| 意味 | 例文 |
Plasma processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3220件
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND OPTICAL MONITORING DEVICE例文帳に追加
プラズマ処理装置及び光学モニタ装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND OPERATION METHOD THEREOF例文帳に追加
プラズマ処理装置及びその運転方法 - 特許庁
NORMAL PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE THEREFOR例文帳に追加
常圧プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND CONSTITUENT PART THEREOF例文帳に追加
プラズマ処理装置及びその構成部品 - 特許庁
PLASMA PROCESSING METHOD AND ELEMENT ISOLATION METHOD例文帳に追加
プラズマ処理方法、及び素子分離方法 - 特許庁
TEMPERATURE MEASURING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
温度測定装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING METHOD FOR POROUS INSULATING FILM例文帳に追加
多孔質絶縁膜のプラズマ処理方法 - 特許庁
PLASMA GENERATING DEVICE AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ発生装置及びワーク処理装置。 - 特許庁
WORKPIECE PROCESSING DEVICE AND PLASMA GENERATING DEVICE例文帳に追加
ワーク処理装置及びプラズマ発生装置 - 特許庁
PLASMA GENERATING DEVICE AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ発生装置及びワーク処理装置 - 特許庁
PLASMA PROCESSING DEVICE, AND CONTROL METHOD THEREFOR例文帳に追加
プラズマ処理装置及びその制御方法 - 特許庁
IMAGE PROCESSING APPARATUS AND PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
画像処理装置及びプラズマ・ディスプレイ・パネル - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND ITS ASSEMBLING METHOD例文帳に追加
プラズマ処理装置及びその組立方法 - 特許庁
PLASMA GENERATING DEVICE AND WORK PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ発生装置及びワーク処理装置 - 特許庁
MICROWAVE FEEDER, PLASMA PROCESSING APPARATUS USING IT, AND PLASMA PROCESSING METHOD例文帳に追加
マイクロウェーブ供給装置、それを用いたプラズマ工程装置及びプラズマ工程方法 - 特許庁
To provide a plasma processing system for processing a workpiece by a down-stream type plasma.例文帳に追加
ダウンストリーム型プラズマで加工物を処理するプラズマ処理システムを提供すること。 - 特許庁
PLASMA NITRIDING PROCESSING METHOD, PLASMA NITRIDING PROCESSING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
プラズマ窒化処理方法、プラズマ窒化処理装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR USING THE SAME例文帳に追加
プラズマ処理装置およびこのプラズマ処理装置を用いた半導体製造方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING SYSTEM, PERFORMANCE CONFIRMING SYSTEM THEREFOR AND INSPECTION METHOD例文帳に追加
プラズマ処理装置,プラズマ処理システムおよびこれらの性能確認システム,検査方法 - 特許庁
PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM例文帳に追加
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁
PLASMA ETCHING PROCESSING APPARATUS, PLASMA ETCHING PROCESSING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
プラズマエッチング処理装置、プラズマエッチング処理方法、および半導体素子製造方法 - 特許庁
ATTRACTION METHOD, RELEASING METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD, ELECTROSTATIC CHUCK, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
吸着方法、脱離方法、プラズマ処理方法、静電チャック及びプラズマ処理装置 - 特許庁
To provide a plasma processing device allowing plasma density at an optional part of a plasma processing surface to be locally changed; and a plasma processing method.例文帳に追加
プラズマ処理面の任意の箇所のプラズマ密度を局所的に変化させることが可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
To improve the plasma production efficiency by raising plasma density in a plasma processing apparatus.例文帳に追加
プラズマ処理装置において、電子密度を高くしてプラズマ生成効率を向上する。 - 特許庁
PLASMA POTENTIAL MEASUREMENT METHOD, PLASMA POTENTIAL MEASUREMENT DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS USING IT例文帳に追加
プラズマ電位計測方法、プラズマ電位計測装置及びそれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING PROBE, PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ密度情報測定プローブ、プラズマ密度情報測定装置、及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA PARTICLE SIMULATION METHOD, STORAGE MEDIUM, PLASMA PARTICLE SIMULATOR, AND PLASMA PROCESSING DEVICE例文帳に追加
プラズマ粒子シミュレーション方法、記憶媒体、プラズマ粒子シミュレータ、及びプラズマ処理装置 - 特許庁
PLASMA MONITORING METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PLASMA PROCESSOR例文帳に追加
プラズマモニタ方法、プラズマ処理方法、半導体装置の製造方法、およびプラズマ処理装置 - 特許庁
MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, DIELECTRIC BOARD FOR MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MICROWAVE FEEDING METHOD OF MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
マイクロ波プラズマ処理装置、マイクロ波プラズマ処理装置用の誘電体板、及びマイクロ波プラズマ処理装置のマイクロ波給電方法 - 特許庁
The plasma processing system is at least provided with a plasma processing chamber for plasma processing to an object to be processed, an object holding means for arranging the object in the plasma processing chamber, and a plasma generating means for generating a plasma in the plasma processing chamber.例文帳に追加
被処理体にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室と;該被処理体を、前記プラズマ処理室内に配置するための被処理体保持手段と;該プラズマ処理室内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生手段とを少なくとも含むプラズマ処理装置。 - 特許庁
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