「MASTER MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ２に複数の液滴吐出ヘッド３を搭載したヘッドユニット１のアライメントマスクＤであって、液滴吐出ヘッド３のノズル形成面５２に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド３の基準位置１６４およびキャリッジ２の基準位置１６５をパターン形成したマスタプレート１６１を備えたものである。 - 特許庁

To provide a memory system for attaining optimization in the whole system, appropriately setting an organization to mask an access request from another master, obtaining efficiency in continuous access with respect to the access in the same bank and on the same page, and not necessarily requiring correction when connection is performed to a specified bus, and to provide an access control method for the system, and a program.例文帳に追加

システム全体の最適化を図れ、他マスタからのアクセスリクエストをマスクする機関を適切に設定することができ、同一バンクでかつ同一ページのアクセスに対しての連続アクセスの効率化を図れ、しかも特定のバスへの接続時における修正が必ずしも必要としないメモリシステムおよびそのアクセス制御方法、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a high-speed, low power consumption logic device capable of reducing a power consumption and making the speed of operation higher by controlling the operation modes of respective transistors constituting a logic device, while coping with the operating condition of respective transistors upon constituting the logic device, when the logic device is constituted of a master slice type integrated circuit, capable of reducing a cost and a time for designing a mask.例文帳に追加

マスク設計のための費用と期間を短縮できるマスタースライス型集積回路により、論理装置を構成する場合に、その論理装置を構成するそれぞれのトランジスタの動作モードを、論理装置を構成した場合のそれぞれのトランジスタの動作状態に対応して制御し、低消費電力化と動作の高速化を行うことが可能な高速低消費電力論理装置を提供する。 - 特許庁

The master disk for the optical recording medium is manufactured by exposing and developing the photoresist on the substrate to form the first rugged patterns, subjecting the substrate to dry etching using the photoresist as a mask to form the second rugged patterns, removing the photoresist remaining on the substrate and detecting the reflected and diffracted light obtained by irradiating the second rugged patterns of the substrate with the laser beam in the dry etching process step.例文帳に追加

また、基板上のフォトレジストを露光現像して第１の凹凸パターンを形成し、フォトレジストをマスクとして基板に対してドライエッチングを行って第２の凹凸パターンを形成して、基板上に残ったフォトレジストを除去し、ドライエッチング工程において、基板の第２の凹凸パターンにレーザ光を照射して、得られる反射回折光を検出して光記録媒体用原盤を製造する。 - 特許庁