| 意味 | 例文 (999件) |
光と影の部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 18392件
光ファイバーマトリックス投影露光装置例文帳に追加
光源の発光を検出して撮影処理を行なうこと。例文帳に追加
To perform photography processing by detecting light emission of a power source. - 特許庁
ミラー取付構造、投影光学系および露光装置例文帳に追加
MIRROR MOUNTING STRUCTURE, PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND ALIGNER - 特許庁
撮影光源下でシーンを撮影した撮影画像を入力し(S302)、撮影光源の分光放射輝度を取得し(S306)、該撮影光源とは異なる観察光源の分光放射輝度を取得する(S308)。例文帳に追加
An image shot under a shooting light source is input (S302), spectral radiance of the shooting light source is obtained (S306), and spectral radiance of the observational light source which is different from the shooting light source is obtained (S308). - 特許庁
画像表示部１８に表示される画像を投影像として透過型スクリーンに投影する投影光学系４８と、光軸方向が前記投影光学系４８の光軸方向と異なる撮影光学系３６とを備える。例文帳に追加
The photographing device includes: a projection optical system 48 by which an image displayed on an image display section 18 is projected onto a transmission type screen as a projection image; and a photographing optical system 36 the optical axis direction of which is different from that of the projection optical system 48. - 特許庁
両側テレセントリック投影光学系および該投影光学系を備えた露光装置例文帳に追加
BOTH SIDE TELECENTRIC PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE DEVICE HAVING THIS PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
反射型投影光学系及び当該反射型投影光学系を有する露光装置例文帳に追加
REFLECTION TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND ALIGNER HAVING THE SAME - 特許庁
投影光学系、当該投影光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER HAVING THE SAME, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
反射型投影光学系、当該投影光学系を有する露光装置、並びに、デバイス製造方法例文帳に追加
REFLECTION-TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE HAVING THE REFLECTION-TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD FOR DEVICE - 特許庁
プロジェクタにより投影される投影面４３０に位置情報を投影する投影方法は、可視光により投影面４３０に投影データを投影する第１のステップと、投影面の座標位置を表す位置情報を赤外光で投影面４３０に投影する第２のステップとを有する。例文帳に追加
The method for projecting positional information on the projection plane 430 projected by a projector comprises: the first step of projecting projection data on the projection plane 430 by visible light; and the second step of projecting positional information representing the coordinate position of the projection plane on the projection plane 430 by infrared light. - 特許庁
不発光撮影モードと発光撮影モードとの切換えの際に、観察光量及び撮影光量の調整を容易に実施する。例文帳に追加
To easily adjust the light amount of observation and the light amount of photography while switching photography mode between non-emission light and emission light. - 特許庁
リソグラフィ投影装置内の投影光学系の改善／最適化を行うこと。例文帳に追加
To improve/optimize projection optics in a lithographic projection apparatus. - 特許庁
走査型投影露光装置、走査型投影露光装置の照度キャリブレーション方法及び露光方法例文帳に追加
SCANNING PROJECTION ALIGNER, AND ILLUMINANCE CALIBRATING METHOD AND ALIGNING METHOD THEREOF - 特許庁
投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR, AND ADJUSTING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影光学系、該投影光学系を有する露光装置、デバイス製造方法及びデバイス例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, ALIGNER HAVING THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, DEVICE MANUFACTURING METHOD AND DEVICE - 特許庁
投影露光装置、投影露光方法、光洗浄方法および半導体デバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNING METHOD, OPTICS CLEANING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE - 特許庁
投影光学系、該投影光学系を有する露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION-TYPE OPTICAL SYSTEM, EXPOSING APPARATUS HAVING THE PROJECTION-TYPE OPTICAL SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, EXPOSURE METHOD, MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR, AND ADJUSTING METHOD FOR THE PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
反射型投影光学系および該反射型投影光学系を備えた露光装置例文帳に追加
REFLECTION TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE DEVICE HAVING THE REFLECTION TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影露光装置、露光方法、半導体の製造方法及び投影光学系の調整方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER, EXPOSURE METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR, AND METHOD FOR ADJUSTING PROJECTION OPTICAL SYSTEM - 特許庁
投影光学系、投影光学系の製造方法、露光装置及びマイクロデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, MANUFACTURING METHOD FOR PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND MANUFACTURING METHOD FOR EXPOSURE DEVICE AND MICRODEVICE - 特許庁
照明光学装置、投影露光装置、投影光学系、及びデバイス製造方法例文帳に追加
ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
光学素子、光学素子を用いた投影スクリーンおよび光学素子を用いた投影システム例文帳に追加
OPTICAL ELEMENT, PROJECTION SCREEN AND SYSTEM USING OPTICAL ELEMENT - 特許庁
複数の投影光学モジュールを有する投影光学系を用いてマスクのパターン像を感光性基板へ投影露光する。例文帳に追加
The pattern images of a mask are formed by projection aligning on a photosensitive substrate by using a projection optical system having plural projection optical modules. - 特許庁
画像投影装置は、光を投影面に投影することによって所定の画像を表示させる。例文帳に追加
An image projection apparatus displays a predetermined image by projecting light on a projection plane. - 特許庁
光源、マスクおよび投影光学系の最適化の流れ例文帳に追加
OPTIMIZATION FLOWS OF SOURCE, MASK AND PROJECTION OPTICS - 特許庁
回折光学装置及びそれを用いた投影露光装置例文帳に追加
DIFFRACTION OPTICAL DEVICE AND PROJECTION EXPOSING DEVICE USING THE SAME - 特許庁
反射屈折光学系及び投影露光装置例文帳に追加
REFLECTION/REFRACTION OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁
光に影響を及ぼす特性を有する光学要素例文帳に追加
光源保持具、光源ユニット、および撮影装置例文帳に追加
LIGHT SOURCE HOLDING DEVICE, LIGHT SOURCE UNIT AND PHOTOGRAPHING APPARATUS - 特許庁
投影光学系及びそれを有する露光装置例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS HAVING SAME - 特許庁
反射屈折光学系および投影露光装置例文帳に追加
CATADIOPTRIC OPTICAL SYSTEM AND EXPOSURE APPARATUS - 特許庁
投影露光装置の照明デバイスの光学システム例文帳に追加
OPTICAL SYSTEM OF ILLUMINATION DEVICE OF PROJECTION EXPOSURE APPARATUS - 特許庁
投影露光装置及び複数光源の制御方法例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER AND METHOD FOR CONTROLLING PLURAL LIGHT SOURCES - 特許庁
投影光学系、露光装置、及びデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置、及びデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置及びデバイスの製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE APPARATUS, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
光縮小投影露光装置の焦点合わせ決定方法例文帳に追加
FOCUS DETERMINATION METHOD OF OPTICAL REDUCTION PROJECTION EXPOSURE SYSTEM - 特許庁
光学濃度変化要素、光学素子および撮影ユニット例文帳に追加
OPTICAL DENSITY-CHANGING ELEMENT, OPTICAL ELEMENT AND PHOTOGRAPHIC UNIT - 特許庁
投影露光装置、露光方法及び装置例文帳に追加
PROJECTION ALIGNER AND EXPOSURE METHOD/DEVICE - 特許庁
照明光学装置及び投影露光装置例文帳に追加
ILLUMINATION OPTICAL APPARATUS, AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS - 特許庁
投影光学装置、露光装置、およびデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
光源モジュール及び光学投影装置例文帳に追加
LIGHT SOURCE MODULE AND OPTICAL PROJECTION APPARATUS - 特許庁
光学素子及びこれを用いた投影露光装置例文帳に追加
OPTICAL ELEMENT AND PROJECTION EXPOSING DEVICE USING IT - 特許庁
反射型投影光学系及び露光装置例文帳に追加
REFLECTION TYPE PROJECTION OPTICAL SYSTEM, AND EXPOSURE DEVICE - 特許庁
投影露光装置、光学部品及びデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION EXPOSURE APPARATUS, OPTICAL COMPONENT, AND METHOD OF MANUFACTURING DEVICE - 特許庁
投影光学系、露光装置、およびデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
投影光学系、露光装置及びデバイス製造方法例文帳に追加
PROJECTION OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND DEVICE MANUFACTURING METHOD - 特許庁
光学素子、レンズ系、及び投影露光装置例文帳に追加
OPTICAL ELEMENT, LENS SYSTEM, AND PROJECTION ALIGNER - 特許庁
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