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ETCHINGを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 19971



例文

As the etching process, the wet etching or dry etching using the hydrofluoric acid is performed.例文帳に追加

エッチングとしては、フッ酸を用いたウエットエッチング、又はドライエッチングである。 - 特許庁

To provide an etching method and an etching apparatus, capable of uniformly etching a wafer.例文帳に追加

より均一にウエハをエッチングすることができるエッチング方法、及び、エッチング装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING AMOUNT OF ETCHING IN DRY ETCHING PROCESS AND DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチングのエッチング量制御方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

STRUCTURE FOR DETECTING ETCHING COMPLETION, ETCHING COMPLETION DETECTING METHOD, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

エッチング終了検出用構造体、エッチングの終了検出方法、およびエッチング方法 - 特許庁

例文

As the anisotropic etching, dry etching and PEC etching can be cited.例文帳に追加

この異方性エッチングとしては、乾式エッチング、PECエッチングが挙げられ得る。 - 特許庁


例文

The etching includes two steps of a first etching step and a second etching step.例文帳に追加

エッチングは第1エッチング工程と第2エッチング工程の2段階に分ける。 - 特許庁

To provide a dry etching method for etching an InP substrate by means of dry etching at a low temperature and a high speed.例文帳に追加

低温でInP基板をドライエッチング法により高速でエッチングする。 - 特許庁

To provide a dry etching method of carrying out etching having a uniform distribution of etching rate.例文帳に追加

均一な分布レートでエッチングするドライエッチング方法を提供する。 - 特許庁

Next etching for the etching mask 4 is made until an upper part of the film 2 to be made etching is exposed.例文帳に追加

次にエッチングマスク4を被エッチング膜2の上部が露出するまでエッチングする。 - 特許庁

例文

When the etching endpoint is reached, the etching device 1 terminates the etching.例文帳に追加

エッチング装置1は、エッチング終点に達したら、エッチングを終了する。 - 特許庁

例文

DEVICE FOR MEASURING QUANTITY OF ETCHING, ETCHING DEVICE AND METHOD FOR MEASURING QUANTITY OF ETCHING例文帳に追加

エッチング量計測装置、エッチング装置及びエッチング量計測方法 - 特許庁

ETCHING OF QUARTZ VIBRATING FRAGMENT, ETCHING DEVICE AND STORING CONTAINER OF QUARTZ FRAGMENT FOR ETCHING例文帳に追加

水晶振動片のエッチング方法とエッチング装置及びエッチング用の水晶片の収容器 - 特許庁

SPUTTER ETCHING APPARATUS, SPUTTER ETCHING SYSTEM, AND SPUTTER ETCHING METHOD例文帳に追加

スパッタエッチング装置、スパッタエッチングシステム及びスパッタエッチング方法 - 特許庁

A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method.例文帳に追加

エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。 - 特許庁

PLASMA ETCHING USING XENON例文帳に追加

キセノンを用いたプラズマエッチング - 特許庁

In the etching method, the etching of the glass plate is performed by spraying the etching liquid on the glass surface and removing the etching liquid thereafter.例文帳に追加

エッチング方法としては、ガラス表面にエッチング液を吹き付け、その後エッチング液を除去することによってガラス板のエッチングを行う。 - 特許庁

LABEL FOR LASER ETCHING例文帳に追加

レーザーエッチング用ラベル - 特許庁

ETCHING AGENT FOR COPPER OR COPPER ALLOY例文帳に追加

銅または銅合金のエッチング剤 - 特許庁

In the first recess etching process, anisotropic etching is performed, and in the second recess etching process, etching free from anisotropy is performed.例文帳に追加

第1のリセスエッチング工程では、異方性エッチングを実施し、第2のリセスエッチング工程では、異方性のないエッチングを実施する。 - 特許庁

DEFECTIVE ETCHING OF GERMANIUM例文帳に追加

ゲルマニウムの欠陥エッチング - 特許庁

METHOD OF ETCHING HAFNIUM OXIDE例文帳に追加

酸化ハフニウムのエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING RUTHENIUM FILM例文帳に追加

ルテニウム膜のエッチング方法 - 特許庁

ETCHING DEPTH DETECTING APPARATUS, ETCHING APPARATUS, ETCHING DEPTH DETECTING METHOD, ETCHING METHOD AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

エッチング深さ検出装置、エッチング装置及びエッチング深さ検出方法、エッチング方法、半導体装置製造方法 - 特許庁

ELECTRODE FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング用電極 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR MULTILAYER FILM例文帳に追加

多層膜のエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT, AND ETCHING METHOD例文帳に追加

エッチング液及びエッチング方法 - 特許庁

ETCHING OF MULTILAYER ELECTRICALLY CONDUCTIVE FILM例文帳に追加

多層導電膜のエッチング方法 - 特許庁

ETCHANT AND ETCHING METHOD例文帳に追加

エッチング液、及びエッチング方法 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェハのエッチング方法 - 特許庁

ETCHING APPARATUS OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハのエッチング装置 - 特許庁

REACTIVE ION ETCHING APPARATUS例文帳に追加

反応性イオンエッチング装置 - 特許庁

ELECTRODE PLATE FOR PLASMA ETCHING例文帳に追加

プラズマエッチング用電極板 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR COPPER OR COPPER ALLOY例文帳に追加

銅又は銅合金用エッチング液 - 特許庁

ETCHING METHOD AND ETCHANT例文帳に追加

エッチング方法及びエッチング液 - 特許庁

ETCHANT AND ETCHING METHOD例文帳に追加

エッチング液およびエッチング方法 - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR COPPER AND COPPER ALLOY例文帳に追加

銅および銅合金のエッチング液 - 特許庁

PRETREATMENT METHOD FOR POLYIMIDE ETCHING例文帳に追加

ポリイミドエッチング前処理方法 - 特許庁

ELECTROLYTIC ETCHING APPARATUS AND METHOD例文帳に追加

電解エッチング装置及び方法 - 特許庁

ELECTROLYTIC ETCHING METHOD AND APPARATUS例文帳に追加

電解エッチング方法および装置 - 特許庁

REACTIVE ION ETCHING METHOD例文帳に追加

反応性イオンエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD OF SILICON NITRIDE例文帳に追加

窒化ケイ素のエッチング方法 - 特許庁

CLEANING GAS AND ETCHING GAS例文帳に追加

クリーニングガス及びエッチングガス - 特許庁

PLASMA ETCHING ELECTRODE PLATE例文帳に追加

プラズマエッチング電極板 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体のドライエッチング方法 - 特許庁

DRY ETCHING METHOD OF PLATINUM例文帳に追加

白金のドライエッチング方法 - 特許庁

ETCHING METHOD OF SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウェーハのエッチング方法 - 特許庁

METHOD OF ETCHING SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウエハのエッチング方法 - 特許庁

ETCHING DEVICE FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加

半導体ウエハのエッチング装置 - 特許庁

ELECTRODE FOR DRY ETCHING DEVICE例文帳に追加

ドライエッチング装置用電極 - 特許庁

例文

SILICON WAFER ETCHING METHOD例文帳に追加

シリコンウェハのエッチング方法 - 特許庁

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