pattern of an original edition 1 onto a substrate 2 via a projecting optical system 4. - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法、被露光部材の製造方法、被露光部材および半導体デバイス例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD, MANUFACTURING METHOD OF MEMBER TO BE EXPOSED, MEMBER TO BE EXPOSED, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
投影光学系、反射屈折型投影光学系、走査型露光装置及び露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, REFLECTIVE AND REFRACTIVE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, SCANNING EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
投影光学系、該光学系の製造方法、及び前記光学系を備えた投影露光装置例文帳に追加
PROJECTOIN OPTICAL SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING THE OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM EQUIPPED WITH THE OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影光学系、投影光学系の調整方法、露光装置、および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF, AND ALIGNER AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
撮像手段は、投影手段が投影したパターン光により撮影領域内の被写体に形成された投影パターンの撮影と、投影手段がパターン光を投影しない状態で行う被写体の撮影とを行う。例文帳に追加
An image-pickup means photographs a projection pattern formed on an object in a photographing area by a pattern light projected by a projection means and photographs the object, in a state such that the projection means does not project the pattern light onto the object. - 特許庁
投影光学系の調整方法、投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ADJUSTMENT METHOD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, EXPOSURE SYSTEM, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
投影光学系、投影光学系の調整方法、投影光学系の製造方法、露光装置及び露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM ADJUSTMENT METHOD, MANUFACTURING METHOD THEREOF, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
投影露光用マスク、投影露光用マスクの製造方法、投影露光装置、投影露光方法、投影露光用マスクを用いた被露光部材の製造方法および被露光部材例文帳に追加
MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER TO BE EXPOSED BY USING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, AND MEMBER TO BE EXPOSED - 特許庁
投影光学系とその光学調整方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ITS OPTICAL ADJUSTING METHOD - 特許庁
投影露光装置の投影光学系の波面収差を投影露光装置上で直接測定可能とする露光装置を実現すること。例文帳に追加
To provide an exposure device capable of directly measuring the wave aberration of a projection optical system in a projection exposure device on the projection exposure device. - 特許庁
投影光学系、露光装置、露光装置の調整方法及び露光方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, ADJUSTMENT METHOD AND EXPOSURE METHOD THEREFOR - 特許庁
光学系の製造方法、投影光学系、露光装置、および露光方法例文帳に追加
MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER AND ALIGNING METHOD - 特許庁
投影光学系20は、リレーレンズ21と投影レンズL1とからなる。例文帳に追加
The projection optical system 20 comprises a relay lens 21 and a projection lens L1. - 特許庁
上記ドライバ部22が投影光源制御信号に基づいて投影光源6aを駆動することにより、投影光源6aの発光量を制御する。例文帳に追加
The drive part 22 drives the projection light source 6a based on the projection light source control signal, thereby controlling the amount of light emitted from the projection light source 6a. - 特許庁
コード化されたパターンを投影する投光器4と、投光器の光軸方向から投影パターンを撮影するカメラ3と、投光器4の光軸方向と異なる方向から投影パターンを撮影するカメラ1、2とを備える。例文帳に追加
This device is equipped with a projector 4 which projects a coded pattern, a camera 3 which photographs the projection pattern from the optical-axis direction of the projector, and cameras 1 and 2 which photograph the projection patterns from directions different from the optical-axis direction of the projector 4. - 特許庁
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