「MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

MANUFACTURE OF TRANSFER MASK例文帳に追加

転写マスクの製造方法 - 特許庁

To efficiently perform temperature control of a mask and a mask holder.例文帳に追加

マスク及びマスクホルダの温度制御を効果的に行う。 - 特許庁

ADAPTER FOR STERILIZING OXYGEN MASK例文帳に追加

酸素マスク滅菌用アダプタ - 特許庁

MASK DEFECT CHECKING DEVICE AND MASK DEFECT CHECKING METHOD例文帳に追加

マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査方法 - 特許庁

SOI WAFER, TRANSFERRING MASK BLANK, TRANSFERRING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFERRING MASK, AND PATTERN EXPOSURE METHOD USING TRANSFERRING MASK例文帳に追加

ＳＯＩウェハ、転写マスクブランク、転写マスク、転写マスクの製造方法、及び転写マスクを用いたパターン露光方法 - 特許庁

MASK FOR FABRICATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF FABRICATING MASK例文帳に追加

半導体素子製造用マスク及びその製造方法 - 特許庁

SYSTEM FOR CORRECTING MASK PATTERN AND METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN例文帳に追加

マスクパターンの補正システム及びマスクパターンの補正方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING MEMBRANE MASK例文帳に追加

メンブレンマスクの製造方法 - 特許庁

INSPECTION DEVICE FOR SUBSTRATE FOR MASK例文帳に追加

マスク用基板検査装置 - 特許庁

MANUFACTURE OF MASK ROM例文帳に追加

マスクＲＯＭ製造方法 - 特許庁

This shadow mask 7 is composed by stacking a main mask 14 and an auxiliary mask 20 on each other.例文帳に追加

シャドウマスク７は、主マスク１４と、補助マスク２０と、を重ねて構成されている。 - 特許庁

OPTIMIZING SOURCE AND MASK例文帳に追加

ソースおよびマスクの最適化 - 特許庁

MASK FIXING TOOL FOR ALIGNER例文帳に追加

露光装置のマスク固定具 - 特許庁

SYSTEM FOR ELECTRICALLY CONNECTING MASK TO EARTH AND MASK例文帳に追加

マスクをアースに電気的に接続するためのシステム、マスク - 特許庁

MASK BLANK-ACCOMMODATING CASE, MASK BLANK-ACCOMMODATING METHOD AND MASK BLANK-ACCOMMODATED BODY例文帳に追加

マスクブランク収納ケース及びマスクブランクの収納方法、並びにマスクブランク収納体 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK SUBSTRATE例文帳に追加

マスク基板の製造方法 - 特許庁

A shadow mask 7 is constituted by overlapping a main mask 14 and an auxiliary mask 20.例文帳に追加

シャドウマスク７は、主マスク１４と補助マスク２０とを重ねて構成されている。 - 特許庁

REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING REFLECTIVE MASK例文帳に追加

反射型マスクブランク及び反射型マスクの製造方法 - 特許庁

JUDGING SYSTEM FOR MASK DEFECT AND METHOD FOR JUDGING MASK DEFECT例文帳に追加

マスク欠陥判定システム及びマスク欠陥判定方法 - 特許庁

GRAY TONE MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND GRAY TONE MASK BLANK例文帳に追加

グレートーンマスク、パターン転写方法、及びグレートーンマスクブランク - 特許庁

MASK PATTERN IMAGING APPARATUS例文帳に追加

マスクパターン画像形成装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PINHOLE MASK例文帳に追加

ピンホールマスクの製造方法 - 特許庁

SMOKEPROOF WATER-HOLDING HANDKERCHIEF MASK例文帳に追加

防煙用、保水ハンカチマスク - 特許庁

DEPOSITION MASK FORMING METHOD例文帳に追加

蒸着マスク製造方法 - 特許庁

STENCIL MASK SUBSTRATE, STENCIL MASK, AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

ステンシルマスク用基板及びステンシルマスク並びに露光方法 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING THIN FILM, MASK BLANK, AND TRANSFER MASK例文帳に追加

薄膜の評価方法、マスクブランク及び転写用マスク - 特許庁

A shadow mask 7 is formed by superimposing a main mask 14 and an auxiliary mask 20 on each other.例文帳に追加

シャドウマスク７は、主マスク１４と補助マスク２０とを重ねて構成されている。 - 特許庁

PRINTING DEVICE AND DITHER MASK例文帳に追加

印刷装置及びディザマスク - 特許庁

DISPOSABLE LARYNGEAL MASK DEVICE例文帳に追加

使い捨てラリンジアルマスク装置 - 特許庁

MASK, MASK CONTAMINATION MONITOR METHOD, PROGRAM AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

マスク、マスクコンタミネーションモニタ方法、プログラムおよび露光方法 - 特許庁

A mask layer 57 having four mask films is used.例文帳に追加

４つのマスク・フィルムを有するマスク層５７が使用される。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MASK, MASK, EXPOSURE METHOD AND ALIGNER例文帳に追加

マスクの製造方法、マスク、露光方法および露光装置 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING MASK FOR TOY AND MASK FOR TOY例文帳に追加

玩具用仮面の製造方法及び玩具用仮面 - 特許庁

MASK PATTERN VERIFICATION METHOD AND MASK PATTERN PREPARING METHOD例文帳に追加

マスクパターン検証方法およびマスクパターン作成方法 - 特許庁

MASK FOR EMERGENCY USE例文帳に追加

緊急時に使用するマスク - 特許庁

PRODUCTION METHOD OF MASK BLANKS例文帳に追加

マスクブランクスの製造方法 - 特許庁

A shadow mask 7 is structured by superimposing an auxiliary mask 20 on a mask body 14.例文帳に追加

シャドウマスク７は、マスク本体１４と、補助マスク２０と、を重ねて構成されている。 - 特許庁

MASK FOR MANUFACTURING DISPLAY PANEL例文帳に追加

ディスプレイパネル製作用マスク - 特許庁

The following bits may be set in the mask field returned by read (2): 例文帳に追加

以下のビットがread (2) - JM

If the mask argument is 0, the current logmask is not modified. 例文帳に追加

mask引き数が 0 ならば、現在のログマスクは変更されない。 - JM

Important Cultural Property - 'wooden bugaku masks: 1 Nasori mask, 3 Shintoriso masks, 1 Sanju mask, 1 Kitoku-koikuchi mask, 1 Saisoro mask' seven masks 例文帳に追加

重要文化財「木造舞楽面納曾利一、新鳥蘇三、散手一、貴徳鯉口一、採桑老一」7面 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

MASK DATA PREPARATION APPARATUS, MASK DATA PREPARATION METHOD, EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MASK DATA PREPARATION PROGRAM例文帳に追加

マスクデータ作成装置、マスクデータ作成方法、露光マスク、半導体装置の製造方法及びマスクデータ作成プログラム - 特許庁

A first mask is formed on the etching mask stack.例文帳に追加

第１のマスクが、エッチングマスクスタックの上に形成される。 - 特許庁

The hard mask pattern is formed using the left first mask pattern and second mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

残留する第１のマスクパターン及び第２のマスクパターンをエッチングマスクとして用い、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

ELECTRON RAY EXPOSURE MASK HOLDER例文帳に追加

電子線露光用マスクホルダ - 特許庁