| 例文 (7件) |
深度プロファイルの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
前記深度修正プロファイルは、２つのｎ次元多項式の重ね合わせである。例文帳に追加
The depth correction profile is a superposition of two n-dimension polynomial expressions. - 特許庁
解像度、プロファイル、焦点深度等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。例文帳に追加
To provide a positive resist composition which excels in the balance of various performances, such as resolution, profiles and depth of focus. - 特許庁
飛行時間撮像装置６のセンサ５の画素アレイ内の伝播遅延を考慮した、深度修正プロファイルは測定された深度図に応用される。例文帳に追加
A depth correction profile in which a propagation delay in a pixel array of a sensor 5 of a flight time image pickup apparatus 6 is considered is applied to a measured bathymetric chart. - 特許庁
遠紫外線とくにＡｒＦエキシマレーザー光（波長１９３ｎｍ）を使用するリソグラフィーにおいて、矩形プロファイルをもつレジストパターンを高感度、高解像力で実現し得る、更に焦点深度が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a positive-type photoresist composition, capable of forming a resist pattern having rectangular profile with high sensitivity and high resolving power in lithography, using far-UV, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength and superior in the focus depth. - 特許庁
ログ印刷装置４は、ダイビングコンピュータ２からのダイビングデータを参照し、開始時刻＋経過時間に従って、各時点での水深と水温を求め、ダイビング経過時間に対する深度と水温の変化を示すダイブプロファイルを作成する。例文帳に追加
A log printer 4 finds a depth of water and a water temperature according to a start time + a lapse of time of diving while referring to a diving data from a diving computer 2, and prepares a diving profile for showing changes of the depth of water and the water temperature along with the diving lapse time. - 特許庁
超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、表面がスムーズで異物がない良好な表面を有し、かつ、矩形で良好なプロファイルを有するパターンが得られ、また、孤立パターンについて広い焦点深度を有するレジスト組成物を提供すること。例文帳に追加
To provide a resist composition giving a pattern having a smooth good surface free from foreign matter and rectangular good profile and also having a large focal depth in the case of an isolated pattern in lithography using a short-wavelength light source for exposure which enables ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist. - 特許庁
高感度、高解像性を有し、かつ耐熱性、焦点深度幅特性、引置き経時安定性及びレジスト溶液の保存安定性がよく、基板依存性がなくプロファイル形状の優れたレジストパターンを形成できる、放射線に感応する化学増幅型のポジ型レジスト組成物を与える新規なポジ型レジスト用基材樹脂を提供する。例文帳に追加
To provide a new base resin for a positive type resist giving a radiation sensitive chemical amplification type positive resist composition having high sensitivity and high resolution, ensuring good heat resistance, good focal depth-width characteristics, good aging stability relating to pattern form and good shelf stability of a resist solution and capable of forming a resist pattern having no substrate dependency and excellent in profile shape. - 特許庁
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