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「光と影」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 光と影の意味・解説 > 光と影に関連した英語例文

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光と影の部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 18392



例文

学系、露装置、および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

学系、露装置および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSING METHOD - 特許庁

学系、露装置、および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS AND METHOD - 特許庁

学系、露装置、および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE EQUIPMENT, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

例文

学系、露装置および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND EXPOSING METHOD - 特許庁


例文

学系、露装置、および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

電子ビーム投用マスク及び電子ビーム投方法例文帳に追加

ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE MASK AND ELECTRON BEAM PROJECTION EXPOSURE METHOD - 特許庁

学素子及び撮学系と、結像方法及び撮方法例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT AND PHOTOGRAPHING OPTICAL SYSTEM, AND IMAGING METHOD AND PHOTOGRAPHING METHOD - 特許庁

マイクロリソグラフィのための投方法及び投装置例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE METHOD AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE FOR MICRO LITHOGRAPHY - 特許庁

例文

装置、投方法および半導体の製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR - 特許庁

例文

その後、可視部PJ1が補正された可視映像を投する。例文帳に追加

Thereafter, a visible light projection part PJ1 projects the corrected visible light video image. - 特許庁

方法、それを用いたデバイス製造方法、及び投装置例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE METHOD, DEVICE MANUFACTURING METHOD USING IT, AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁

装置、投方法及びデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

学系の検査装置、及び投学系の製造方法例文帳に追加

INSPECTING DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

装置及び投方法、並びにデバイス製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁

装置、投方法、並びに集積回路製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND METHOD OF MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT - 特許庁

多重露方法、マイクロリソグラフィー投装置および投例文帳に追加

MULTIPLE EXPOSURE METHOD, MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION ALIGNER, AND PROJECTION SYSTEM - 特許庁

装置、及び該投装置を用いたパターン形成方法例文帳に追加

PROJECTION LITHOGRAPHY SYSTEM AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME - 特許庁

学系の検査装置、及び投学系の製造方法例文帳に追加

APPARATUS FOR EXAMINING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

装置及び方法、並びに反射縮小投学系例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER AND METHOD THOREOF, AND REFLECTION REDUCING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

学系の検査装置、及び投学系の製造方法例文帳に追加

INSPECTION APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

装置、投方法、及びデバイス製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD AND DEVICE FABRICATION METHOD - 特許庁

荷電粒子線投方法及び荷電粒子線投装置例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE - 特許庁

装置および該投装置を用いたデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁

学系、それを備えた投装置、及び素子製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE DEVICE EQUIPPED WITH THE SAME, AND ELEMENT MANUFACTURING METHOD - 特許庁

像予測システム及び露像予測方法例文帳に追加

SYSTEM FOR PREDICTING EXPOSURE PROJECTION IMAGE AND METHOD FOR PREDICTING EXPOSURE PROJECTION IMAGE - 特許庁

装置、投方法、及び半導体装置の製造方法例文帳に追加

PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD AND METHOD OF FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

学系、投方法、露装置、およびデバイス製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION METHOD, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁

機の学系構造及びその学系構造を備えた投例文帳に追加

OPTICAL SYSTEM STRUCTURE OF PROJECTOR AND PROJECTOR PROVIDED WITH THE OPTICAL SYSTEM STRUCTURE - 特許庁

方法、投装置およびデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION EXPOSING METHOD, PROJECTION ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁

学投制御装置、学投制御方法、及びプログラム例文帳に追加

OPTICAL PROJECTION CONTROL APPARATUS, OPTICAL PROJECTION CONTROL METHOD, AND PROGRAM - 特許庁

学系及び投装置並びにデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION ALIGNER AND PRODUCTION OF DEVICE - 特許庁

3次元情報入力カメラは、撮領域を撮する撮手段と、撮領域にパターンを投する投手段とを備える。例文帳に追加

The three-dimensional information input camera is provided with a photographing means that photographs a photographing area and with a projection means that projects a pattern light to the photographing area. - 特許庁

装置は、投学系4を介して原版1のパターンを基板2に投する。例文帳に追加

The projection aligner projects the pattern of an original edition 1 onto a substrate 2 via a projecting optical system 4. - 特許庁

装置、投方法、被露部材の製造方法、被露部材および半導体デバイス例文帳に追加

PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD, MANUFACTURING METHOD OF MEMBER TO BE EXPOSED, MEMBER TO BE EXPOSED, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

学系、反射屈折型投学系、走査型露装置及び露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, REFLECTIVE AND REFRACTIVE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, SCANNING EXPOSURE APPARATUS AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

学系、該学系の製造方法、及び前記学系を備えた投装置例文帳に追加

PROJECTOIN OPTICAL SYSTEM, METHOD OF MANUFACTURING THE OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE SYSTEM EQUIPPED WITH THE OPTICAL SYSTEM - 特許庁

学系、投学系の調整方法、露装置、および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF, AND ALIGNER AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

撮像手段は、投手段が投したパターンにより撮領域内の被写体に形成された投パターンの撮と、投手段がパターンを投しない状態で行う被写体の撮とを行う。例文帳に追加

An image-pickup means photographs a projection pattern formed on an object in a photographing area by a pattern light projected by a projection means and photographs the object, in a state such that the projection means does not project the pattern light onto the object. - 特許庁

学系の調整方法、投学系の製造方法、投学系、露装置、および露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ADJUSTMENT METHOD AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, EXPOSURE SYSTEM, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

学系、投学系の調整方法、投学系の製造方法、露装置及び露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM ADJUSTMENT METHOD, MANUFACTURING METHOD THEREOF, EXPOSURE SYSTEM AND EXPOSURE METHOD - 特許庁

用マスク、投用マスクの製造方法、投装置、投方法、投用マスクを用いた被露部材の製造方法および被露部材例文帳に追加

MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER TO BE EXPOSED BY USING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, AND MEMBER TO BE EXPOSED - 特許庁

学系とその学調整方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ITS OPTICAL ADJUSTING METHOD - 特許庁

学モジュールとその遮ファン例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL MODULE AND ITS LIGHT SHIELDING FAN - 特許庁

装置の投学系の波面収差を投装置上で直接測定可能とする露装置を実現すること。例文帳に追加

To provide an exposure device capable of directly measuring the wave aberration of a projection optical system in a projection exposure device on the projection exposure device. - 特許庁

学系、露装置、露装置の調整方法及び露方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, ADJUSTMENT METHOD AND EXPOSURE METHOD THEREFOR - 特許庁

学系の製造方法、投学系、露装置、および露方法例文帳に追加

MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER AND ALIGNING METHOD - 特許庁

学系20は、リレーレンズ21と投レンズL1とからなる。例文帳に追加

The projection optical system 20 comprises a relay lens 21 and a projection lens L1. - 特許庁

上記ドライバ部22が投源制御信号に基づいて投源6aを駆動することにより、投源6aの発量を制御する。例文帳に追加

The drive part 22 drives the projection light source 6a based on the projection light source control signal, thereby controlling the amount of light emitted from the projection light source 6a. - 特許庁

例文

コード化されたパターンを投する投器4と、投器の軸方向から投パターンを撮するカメラ3と、投器4の軸方向と異なる方向から投パターンを撮するカメラ1、2とを備える。例文帳に追加

This device is equipped with a projector 4 which projects a coded pattern, a camera 3 which photographs the projection pattern from the optical-axis direction of the projector, and cameras 1 and 2 which photograph the projection patterns from directions different from the optical-axis direction of the projector 4. - 特許庁

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