「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型フォトレジスト組成物及びそれを用いるパタ−ン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN WITH THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PROCESS FOR FORMATION OF RESIST PATTERN USING SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING POSITIVE PATTERN ON SUBSTRATE AND NEGATIVE PATTERN FORMING COMPOSITION USED IN METHOD例文帳に追加

基板にポジパターンを形成する方法及びその方法で使用されるネガパターン形成用組成物 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a method for forming a resist pattern which uses the positive resist composition.例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, AND COMPOUND USED FOR THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物 - 特許庁

The positive photosensitive resin composition is used to manufacture a pattern.例文帳に追加

また、上記ポジ型感光性樹脂組成物を用いてパターンを製造する。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, RELIEF PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC PART例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD OF FORMING RESIST PATTERN, AND POLYMERIC COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, POLYMERIC COMPOUND, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND HIGH MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD OF FORMING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パタ−ンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターンの形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND POLYMER COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

FORMING METHOD FOR RESIST PATTERN AND POSITIVE RESIST MATERIAL USED IN IT例文帳に追加

レジストパターンの形成方法並びにこれに用いるポジ型レジスト材料 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING RESIST PATTERN例文帳に追加

化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 - 特許庁

COMPOUND, DISSOLUTION INHIBITOR, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR RESIST PATTERN FORMATION例文帳に追加

化合物、溶解抑制剤、ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR LIQUID IMMERSION LITHOGRAPHY, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

高分子化合物、ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN-FORMING METHOD, AND HIGH-MOLECULAR COMPOUND例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および高分子化合物 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING RELIEF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、レリーフパターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMATION METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、パターンの形成方法及び電子部品 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

化学増幅ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION LITHOGRAPHY, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, HIGH MOLECULAR COMPOUND AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ポジ型レジスト組成物、高分子化合物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁