「MASTER MASK」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The mask pulse generation part 12-3 generates a mask pulse, on the basis of the mask pulse rate and sends the mask pulse to bus masters 20-2 to 20-n, which are other than the bus master 20-1.例文帳に追加

マスクパルス発生部１２−３において、マスクパルス率にもとづきマスクパルスが生成され、バスマスタ２０−１以外のバスマスタ２０−２〜２０−ｎへ送られる。 - 特許庁

POSITIONING METHOD OF PHOTO MASK, MANUFACTURING METHOD OF MASTER DISK, AND ALIGNER例文帳に追加

フォトマスクの位置決め方法及びマスタディスクの作製方法並びに露光装置 - 特許庁

A bus master 11 writes an address, a byte mask, and write data in a write buffer 12.例文帳に追加

バスマスタ１１は、アドレス、バイトマスク、ライトデータを書き込みバッファ１２に書き込む。 - 特許庁

To reduce pattern drawing time for all of master masks in the process of preparing a mask from a plurality of the master masks.例文帳に追加

複数のマスターマスクからマスクを作成する場合に、マスターマスク全体のパターン描画時間を短縮する。 - 特許庁

The master 200 peeled from the substrate 100 is reused as a mask for plating.例文帳に追加

基板１００から剥がした原盤２００はメッキ用のマスクとして再利用する。 - 特許庁

A master mask having a pattern size larger than an objective mask is first produced, and a plurality of identical masks are produced from the master mask by reduced projection and subjected to a die-to-die comparison with one another.例文帳に追加

対象となるマスクよりも大きいパターンサイズを有するマスターマスクを先に製作し、マスターマスクから、縮小投影によって、複数の同じマスクを製作し、これらの間で、Ｄｉｅ ｔｏ Ｄｉｅ比較法を行う。 - 特許庁

Sir, if that was my master, why had he a mask upon his face? 例文帳に追加

もしそれが私の主人だったら、どうして覆面なんてしなきゃならないんでしょう？ - Robert Louis Stevenson『ジキルとハイド』

After development, with the resist remaining on the surface of the master disk set as a mask, the surface of the master disk is subjected to reactive ion etching to manufacture a master disk for an information recording medium.例文帳に追加

現像後、原盤の表面に残存したレジストをマスクとして、原盤表面をリアクティブイオンエッチングを行い、情報記録媒体用原盤を作製する。 - 特許庁

The manufacturing method for a shadow mask is based on the following steps: after making the master shadow mask by taking advantage of a base plate, the said master shadow mask is immersed in the same electrical plating bath as a watt bath, a highly purified nickel layer is formed to make the shadow mask.例文帳に追加

本発明の一態様によるシャドウマスクの製造方法は、ベースプレートを利用してマスターシャドウマスクを製作した後、前記マスターシャドウマスクをワット浴と同じ電鋳浴に沈漬させて、高純度のニッケル層を形成することによってシャドウマスクを製造する。 - 特許庁

To generate mask drawing data in which the number of master masks to be generated can be minimized.例文帳に追加

作成すべき親マスクの枚数を最小にすることができるマスク描画データを作成する。 - 特許庁

This correction method is comprised of a master pattern classifying step 100 classifying the master pattern according to a positional relationship between each master pattern form and mask patterns located in the neighborhood of each mask pattern, and OPC executing steps 101, 102 for executing the optical proximity effect correction to the mask pattern forms classified by the mask pattern classifying step 100.例文帳に追加

各々のマスクパターンの形状、および各々のマスクパターンの近傍に位置するマスクパターンとの位置関係によりマスクパターンを分類するマスクパターン分類ステップ１００と、このマスクパターン分類ステップ１００で分類したマスクパターンの形状に対して光学的近接効果補正（以下、ＯＰＣ）を実施するＯＰＣ実施ステップ１０１，１０２とから構成されている。 - 特許庁

METHOD OF FORMING BIT LINE CONTACT ON VERTICAL TRANSISTOR OF DRAM DEVICE USING LINE FORMING MASTER MASK例文帳に追加

ＤＲＡＭデバイスの縦型トランジスタに線成形マスタ・マスクを使用してビットライン・コンタクトを形成する方法 - 特許庁

With such an arrangement, a mask can be made by patterning a large master mask at a stretch using a reduction projection aligner while fixing a pellicle during exposure.例文帳に追加

この構成によれば、露光中、ペリクル取り付けた状態で、大型マスターマスクを縮小投影光学系によって一度にパターン露光してマスクを作成できる。 - 特許庁

The mask blank is used in producing a sub-master mold 20 by imprint-transferring the fine pattern prepared on a surface of master mold 30, and has a hard mask layer on its substrate 1, wherein the hard mask layer contains a layer of chromium compound having a chemical formula CrO_xN_yC_z (where x>0).例文帳に追加

元型モールド３０の表面に設けられている微細パターンをインプリントにより転写してサブマスターモールド２０を製造する際に用いられるマスクブランクスであって、化学式ＣｒＯ_ｘＮ_ｙＣ_ｚ（ただしｘ＞０）であるクロム化合物層を含むハードマスク層を基板１上に有する。 - 特許庁

Pattern of a master mask 11 is reduction projected onto a mask substrate 13 using a reduction projection optical system 12, e.g. EUVL, and unmagnified exposure is performed by means of an electron beam or hard X-rays using an unmagnified mask 13' made of the mask substrate 13.例文帳に追加

ＥＵＶＬと同等の縮小投影光学系１２を用いて、マスターマスク１１のパターンをマスク基板１３上に縮小投影し、マスク基板１３から作成される等倍マスク１３’を用いて、電子ビームあるいは硬Ｘ線による等倍露光を行う。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION TYPE MASTER BLANK FOR EUV LITHOGRAPHY, AND METHOD OF MANUFACTURING SUBSTRATE WITH FUNCTIONAL FILM FOR MASK BLANK例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクスの製造方法、および該マスクブランクス用の機能膜付基板の製造方法 - 特許庁

Based on the positioning accuracy information and the electronic master data, a mask data creating part 201 creates mask data that designates an enabling area indicating the effective range of the subject of inspection, and image data read by a reading part 105 is masked with mask data by a masking part 202.例文帳に追加

位置合わせ精度情報と電子マスタデータに基づきマスクデータ生成部２０１で検査対象の有効範囲を示すイネーブル領域を指定したマスクデータを作成し、読取部１０５で読み取った画像データにマスクデータをマスク部２０２でマスクする。 - 特許庁

A PDA 70 that is the master device generates and outputs an interruption factor mask setting command to a tuner card 10 that is the slave device.例文帳に追加

マスタ装置であるＰＤＡ７０は、割込要因マスク設定コマンドを発生してスレーブ装置であるチューナカード１０に出力する。 - 特許庁

In a second dry etching step, dry etching is applied to the substrate for the master disk with the lower layer resist 11 as a mask and in a second ashing step, the lower layer resist 11 is removed.例文帳に追加

第２のドライエッチング工程で、下層レジスト１１をマスクにして原盤用基板をドライエッチングし、第２のアッシング工程で、下層レジスト１１を除去する。 - 特許庁

To provide a method for forming a plurality of thin-film elements, in which the number of mask master making processes of the process as a whole and of the etching processes can be reduced.例文帳に追加

工程全体のマスクマスター作製及びエッチング工程の数を削減することができる複数の薄膜素子の形成方法を提供する。 - 特許庁

An exposure mask 5 is arranged on one side of the substrate 1 on the opposite side to one side coated with the resist 2 during the exposure in the master model forming process.例文帳に追加

マスターモデル形成工程の露光時に光硬化型レジスト２を塗布した片面と反対側において前記基板１の片面に露光マスク５を配置する。 - 特許庁

Then the liquid is exposed through a mask 4 having a specified reverse pattern and developed to produce a master model 6 having the resist film 5 with the desired pattern.例文帳に追加

その後、所定の反転パターンを有するマスク４を介して露光して現像し、所望するパターンをレジスト膜５に備えたマスターモデル６を作製する。 - 特許庁

Since the pattern size of the master mask is made larger than the pattern size of the objective mask, the rounding of the pattern due to diffraction can be decreased and the time for inspection can be reduced even when a die-to-DB comparison method is applied.例文帳に追加

マスターマスクは、目的とするマスクのパターンサイズよりもパターンサイズを十分大きくできるため、回折によるパターンの丸まりを小さくできるため、Ｄｉｅ ｔｏ ＤＢ比較法を適用させても検査時間を短くできる。 - 特許庁

An encryptor 300 generates an individual key unique to the identification information by encrypting a result of masking the identification information with the mask information by the master key.例文帳に追加

暗号化部３００は、マスク情報で識別情報をマスクした結果を、マスター鍵で暗号化することにより、識別情報に対して固有の個別鍵を生成する。 - 特許庁

In a first dry etching step, dry etching is applied to the substrate for the master disk with the upper layer resist 13 as a mask and in a first ashing step, ashing is applied to an area exposed with a weak beam up to the glass substrate 1 with the intermediate layer 12 as a mask.例文帳に追加

第１のドライエッチング工程で、上層レジスト１３をマスクにして原盤用基板をドライエッチングし、第１のアッシング工程で、上記中間層１２をマスクにして弱いビームで露光された領域を硝子基板１までアッシングする。 - 特許庁

When the residual amount of the FIFO 20 is reduced below a certain value as reading is carried out at a video transfer control part 21, the PCI bus control part 19 uses a mask part 27 to mask the PCI bus use request signals of the other master devices and occupies the PCI bus by continuing to acquire the right to use the PCI bus at the master device of its own PCI slot 0(16).例文帳に追加

ビデオ転送制御部２１の読出しでＦＩＦＯ２０の残量が少ない一定値以下になった場合は、ＰＣＩバス制御部１９は、他のマスタデバイスのＰＣＩバス使用要求信号をマスク部２７でマスクし、ＰＣＩバス使用権を自らのＰＣＩスロット０（１６）系のマスタデバイスで取得し続けＰＣＩバスを占有する。 - 特許庁

This method of manufacturing the sub master mold 20 from a master pattern mold 30 for imprint having grooves corresponding to the minute pattern includes a minute pattern dimension fluctuation process of performing dry etching using oxygen gas with respect to a resist layer 4 which is formed on a hard mask layer formed on a substrate 1 for the sub master mold and to which the minute pattern of the master pattern mold 30 is transferred.例文帳に追加

微細パターンに対応する溝が設けられたインプリント用の元型モールド３０からサブマスターモールド２０を製造する方法において、前記サブマスターモールド用の基板１上にはハードマスク層が形成され、前記ハードマスク層上に形成され且つ元型モールドの微細パターンが転写されたレジスト層４に対して、酸素ガスを用いたドライエッチングを行う微細パターン寸法変動工程を有する。 - 特許庁

Meanwhile, at a still picture displaying operation time, the microcomputer 28 fits the still picture formed via an image memory 21 in the master screen region of the master/slave screen mask, fits a contracted dynamic picture obtained by a contraction arithmetic circuit 25 in the slave screen region, and displays the picture.例文帳に追加

一方、静止画表示操作時では、画像メモリ２１を介して形成された静止画を、上記親子画面マスクの親画面領域内にはめ込み、かつその子画面領域内に縮小演算回路２５により得られた縮小動画をはめ込み表示する。 - 特許庁

A mold or a mold master for a micro-lens comprises a substrate 1 in which at least a part is a conductive part, an insulating mask layer 3 which is formed on the substrate 1 and has an opening part 4, and a plated layer 5 formed on the mask layer 3.例文帳に追加

マイクロレンズ金型又は金型マスターは、少なくとも一部が導電性部となっている基板１と、基板１上に形成された開口部４を有する絶縁性マスク層３と、開口部４及び絶縁性マスク層３上に形成されたメッキ層５から成る。 - 特許庁

To provide a substitutive original plate (or a mask or a master) for exposure of a flexographic printing plate precursor (which means an unexposed unprocessed flexographic printing plate).例文帳に追加

フレクソ写真プリント用の版面前駆体（露光されていない未処理のフレクソ印刷用版面を意味する）の露光のための代替的な原版（またはマスクまたはマスター）を提供する。 - 特許庁

In a master pattern creation method of an embodiment, an oblique incidence effect measuring pattern used to measure an oblique incidence effect of incident light made incident on a reflective mask is formed on the reflective mask for pattern transfer used for an exposure device including a reflection type optical system.例文帳に追加

実施形態のマスクパターン作成方法では、反射型光学系を備えた露光装置に用いられるパターン転写用の反射型マスクに、前記反射型マスクへ入射する入射光の斜入射効果の測定に用いられる斜入射効果測定用パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a stamper having high wear resistance and durability and formed with low defect without damaging a fine groove formed by a resist mask method, when the stamper is formed from a glass master disk wherein a fine pattern is formed by the resist mask method using water soluble resin.例文帳に追加

水溶性樹脂を用いたレジストマスク法によって微細パターンを形成されたガラス原盤からスタンパを作成する場合にレジストマスク法によって形成された微細溝を損なうことなく低欠陥でスタンパ化するとともに、高い耐磨耗性および耐久性を持ったスタンパを提供する。 - 特許庁

A first mask part patterning step S7-1 in the ridge waveguide part forming step S7 and a second mask part patterning step S9-1 in the semiconductor diffracting grating element forming step S9 are performed together at a time by a pattern transfer from a master pattern 40M.例文帳に追加

リッジ導波路部形成工程Ｓ７における第１マスク部パターニング工程Ｓ７−１と半導体回折格子要素形成工程Ｓ９における第２マスク部パターニング工程Ｓ９−１とは、一つのマスターパターン４０Ｍからのパターン転写によって一括して行われる。 - 特許庁

Exposure light is projected through a master mask onto a focal position adjusted based on light reflected by the light reflective film when projecting focus detecting light onto the semiconductor substrate, thereby exposing the photoresist.例文帳に追加

半導体基板にフォーカス検出光を照射して光反射膜で反射される反射光に基づいて調整された焦点位置に原盤マスクを介して露光光を照射してフォトレジストを露光する。 - 特許庁

To ideally correct a master pattern in a mask for exposure by quantitatively grasping the fitting strain of a process model and generating the process model for simulation fitted with high accuracy.例文帳に追加

プロセスモデルのフィッティングの歪み度を定量的に把握し得るようにして、高精度にフィッティングされたシミュレーションのプロセスモデルの生成を可能にし、これにより露光用マスクにおけるマスクパターンの補正も好適に行えるようにする。 - 特許庁

In this manufacturing method of the optical master disk, when making grooves lie in zigzag lines, the height of a low part is made to be ≥70% with respect to the height of a high part in the height after the development of the upper layer used as the mask of the under layer.例文帳に追加

本発明の光ディスク用原盤の製造方法では、形成する溝を蛇行させる時、下層のマスクとなる上層の現像後の高さにおいて、低い部分の高さが高い部分に対して７０％以上とする。 - 特許庁

To reduce contamination of a printing sheet caused by the rolling-up of a mask and to improve master print wear property without adding a lateral printing pressure adjustment mechanism, using a simple structure provided with a pair of printing pressure cams at both ends of the print cylinder.例文帳に追加

版胴両端に一対の印圧カムを設けた簡素な構成としたままで、左右の印圧調整機構を付加すること無く、マスクの捲くれ上がりによる印刷用紙の汚損の低減やマスタ耐刷性の向上を図る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit capable of more reducing the number of manufacturing masks at a novel mask manufacturing when an IC designing/manufacturing by a master slice method is applied, and to provide a reticle and a semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

マスタスライス方式によるＩＣ設計／製造を適用する際、新規マスクセット作製時の製作マスク枚数をより削減できる半導体集積回路の製造方法及びレチクル及び半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

The manufacturing method for the disk includes one of a wiring stage using a write head, a magnetic transfer type transfer stage for transferring the servo pattern from a master disk, and a thermomagnetic transfer type transfer stage for transferring the servo pattern from a mask.例文帳に追加

また、ディスクの製造方法は、書込ヘッドを使用した書込工程、マスターディスクからサーボパターンを転写する磁気転写方式の転写工程、または、マスクからサーボパターンを転写する加熱磁気転写方式の転写工程の何れかを含む。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, by which a fine pattern is more stably formed by using a mask aligner and a master information carrier corresponding to a magnetic recording medium in different sizes is manufactured without changing the size of a substrate.例文帳に追加

マスクアライナーを用いて微細なパターンをより安定に形成するとともに、異なった大きさの磁気記録媒体に対応したマスター情報担体に対して基体の大きさを変更せずに製造できるレジストパターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A base material 101, having a catalyst layer 102 for plating formed on a surface and a master 200 for plating, having a mask 201 with an uneven shape corresponding to a plating pattern and a reinforcing plate 202 are brought into tight contact and fixed for electroless plating.例文帳に追加

表面にメッキ用の触媒層１０２を形成した基材１０１と、メッキのパターンに対応した凹凸形状を有するマスク部２０１と補強板２０２を有するメッキ用の原盤２００を密着させて固定し、無電解メッキを行う。 - 特許庁

In the array forming method, the pattern arranged as the mask pattern of an LSI is divided into groups to generate the array structure data in such a manner that when the congruent pattern with the master pattern as the base of repetition is repeatedly arranged at a specified repetition pitch, the largest number of repetition is obtained.例文帳に追加

アレイ化方法は、ＬＳＩのマスクパターンとして並ぶパターンにおいて、繰返しの基準となるマスタパターンに合同なパターンを、所定の繰返しピッチで繰返し配置したときの繰返し数が最大となるようにグループ化し、アレイ構造データを生成する。 - 特許庁

In the master optical disk using RIE (reactive ion etching), a resist stored in air at a room temperature is subjected to exposure and development for 200 to 400 hours, preferably 350 hours to make a pattern in which the end of a land projects, and the RIE is carried out by using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

ＲＩＥを用いた光ディスク原盤作製において、２００時間から４００時間、望ましくは３５０時間以上、室温、空気中で保管したレジストに対して露光、現像を行うことで、ランドの端部が突出したパターンを作製し、そのレジストパターンをマスクとしてＲＩＥを行う。 - 特許庁

Specifically, the layout part 135 finds the consumption of each work registered in work data 144 from a work consumption mask 142, etc., and the consumption of each flow registered in flow data 145 from a flow consumption master to generate the workflow diagram, reflecting the obtained consumption amount in the sizes of blocks and lines.例文帳に追加

具体的には、作業データ１４４に登録されている各作業の消費量を作業消費マスタ１４２等から求め、フローデータ１４５に登録されている各フローの消費量をフロー消費マスタから求め、求めた消費量をブロックおよびラインのサイズに反映させてワークフロー図を生成する。 - 特許庁

A first outer peripheral surface (attaching surface) 35B to which the light shielding mask 37 is attached, a second outer peripheral surface 35C having a diameter smaller than the first outer peripheral surface, and a taper surface 35D deformed by thermal caulking, or the like, are formed in a plastic lens frame 35 in which a front master lens 34 is fixed.例文帳に追加

前マスターレンズ３４が固定されるプラスチック製のレンズ枠３５には、遮光用マスク３７が取り付けられる第１の外周面（取付面）３５Ｂ、この第１の外周面よりも径の小さい第２の外周面３５Ｃ、及び熱カシメにより変形させられるテーパー面３５Ｄ等が形成されている。 - 特許庁