MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
MASK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE MASK例文帳に追加
マスク、マスクの製造方法およびそのマスクを用いた半導体装置の製造方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK, MASK PATTERN CORRECTION METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF MASK BLANK GLASS SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD OF MASK BLANK, MASK BLANK GLASS SUBSTRATE, AND MASK BLANK例文帳に追加
マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクスの製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、及びマスクブランクス - 特許庁
MASK ORDERING SUPPORT SYSTEM AND MASK ORDERING SUPPORT PROGRAM例文帳に追加
マスク発注支援システム及びマスク発注支援プログラム - 特許庁
MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK SUBSTRATE例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク、露光用マスク、半導体デバイスの製造方法、及びマスクブランク用基板の製造方法 - 特許庁
under pretence of illness―on the pretence of illness―under pretext of illness―on the pretext of illness―under plea of illness―on the plea of illness―under colour of illness―under cover of illness―under the cloak of illness―under the mask of illness 例文帳に追加
病にかこつけて - 斎藤和英大辞典
The clip-mask restrictswrites to the destination drawable. 例文帳に追加
clip-mask は描画対象のドロウアブルへの書き込みを制限する。 - XFree86
Pixels are not drawn outside the area covered by the clip-mask or where the clip-mask has a bit set to 0.例文帳に追加
clip-mask がカバーしている領域の外側や、clip-mask のビットが0に設定されている領域では、ピクセルは描画されない。 - XFree86
MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE AND MASK INSPECTION METHOD例文帳に追加
荷電粒子線露光用マスク及びマスク検査方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK例文帳に追加
ステンシルマスクの製造方法 - 特許庁
Finally, the sacrificial mask is removed to provide only the spacer mask.例文帳に追加
最後に、犠牲マスクを除去して、スペーサマスクのみとする。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SHADOW MASK AND DEVICE THEREFOR, AND SHADOW MASK例文帳に追加
シャドウマスクの成形方法、その装置およびシャドウマスク - 特許庁
GRAY-TONE MASK BLANK, GRAY-TONE MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
グレートーンマスクブランク、グレートーンマスク及びその製造方法 - 特許庁
MASK DEFECT INSPECTION DEVICE AND MASK DEFECT INSPECTION METHOD例文帳に追加
マスク欠陥検査装置およびマスク欠陥検査方法 - 特許庁
MASK INSPECTION UNIT AND METHOD FOR MASK INSPECTION OF CATHODE-RAY TUBE例文帳に追加
陰極線管のマスク検査装置および検査方法 - 特許庁
SEPARATION MECHANISM FOR WORK AND MASK例文帳に追加
ワークとマスクの分離機構 - 特許庁
EXPOSURE MASK, EXPOSURE METHOD, AND MANUFACTURE OF EXPOSURE MASK例文帳に追加
露光マスク、露光方法、及び露光マスクの製造方法 - 特許庁
INSPECTING APPARATUS OF MASK DEFECT AND METHOD FOR INSPECTING MASK DEFECT例文帳に追加
マスク欠陥検査装置及びマスク欠陥検査方法 - 特許庁
METHOD FOR HOUSING MASK BLANK, MASK BLANK HOUSING BODY AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK例文帳に追加
マスクブランクスの収納方法、マスクブランクス収納体及びマスクブランクスの製造方法 - 特許庁
This mask is a mask with a vertical width which is narrower than a conventional mask and is worn between the nose and the mouth.例文帳に追加
従来のマスクより縦巾のせまいマスクで、鼻と口の間にかける。 - 特許庁
When the center of the real mask alignment mark is aligned with the center of the cut-out mask alignment mark, mask alignment between the front mask and a back mask 9 is completed.例文帳に追加
実マスクアライメントマークの中心が、抜けマスクアライメントマーク中心に位置すると、表マスク及び裏マスク9のマスクアライメントが完了する。 - 特許庁
To safely convey a mask, to accurately position the mask and to stably vacuum-chuck the mask, upon mounting the mask on a mask holder.例文帳に追加
マスクホルダへのマスクの装着時に、マスクの搬送を安全に行い、マスクの位置決めを精度良く行い、マスクの真空吸着を安定して行う。 - 特許庁
A mask conveyance device having handling arms to which the mask 2 is loaded moves the mask 2 stored by the mask storing part 40a to the mask positioning part 40b, and conveys the mask 2 positioned at the mask positioning part 40b to a mask holder.例文帳に追加
マスク2を搭載するハンドリングアームを有するマスク搬送装置により、マスク収納部40aに収納されていたマスク2をマスク位置決め部40bへ移動し、マスク位置決め部40bで位置決めされたマスク2をマスクホルダへ搬送する。 - 特許庁
MASK AND PROJECTION ALIGNER例文帳に追加
マスク及び投影露光装置 - 特許庁
CLEANING METHOD FOR PRINTING MASK例文帳に追加
印刷マスクの清掃方法 - 特許庁
DISPLAY DEVICE FOR PHOTO MASK DATA例文帳に追加
フォトマスクデータの表示装置 - 特許庁
SIMPLE MASK FOR EMERGENCY EVACUATION例文帳に追加
緊急避難用簡易マスク - 特許庁
LIGHT SHIELDING MASK FOR LENS BARREL例文帳に追加
レンズ鏡筒の遮光マスク - 特許庁
POSITIONING STRUCTURE FOR MASK FILM例文帳に追加
マスクフィルムの位置決め構造 - 特許庁
MASK FRAME FOR CATHODE RAY TUBE例文帳に追加
陰極線管のマスクフレーム - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF METAL MASK例文帳に追加
金属マスクの製作方法 - 特許庁
MASK FOR CONDUCTIVE FILM PATTERNING例文帳に追加
導電膜パターン化用マスク - 特許庁
PLATING METHOD, AND MASK PLATE例文帳に追加
鍍金方法およびマスク板 - 特許庁
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原題:”A SCANDAL IN BOHEMIA” 邦題:『ボヘミアの醜聞』 | This work has been released into the public domain by the copyright holder. This applies worldwide. 書籍名:ボヘミアの醜聞 著者名:サー・アーサー・コナン・ドイル 原書:A Scandal in Bohemia 底本:インターネット上で公開されているテキスト 訳者名:大久保ゆう (c)2001 Ver.2.21 (2003/9/10) このファイルはフリーウェアです。著作者に無断で複製、再配布できます。作者に対する「メール、苦情、質問、指摘、叱咤激励、その他諸々」はここ(zlc-chap-i@geocities.co.jp)まで。もしくは、「掲示板」まで。ホームページ「The Baker Street Bakery」にこのファイルの最新版があります。 |
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