「化学組成」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物および厚膜レジストパターンの製造方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THICK FILM RESIST PATTERN - 特許庁

さらに、複合組成物は、化学結合した無機粒子と、定序性(ordered)ポリマーとを含むことができる。例文帳に追加

Further more, the composite composition can include chemically bonded inorganic particles and an ordered polymer. - 特許庁

耐加水分解性、耐化学薬品性、および耐衝撃性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a thermoplastic resin composition excellent in hydrolysis resistance, chemical resistance and impact resistance. - 特許庁

化学物質捕捉剤、樹脂組成物、樹脂成形体及び乳幼児用食器例文帳に追加

CHEMICAL SUBSTANCE CAPUTRING AGENT, RESIN COMPOSITION, RESIN MOLDED BODY, AND TABLEWARE FOR BABY AND INFANT - 特許庁

特定の化学構造を有する新規ブロックポリマー及びそれを含む化粧品組成物。例文帳に追加

A novel block polymer having a specific chemical structure and a cosmetic composition containing the same are provided. - 特許庁

治療化学、特に、ガレン製薬で使用される新規な安定したパラセタモール組成物。例文帳に追加

To provide a novel stable paracetamol composition for use in therapeutic chemistry, specifically galenic pharmacy. - 特許庁

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN - 特許庁

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

化学増幅系レジスト組成物およびそれを用いたフォトマスク作成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PHOTOMASK BY USING SAME - 特許庁

複合材料、磁器組成物、酸素の分離装置、化学反応装置及び複合材料の製造方法例文帳に追加

COMPOSITE MATERIAL, CERAMIC COMPOSITION, OXYGEN SEPARATOR, CHEMICAL REACTOR AND METHOD OF MANUFACTURING COMPOSITE MATERIAL - 特許庁

金属及び金属／誘電体構造体の化学的−機械的高選択性研磨用組成物。例文帳に追加

To provide a chemical-mechanical highly selective polishing composition for a metal and a metal/dielectric substance structural material. - 特許庁

化学増幅型感放射線レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RADIATION SENSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

パタ—ン形成用樹脂組成物及びそれを用いた化学増幅型ポジ型ホトレジスト例文帳に追加

RESIN COMPOSITION FOR FORMING PATTERN AND CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE PHOTORESIST USING SAME - 特許庁

化学増幅型レジスト組成物、その調製方法及びそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR PREPARING THE SAME AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

化学強化用ガラス組成物からなる磁気ディスク基板および磁気ディスク媒体。例文帳に追加

MAGNETIC DISK SUBSTRATE COMPRISING GLASS COMPOSITION FOR CHEMICAL STRENGTHENING AND MAGNETIC DISK MEDIUM - 特許庁

星型ポリマーとその製造方法及び化学増幅型ポジ型レジスト組成物例文帳に追加

STAR POLYMER, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE POSITIVE RESIST COMPOSITION - 特許庁

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び（メタ）アクリル酸誘導体とその製法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION, (METH)ACRYLATE DERIVATIVE, AND PROCESS FOR PRODUCING SAME - 特許庁

提供される組成物は核酸分子、ポリペプチド、化学構造、及び細胞を含む。例文帳に追加

The provided compositions include nucleic acid molecules, polypeptides, chemical structures, and cells. - 特許庁

下記の化学式で示されるポリアミド誘導体を含むポジ型感光性組成物を開示する。例文帳に追加

To provide a positive photosensitive composition containing a polyamide derivative expressed by a chemical formula. - 特許庁

このナノ粒子の放射特性は、コアの化学的性質（組成）とシリカ殻の存在に依存する。例文帳に追加

The radiative properties of the nanoparticle are dependent upon the chemistry (composition) of the core and presence of the silica shell. - 特許庁

化学的機械的研磨組成物とそれによる基板の研磨方法を提供すること。例文帳に追加

To provide a chemical-mechanical polishing composition and a method of polishing a substrate with the same. - 特許庁

この組成物は、電気化学セル（例えば、燃料電池）で使用するように開示されている。例文帳に追加

The composition is disclosed for use in the electrochemical cell (for example, a fuel cell). - 特許庁

良好な形状及び良好なラインエッジラフネスを示す化学増幅ポジ型レジスト組成物。例文帳に追加

To provide a positive type chemical amplification resist composition showing a sufficient shape and high line edge roughness. - 特許庁

化学組成を調整した焼結鉱を使用する低炉熱高炉操業方法例文帳に追加

LOW FURNACE HEAT BLAST FURNACE OPERATION METHOD USING SINTERED ORE HAVING CONTROLLED CHEMICAL COMPOSITION - 特許庁

該組成物は、また、広範囲の環境条件にわたり化学的にも物理的にも長期間安定である。例文帳に追加

The compositions are also chemically and physically stable over a wide range of environmental conditions and for extended periods of time. - 特許庁

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION PROCESS AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME - 特許庁

化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING SAME - 特許庁

さらに本発明は、上述の化学機械研磨組成物のそれぞれを用いた、基板の研磨方法である。例文帳に追加

The present invention further provides methods of polishing a substrate using each of the chemical mechanical polishing compositions. - 特許庁

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR THICK FILM, AND MANUFACTURING METHOD OF THICK FILM RESIST PATTERN - 特許庁

化学的機械研磨用組成物及びこれを用いた銅配線基板の製造方法例文帳に追加

COMPONENT FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING, AND METHOD OF MANUFACTURING COPPER WIRING BOARD USING THE SAME - 特許庁

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物、レジストパターンの製造法及び電子装置の製造法例文帳に追加

POSITIVE CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF RESIST PATTERN AND PRODUCTION OF ELECTRONIC DEVICE - 特許庁

保存安定性良好な化学増幅型ポジ及びネガ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加

To provide chemically amplified positive and negative resist compositions having good storage stability. - 特許庁

熱リソグラフィー用化学増幅型ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD - 特許庁

光磁気媒体の表面に、下記に示す化学式（１）又は（２）の組成物を成膜する。例文帳に追加

A film of a composition represented by the following chemical formula (1) or (2) is formed on the surface of magneto-optical medium. - 特許庁

化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。例文帳に追加

To provide a radiosensitive resin composition useful as a chemical amplification type resist. - 特許庁

光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

PHOTO ACID GENERATOR, CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN FROM THE SAME - 特許庁

ポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法例文帳に追加

POSITIVE TYPE CHEMICAL AMPLIFICATION SYSTEM PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING RESIST IMAGE - 特許庁

液浸プロセス用化学増幅型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION PROCESS AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME - 特許庁

化学増幅型レジスト製造用重合体及びこれを含有するレジスト組成物例文帳に追加

POLYMER FOR PRODUCTION OF CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST AND RESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME - 特許庁

化学増幅型レジスト組成物、その製造方法及びそれを用いたパターン形成方法例文帳に追加

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, ITS MANUFACTURING METHOD, AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME - 特許庁

食事による植物性化学物質欠乏症を矯正する組成物及び方法例文帳に追加

COMPOSITION AND METHOD FOR CORRECTING DEFICIENCY DISEASE OF VEGETABLE CHEMICAL SUBSTANCE BY DIET - 特許庁

金属錯体色素、金属錯体色素組成物、光電変換素子及び光電気化学電池例文帳に追加

METAL COMPLEX DYE, METAL COMPLEX DYE COMPOSITION, PHTOELECTRIC CONVERSION DEVICE, AND PHOTOELECTROCHEMICAL BATTERY - 特許庁

感光性ポリマーおよびこれを含む化学増幅型レジスト組成物とその製造方法例文帳に追加

PHOTOSENSITIVE POLYMER, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST COMPOSITION CONTAINING SAME AND METHOD FOR PRODUCING SAME - 特許庁

無機粒子に化学結合した側鎖基(side groups)を有するポリマーを含有する複合組成物(composite composition)を提供する。例文帳に追加

To provide a composite composition including a polymer with side groups chemically bonded to inorganic particles. - 特許庁