「Mask of Restrict」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To restrict a decrease in a pattern resolution resulting from the component of exposure light made incident on the photo-mask non-vertically.例文帳に追加

フォトマスク面に非垂直入射する露光光成分などに起因して生じるパターン解像度の低下を抑制すること。 - 特許庁

A charge-up potential of the mask member 21 is detected by a mask potential sensor 30 at the time of ion implantation, and a sufficient amount of electrons for canceling the potential is generated at an electron source 28 to restrict the charge-up of a wafer W.例文帳に追加

イオン注入時、マスク電位センサ３０によってマスク部材２１のチャージアップ電位を検出し、この電位を打ち消すのに十分な量の電子を電子発生源２８から発生させて、ウェーハＷのチャージアップを抑制する。 - 特許庁

To prevent occurrence of underexposure and double exposure near a boundary of an exposure region when a part of light radiated to a mask is blocked to restrict the exposure region in the exposure of a substrate using a proximity system.例文帳に追加

プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。 - 特許庁

In other case, on the basis of a calculated cover size, mask processing is performed so as to restrict a cover which can be selected, and the cover which can be used is informed to the user by the screen display.例文帳に追加

或いは、算出した表紙サイズに基づいて、選択可能な表紙を制限できるようにマスク処理を施して、使用可能な表紙を画面表示でユーザに報知する。 - 特許庁

To prevent insufficient exposure light or duplicated exposure near the boundary of an exposure region when the light irradiating a mask is partly cut to restrict the exposure area in the exposure of a substrate by using a proximity method.例文帳に追加

プロキシミティ方式を用いた基板の露光において、マスクへ照射される光の一部を遮断して露光領域を制限する際、露光領域の境界付近で露光不足や二重露光が発生するのを防止する。 - 特許庁