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Butyneを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
As the tertiary alcohol, 3-methyl-1-butyne-3-ol is used.例文帳に追加
三級アルコールとしては、３−メチル−１−ブチン−３−オールを使用する。 - 特許庁
As the secondary or the tertiary class alcohol, isopropyl alcohol, t-butyl alcohol, 3-methyl-1-butyne-3-ol or the like is used.例文帳に追加
二級または三級アルコールとしては、イソプロピルアルコール、t‐ブチルアルコール、３−メチル−１−ブチン−３−オール等が使用される。 - 特許庁
Also, by utilizing the technology, it is possible to purify an alkyne such as 2-butyne which is obtained from a petroleum fraction and conventionary difficult to be highly purified, in good purity.例文帳に追加
また、この技術を応用することにより、従来、高純度化が困難であった石油留分から得られる２−ブチン等のアルキンを純度良く精製することが可能である。 - 特許庁
According to such an operation, plasma is produced in the plasma-producing region R1 and the butyne gas in the film forming region R2 is activated by the plasma, whereby the insulating film of amorphous carbon is formed on the substrate W.例文帳に追加
こうすることにより，プラズマ生成領域Ｒ１にプラズマが生成され，当該プラズマにより成膜領域Ｒ２のブチンガスが活性化されて，基板Ｗ上にアモルファスカーボンの絶縁膜が形成される。 - 特許庁
Examples of such a leveling agent are 1,5-naphthalene-sodium disulfonate, 1,3,6-naphthalene- sodium trisulfonate, saccharin, aldehyde, gelatin, 2 butyne-1,4diol, quinaldine, pyridium compound, ethylene-cyane hydrine, azo dye, potassium thiocyanate, and potassium pyrophosphate.例文帳に追加
このようなレベリング剤には、１，５−ナフタリン−ジスルホン酸ナトリウム、１，３，６ナフタリン−トリスルホン酸ナトリウム、サッカリン、アルデヒド、ゼラチン、２ブチン−１，４ジオール、キナルジン、ピリジウム化合物、エチレンシアンヒドリン、アゾ染料、チオシアン酸カリウム、ピロ燐酸カリウムが挙げられる。 - 特許庁
As the raw material used for the formation of a Cu film on the surface of a substrate by a Cu-CVD process, the liq. raw material made by adding any of 2-butyne, tmvs, 3-Hex and 1,5-COD to Cu (hfac) (atms) is used.例文帳に追加
Ｃｕ−ＣＶＤプロセスによって基板表面にＣｕ膜を形成する方法に使用される原料として、Ｃｕ（ｈｆａｃ）（ａｔｍｓ）に２−ｂｕｔｙｎｅ、ｔｍｖｓ、３−Ｈｅｘ、１，５−ＣＯＤのうちいずれかを添加して作られる液体原料が使用される。 - 特許庁
In an insulating film forming device 32, Ar gas is supplied to a plasma producing region R1 in a processing vessel 50 as gas for producing plasma, while butyne gas having multiple bonds is supplied to a film-producing region R2 of the substrate W side as the material gas.例文帳に追加
絶縁膜形成装置３２において，処理容器５０内のプラズマ生成領域Ｒ１には，プラズマ生成用のガスとしてＡｒガスを供給し，基板Ｗ側の成膜領域Ｒ２には，原料ガスとして多重結合を有するブチンガスを供給する。 - 特許庁
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