意味 | 例文 (999件) |
光と影の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18392件
投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE UNIT AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁
走査型投影露光装置および露光方法例文帳に追加
SCANNING PROJECTION ALIGNER AND EXPOSING METHOD - 特許庁
光学素子及び液浸型投影露光装置例文帳に追加
OPTICAL ELEMENT, AND IMMERSION TYPE PROJECTION ALIGNER - 特許庁
投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD OF DEVICE - 特許庁
投影露光装置及びステージ装置、並びに露光方法例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND STAGE UNIT, AND EXPOSURE METHOD - 特許庁
露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。例文帳に追加
An exposure apparatus exposes a substrate through a projection optical system and the liquid. - 特許庁
露光装置は、投影光学系と液体とを介して基板を露光する。例文帳に追加
An exposure apparatus exposes a substrate via a projection optical system and a liquid. - 特許庁
赤外撮影用ハロゲン化銀写真感光材料と撮影ユニット例文帳に追加
SILVER HALIDE PHOTOGRAPHIC SENSITIVE MATERIAL FOR INFRARED PHOTOGRAPHING AND PHOTOGRAPHING UNIT - 特許庁
光学撮影倍率の切り換えポイントで撮影可能とする。例文帳に追加
To enable photographing at a switching point of the optical photographing magnification. - 特許庁
前記投影機は、前記音響投影幕に画像光線を投射する。例文帳に追加
The projector projects an image light beam to the acoustic projection screen. - 特許庁
投影図は、投影光が物体にあたって作り出されるシルエットである。例文帳に追加
A projection drawing is a silhouette created by projecting light to an object. - 特許庁
撮影装置3は、ステージの内部の可視光映像を撮影する可視光映像撮影部31と、撮映視野に赤外光を照射する赤外光照射部35と、赤外光映像を可視光映像撮影部31の光軸上で撮影する赤外光映像撮影部34とを含む。例文帳に追加
The photographing unit 3 has a visible light video photographing part 31 which photographs the visible light video in the stage, an infrared irradiator 35 which irradiates a photographing field with infrared light, and an infrared light image photographer 34 which photographs an infrared video on the optical axis of the visible light video photographing part 31. - 特許庁
投影露光と非常に高い開口数とを可能にする投影露光方法と該方法に対応する投影露光システムとを提供する。例文帳に追加
To provide a method of projection exposure capable of projection exposure and a very high numerical aperture, and a system of projection exposure corresponding to the method. - 特許庁
偏光光を供給する供給部と、その偏光光で画像光を形成する形成部と、その画像光を投影する投影部を備える。例文帳に追加
The image projection device is provided with a supply part supplying polarization light, a formation part forming image light by the polarization light and a projection part projecting the image light. - 特許庁
偏光光を供給する供給部と、その偏光光で画像光を形成する形成部と、その画像光を投影する投影部を備える。例文帳に追加
The apparatus is provided with a supplying part for supplying polarized light, a forming part for forming image light by the polarized light and a projection part for projecting the image light. - 特許庁
偏光光を供給する供給部と、その偏光光で画像光を形成する形成部と、その画像光を投影する投影部を備える。例文帳に追加
The image projector has a supply section for supplying polarized light, a forming section for forming image light by the polarized light, and a projecting section for projecting the image light. - 特許庁
偏光光を供給する供給部と、その偏光光で画像光を形成する形成部と、その画像光を投影する投影部を備える。例文帳に追加
This image projector has a supplying section which supplies polarized light, a forming section which forms image light by this polarized light and a projecting section which projects this image light. - 特許庁
補正用画像の撮影時におけるISO感度、シャッター速度等の撮影条件は、露光撮影と同じで遮光されて撮影される。例文帳に追加
Photographic conditions such as the ISO sensitivity and the shutter speed when photographing the image for correction are the same as the case of exposure photographing, and photographing is performed in a light shielded state. - 特許庁
投影システムおよび複数光源の投影システムを用いる方法例文帳に追加
PROJECTION SYSTEM AND METHOD FOR USING PROJECTION SYSTEM USING MULTIPLE LIGHT SOURCES - 特許庁
これにより、レーザー光は列状に投影面29に投影される。例文帳に追加
Thereby, the laser beam is projected to a projection surface 29 in a row. - 特許庁
投影装置の光源および投影部を簡単に構成する。例文帳に追加
To easily constitute a light source and a projection part of a projection device. - 特許庁
これらの投影系は、共通の投影露光装置(1)に一体化される。例文帳に追加
Theses projection systems are integrated into a common projection exposing device (1). - 特許庁
投影装置の光源および投影部を簡単に構成する。例文帳に追加
To easily constitute a light source and a projection part in a projection device. - 特許庁
改良された単一光バルブ投影装置およびイメージ投影方法例文帳に追加
IMPROVED SINGLE LIGHT VALVE PROJECTION DEVICE AND IMAGE PROJECTION METHOD - 特許庁
マイクロリソグラフィ投影対物レンズならびに投影露光装置例文帳に追加
MICROLITHOGRAPHY PROJECTING OBJECT LENS AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁
これらの投影系は、共通の投影露光装置(1)に一体化される。例文帳に追加
These projection systems are integrated with a common projection aligner (1). - 特許庁
この生理原色は撮影時の撮影光源の白色と見なされる。例文帳に追加
This physiological primary color is regarded to be a white color of a photographing light source in a photographing state. - 特許庁
観察用光源と撮影用光源を1つの光源で兼用する。例文帳に追加
To use a light source as an observation light source and a photographing light source. - 特許庁
撮影前に、撮影光量変更後の画像を確認することが可能な眼科撮影装置の提供。例文帳に追加
To provide an ophthalmologic photographing apparatus for making it possible to confirm an image after photographing light quantity change before photographing. - 特許庁
撮影前に、撮影光量変更後の画像を確認することのできる眼科撮影装置の提供。例文帳に追加
To provide an ophthalmologic photographing apparatus for making it possible to confirm an image after photographing light quantity change before photographing. - 特許庁
簡単な構成で、少なくとも散瞳撮影、無散瞳撮影、可視蛍光撮影、赤外蛍光撮影の4つの撮影モードで眼底を撮影できる眼科撮影装置を提供する。例文帳に追加
To provide an ophthalmic imaging apparatus capable of photographing an eyeground by at least four photography modes of mydriasis photography, non-mydriasis photography, visible fluorescent photography, and infrared fluorescent photography. - 特許庁
立体撮影光学ユニットおよび立体画像撮影システム例文帳に追加
STEREOSCOPIC PHOTOGRAPHING OPTICAL UNIT AND STEREOSCOPIC IMAGE PHOTOGRAPHING SYSTEM - 特許庁
撮影光学系、撮影レンズユニット、カメラおよび携帯情報端末装置例文帳に追加
PHOTOGRAPHING OPTICAL SYSTEM, PHOTOGRAPHIC LENS UNIT, CAMERA AND PERSONAL DIGITAL ASSISTANT - 特許庁
偏光フィルタを通して撮影対象画像を明瞭に撮影する。例文帳に追加
To photograph an image to be photographed clearly through a polarization filter. - 特許庁
光触媒の使用方法、光触媒ユニットおよび投影露光装置例文帳に追加
METHOD FOR USING PHOTOCATALYST, PHOTOCATALYST UNIT, AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁
光学特性の計測方法、反射防止膜、光学系及び投影露光装置例文帳に追加
METHOD FOR MEASURING OPTICAL CHARACTERISTIC, ANTIREFLECTION FILM, OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁
投影光学ユニット、露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL UNIT, ALIGNER, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
投影光を導くために、さらに対物面と投影面の間の光路に配置された投影光学装置が用いられる。例文帳に追加
To guide the projection light, the projection optical device is used which is arranged in the optical path between the object surface and a projection surface. - 特許庁
フォトマスク収納装置、フォトマスクユニット、フォトマスク装置、投影露光装置及び投影露光方法例文帳に追加
PHOTOMASK CONTAINER, PHOTOMASK UNIT, PHOTOMASK DEVICE, PROJECTION ALIGNER AND PROJECTION EXPOSING METHOD - 特許庁
計測光学系120は、計測光を投影光学系ULに斜入射させ、投影光学系ULから戻ってくる計測光を受光する。例文帳に追加
The measuring optical system 120 makes measuring light obliquely incident to the projection optical system UL and receives the measuring light returning from the projection optical system UL. - 特許庁
投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置の製造方法、露光装置、露光方法、および光学系の製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME ALINER, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影光学系の製造方法、投影光学系、露光装置の製造方法、露光装置、露光方法、および光学系の製造方法例文帳に追加
MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MANUFACTURING METHOD OF EXPOSING DEVICE, EXPOSING DEVICE EXPOSING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF OPTICAL SYSTEM - 特許庁
光源11と、該光源11から出射された光を光学長を連続的に変化させて略直線状の投影指標に整形するプリズム12と、該プリズム12にて整形された投影指標を投影面15に投影するための投影光学系13とを備えた指標投影光学装置。例文帳に追加
The index projecting optical device is equipped with: a light source 11; a prism 12 shaping light emitted from the light source 11 to an almost linear projection index by continuously changing optical length; and a projecting optical system 13 for projecting the projection index shaped by the prism 12 to the projecting surface 15. - 特許庁
投影露光装置、ならびに、特にミクロリソグラフィのための投影露光装置の投影光学系で発生する結像誤差を補正する方法例文帳に追加
METHOD FOR CORRECTING IMAGE ERROR IN PROJECTION ALIGNER AND ESPECIALLY IN PROJECTION OPTICAL SYSTEM PROJECTION ALIGNER FOR MICROLITHOGRAPHY - 特許庁
フォトマスクユニット、フォトマスク装置、投影露光装置、投影露光方法及び半導体装置例文帳に追加
PHOTOMASK UNIT, PHOTOMASK DEVICE, PROJECTION EXPOSURE DEVICE, PROJECTION EXPOSURE METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
フォトマスク、該フォトマスクの製造方法、該フォトマスクを扱う投影露光装置、及び投影露光方法例文帳に追加
PHOTOMASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHOTOMASK, PROJECTION ALIGNER HANDLING THE PHOTOMASK AND PROJECTION ALIGNMENT METHOD - 特許庁
反射屈折型の投影光学系、露光装置および露光方法例文帳に追加
REFLECTION REFRACTION TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSING DEVICE AND EXPOSING METHOD - 特許庁
紫外線レーザ光用ミラー及び光学系及び投影露光装置例文帳に追加
ULTRAVIOLET LASER LIGHT MIRROR, OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION EXPOSURE DEVICE - 特許庁
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