「光と影」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

光触媒の使用方法、光学系、投影露光装置および光触媒光学系ユニット例文帳に追加

METHOD FOR USING OPTICAL CATALYST, OPTICAL SYSTEM, PROJECTION ALIGNER, AND OPTICAL CATALYST OPTICAL SYSTEM UNIT - 特許庁

そして、該発光パターンに従って補助光源を発光させて撮影を行い、その撮影画像および該撮影時のぶれ情報を取得する。例文帳に追加

The imaging apparatus emits light from the auxiliary light source for imaging, according to the light emitting pattern, and obtains a photographic image and information on blur at the time of imaging. - 特許庁

又は、投影光により画像情報を表示する画像投影フィルムと、前記画像投影フィルムに投影される画像情報を保有する光学部材と、光学部材を経由して前記画像投影フィルムに投影光を照射する光源とを配置する。例文帳に追加

Or an image projecting film for displaying the image information by the projection light, an optical member possessing the image information projecting on the image projecting film and the light source for irradiating the projection light to the image projecting film through the optical member are arranged. - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

WAVEFRONT ABERRATION MEASURING METHOD, WAVEFRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影光学系を有する中間鏡筒及び投影光学系を有する顕微鏡例文帳に追加

INTERMEDIATE LENS BARREL HAVING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MICROSCOPE HAVING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

撮影光環境に影響されない、所定の光環境の画像を得ることができる。例文帳に追加

To obtain an image of a prescribed light environment that is not affected by a photographing light environment. - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法。例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法例文帳に追加

METHOD AND DEVICE FOR MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

投影光学系の敏感度計測方法、及びそれを有する投影露光装置例文帳に追加

METHOD OF MEASURING SENSITIVITY OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS HAVING THE SAME - 特許庁

投影露光方法及びこの方法を実施するのに適する投影露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide a projection exposure method and a projection exposure device suitable for performing this method. - 特許庁

荷電粒子線投影露光方法、荷電粒子線投影露光装置及び半導体デバイス製造方法例文帳に追加

METHOD AND APPARATUS FOR PROJECTING CHARGED-PARTICLE BEAM FOR EXPOSURE, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

位置検出方法、位置検出装置、投影露光方法、投影露光装置、およびデバイスの製造方法例文帳に追加

POSITION SENSING METHOD AND APPARATUS, AND METHOD AND APPARATUS OF PROJECTION EXPOSURE, AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁

マイクロリソグラフィ用縮小対物レンズ，投影露光装置及び投影露光方法例文帳に追加

REDUCTION OBJECTIVE LENS FOR MICROLIGHOGRAPHY, PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND PROJECTION EXPOSURE METHOD - 特許庁

投影光学系及びそれを備えた投影露光装置並びにデバイス製造方法例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM PROJECTION EXPOSING DEVICE PROVIDED WITH THE SYSTEM AND MANUFACTURE OF DEVICE - 特許庁

投影露光装置のフォーカス位置検出方法、投影露光方法、及びマスク例文帳に追加

FOCUS POSITION DETECTING METHOD FOR PROJECTION ALIGNER AND PROJECTION EXPOSING METHOD AND MASK - 特許庁

荷電粒子線写像投影光学系の調整方法及び荷電粒子線写像投影光学系例文帳に追加

CHARGED PARTICLE BEAM MAPPING PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ADJUSTMENT METHOD THEREOF - 特許庁

荷電粒子線投影露光方法、荷電粒子線投影露光装置及びそれに用いるレチクル例文帳に追加

METHOD AND SYSTEM FOR CHARGED PARTICLE BEAM PROJECTION EXPOSURE, AND RETICULE USED IN THE SYSTEM - 特許庁

偏光変換器、光変換方法、投影表示システム及び投影表示装置例文帳に追加

POLARIZED LIGHT CONVERTER, LIGHT CONVERTING METHOD, PROJECTION DISPLAY SYSTEM AND PROJECTION DISPLAY DEVICE - 特許庁

投影光学系、該投影光学系を用いて構成した表示装置、該表示装置を有する画像処理装置例文帳に追加

PROJECTION OPTICAL SYSTEM, DISPLAY DEVICE USING THE SYSTEM, PICTURE PROCESSOR HAVING THE DEVICE - 特許庁

偏心測定方法、偏心測定装置、投影光学系の製造方法、及び投影光学系例文帳に追加

METHOD AND INSTRUMENT FOR MEASURING ECCENTRICITY, MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

露光装置は、原版１のパターンを基板１１に投影する投影光学系ＰＯを有する。例文帳に追加

The exposure apparatus has a projection optical system OP which projects a pattern of an original 1 on a substrate 11. - 特許庁

縮小投影露光装置を用いた計測方法及びその縮小投影露光装置例文帳に追加

MEASURING METHOD USING REDUCTION-PROJECTION EXPOSURE DEVICE AND REDUCTION-PROJECTION EXPOSURE DEVICE THEREFOR - 特許庁

Ｘ線投影露光装置、Ｘ線投影露光方法及び半導体デバイスの製造方法例文帳に追加

DEVICE AND METHOD FOR X-RAY PROJECTION AND EXPOSURE AND PRODUCING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

投影光学系の検査方法、検査装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

METHOD FOR TESTING PROJECTION OPTICAL SYSTEM, TESTING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME SYSTEM - 特許庁

波面収差測定装置、ピンホールマスク、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

WAVE FRONT ABERRATION MEASURING DEVICE, PIN HOLE MASK, PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

光学物品の製造方法、光学物品、画像投影スクリーン及び画像投影装置例文帳に追加

MANUFACTURING PROCESS OF OPTICAL ARTICLE, OPTICAL ARTICLE, IMAGE PROJECTION SCREEN, AND IMAGE PROJECTOR - 特許庁

投影露光方法、投影露光装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法例文帳に追加

PROJECTION EXPOSING METHOD, PROJECTION ALIGNER AND MANUFACTURE OF DEVICE USING THE SAME - 特許庁

微細で且つワイドエリアの光投影が行える光投影装置を提供する。例文帳に追加

To provide a light-projection device which can perform fine, wide-area light-projection. - 特許庁

投影表示用光学システム及び該投影表示用光学システムを備えるプロジェクタ例文帳に追加

OPTICAL SYSTEM FOR PROJECTION DISPLAY, AND PROJECTOR INCORPORATING IT - 特許庁

軟Ｘ線縮小投影露光装置、軟Ｘ線縮小投影露光方法及びパターン形成方法例文帳に追加

SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION ALIGNER, SOFT X-RAY REDUCTION PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND PATTERN FORMATION METHOD - 特許庁

フォーカス合わせ方法、投影露光方法、フォーカス合わせ装置及び投影露光装置例文帳に追加

FOCUSING METHOD, PROJECTION EXPOSING METHOD, FOCUSING DEVICE AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁

光学物品の製造方法及び光学物品及び画像投影スクリ−ン及び画像投影装置例文帳に追加

MANUFACTURING PROCESS, OPTICAL ARTICLE, PICTURE PROJECTION SCREEN, AND IMAGE PROJECTION DEVICE OF OPTICAL ARTICLE - 特許庁

投影光学系の検査装置及び検査方法、並びに投影光学系の製造方法例文帳に追加

INSPECTING DEVICE AND METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR - 特許庁

Ｘ線投影露光装置およびＸ線投影露光方法および半導体デバイス例文帳に追加

X-RAY PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, METHOD THEREFOR AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

波面収差測定方法、波面収差測定装置、投影露光装置、投影光学系の製造方法例文帳に追加

METHOD AND DEVICE OF MEASURING WAVEFRONT ABERRATION, PROJECTION ALIGNER, AND METHOD OF MANUFACTURING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

露光装置は、原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し転写する。例文帳に追加

An exposure device projects patterns of an original plate to a substrate through a projection optical system to imprint them. - 特許庁

波面収差測定装置、投影露光装置、及び投影光学系の製造方法例文帳に追加

WAVE ABERRATION MEASURING DEVICE, PROJECTION ALIGNER, AND MANUFACTURING METHOD OF PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁

Ｘ線投影露光装置およびＸ線投影露光方法および半導体デバイス例文帳に追加

X-RAY PROJECTION ALIGNER, X-RAY PROJECTION EXPOSURE METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁

カメラ１２で撮影を行うと、撮影画像とともに撮影時の情報（撮影日時、露光条件など）が記録メディアに記録される。例文帳に追加

When photography is performed by a camera 12, information (such as photographing date and time, exposure conditions) at photographing is recorded with a photographed image. - 特許庁

投影光学系を介した光を良好に受光できる受光器を有する露光装置を提供する。例文帳に追加

To provide an exposure system having a photodetector excellently receiving light through a projection optical system. - 特許庁

露光装置は、投影光学系を介して基板に露光光を照射して基板を露光する。例文帳に追加

The exposure system exposes a substrate, by irradiating exposure light thereto through an optical projection system. - 特許庁

光学薄膜、光学部材、光学系、及び投影露光装置、並びに光学薄膜の製造方法例文帳に追加

OPTICAL THIN FILM, OPTICAL MEMBER, OPTICAL SYSTEM, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD FOR OPTICAL THIN FILM - 特許庁

撮影装置と投影装置とについて光軸を一致させた場合に、撮影装置による撮影画像の認識精度を向上させる。例文帳に追加

To improve recognition accuracy of a photographed image by an imaging apparatus when optical axes are aligned with respect to the imaging apparatus and a projection apparatus. - 特許庁

光学素子、ファインダー、測光光学系及び撮影光学系と、結像方法、観察方法、測光方法及び撮影方法例文帳に追加

OPTICAL ELEMENT, FINDER OPTICAL SYSTEM, PHOTOMETRIC OPTICAL SYSTEM, PHOTOGRAPHING OPTICAL SYSTEM, IMAGING METHOD, OBSERVATION METHOD, PHOTOMETRIC METHOD, AND PHOTOGRAPHING METHOD - 特許庁

遮光部３は、撮影光路の一部を遮光するものであって、撮影光学系の光軸５と同心に設けられる。例文帳に追加

The light shielding part 3 intercepts a part of a photographing optical path, and is concentrically provided with the optical axis 5 of a photographing optical system. - 特許庁