「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(27ページ目) - Weblio英語例文検索

MASK PATTERN DATA PREPARATION METHOD, MASK PATTERN DATA PREPARATION PROGRAM, MASK, AND MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成プログラム、マスク、半導体装置の製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 - 特許庁

A hard mask is formed, by shaping the hard mask structure by using the resist mask.例文帳に追加

レジストマスクを用いてハードマスク構造を成形することによってハードマスクが形成される。 - 特許庁

A hard mask including a lower hard mask layer 31 and an upper hard mask layer 20 is prepared.例文帳に追加

低Ｋ下部ハードマスク層３１と上部ハードマスク層２０とを含むハードマスクを準備する。 - 特許庁

To suppress a pattern failure caused by a mask blank when a mask is fabricated from the mask blank.例文帳に追加

マスクブランクからマスクを作製する際、マスクブランク起因によるパターン不良を抑制する。 - 特許庁

MASK, DISPLAY ELEMENT USING MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING DISPLAY ELEMENT USING MASK例文帳に追加

マスクおよびマスクを使用した表示素子ならびにマスクを使用した表示素子の製造方法 - 特許庁

GRAY TONE MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクブランク、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

A mask distinction mark detector 131 detects the mask distinction mark 14 of the mask 10.例文帳に追加

マスク識別マーク検出器１３１は、マスク１０のマスク識別マーク１４を検出する。 - 特許庁

METHOD OF SURFACE-TREATING MASK BLANK, METHOD OF MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクブランクの表面処理方法、マスクブランクの製造方法、およびマスクの製造方法 - 特許庁

STENCIL MASK BLANK, STENCIL MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD OF CHARGED PARTICLE BEAM USING MASK例文帳に追加

ステンシルマスクブランク及びステンシルマスク並びにそれを用いた荷電粒子線のパターン露光方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK, ION BEAM DEVICE FOR REFLECTIVE MASK, AND REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスク - 特許庁

MASK DATA CREATION METHOD, MASK DESIGNING APPARATUS, MASK, PROGRAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクデータ作成方法、マスク設計装置、マスク、プログラム及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a split mask and an assembling apparatus for a mask frame assembly including the split mask.例文帳に追加

分割マスクとその分割マスクを含むマスクフレーム組立体の組立装置を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING MASK, STORAGE MEDIUM STORED WITH MASK PATTERN LAYOUT PROGRAM, AND APPARATUS FOR PRODUCING MASK例文帳に追加

マスク製造方法、マスクパターンレイアウトプログラムを記憶した記憶媒体、及びマスク製造装置 - 特許庁

SHADOW MASK FOR CATHODE RAY TUBE例文帳に追加

陰極線管用シャドーマスク - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK例文帳に追加

反射型マスクブランク、及び反射型マスクブランクの製造方法 - 特許庁

MEMORY CELL OF MASK ROM, MASK ROM AND FABRICATION THEREOF例文帳に追加

マスクＲＯＭのメモリセル、マスクＲＯＭ及びその製造方法 - 特許庁

PATTERN TRANSFER MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

パターン転写用マスク、マスク作製方法及び露光方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR GRAY TONE MASK例文帳に追加

グレートーンマスクの製造方法 - 特許庁

The mask film is attached to a mask film support frame 30.例文帳に追加

マスクフィルムはマスクフィルム支持枠３０に取り付けられている。 - 特許庁

MASK STRUCTURE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND REINFORCING MASK FRAME例文帳に追加

マスク構造体とその製造方法、および補強用マスクフレーム - 特許庁

MASK AND METHOD FOR FOCUS MONITORING例文帳に追加

フォーカスモニタ方法及びマスク - 特許庁

SANITARY MASK FOR PROTECTION OF OTHERS例文帳に追加

他者保護用の衛生マスク - 特許庁

MASK BLANK MANUFACTURING METHOD, TRANSFER MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

マスクブランクの製造方法および転写マスクの製造方法 - 特許庁

The metal mask 10 is formed so as to be thicker than the metal mask 8.例文帳に追加

メタルマスク１０は、メタルマスク８よりも厚く形成する。 - 特許庁

MASK AND INSPECTION METHOD THEREOF例文帳に追加

マスクおよびその検査方法 - 特許庁

The shadow mask 7 has a main mask 14 and a supplemental mask 20 superposed on a short axis area of the main mask.例文帳に追加

シャドウマスク７は、主マスク１４と、主マスクの短軸領域に重ねて設けられた補助マスク２０とを有している。 - 特許庁

TRANSFER MASK BLANK, TRANSFER MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD例文帳に追加

転写マスクブランク及び転写マスク並びにパターン露光方法 - 特許庁

MASK FOR COLOR CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加

カラー陰極線管用マスク - 特許庁

MASK DEFECT INSPECTION METHOD AND MASK DESIGN DATA FORMING METHOD例文帳に追加

マスク欠陥検査方法及びマスク設計データ作成方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK FOR EXPOSURE AND REFLECTIVE MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加

露光用反射型マスクブランク及び露光用反射型マスク - 特許庁

ETCHING SOLUTION FOR DISPLAY MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY MASK例文帳に追加

ディスプレイマスク用エッチング液およびディスプレイマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING GRADATION MASK例文帳に追加

階調マスクの製造方法 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, REFLECTIVE MASK AND MULTILAYERED FILM REFLECTION MIRROR例文帳に追加

反射型マスクブランク、反射型マスク及び多層膜反射鏡 - 特許庁

OPTICAL MACHINING METHOD AND MASK例文帳に追加

光加工方法およびマスク - 特許庁

BALL MOUNTING APPARATUS, AND MASK例文帳に追加

ボール搭載装置およびマスク - 特許庁

PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN例文帳に追加

位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING MASK PATTERN, METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加

マスクパターンの作成方法、マスクの製造方法およびプログラム - 特許庁

EXPOSURE METHOD, EXPOSURE MASK, AND PROTECTING FILM FOR MASK例文帳に追加

露光方法及び露光用マスク並びにマスク用保護フィルム - 特許庁

DEPOSITION MASK FOR ORGANIC EL例文帳に追加

有機ＥＬ用蒸着マスク - 特許庁

To efficiently produce a mask having required mask patterns.例文帳に追加

所望のマスクパターンを有するマスクを効率良く製造する。 - 特許庁

EXPOSURE MASK GROUP AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK GROUP例文帳に追加

露光用マスク群および露光用マスク群の製造方法 - 特許庁

The mask may be a half-tone type PSM or a binary mask.例文帳に追加

このマスクは、ハーフトーン型ＰＳＭまたはバイナリーマスクでもよい。 - 特許庁

MASK SUBSTRATE, MASK BLANK, EXPOSURE METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE例文帳に追加

マスク基板、マスクブランクス、露光方法、及びデバイス製造方法 - 特許庁

DEDICATED MASK FOR WEARING HELMET例文帳に追加

ヘルメット着用時専用マスク - 特許庁