「Positive pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The positive resist composition includes (A) an alkali-soluble novolac resin, (B) a photosensitizing agent, and (C) a predetermined benzotriazole-based compound, wherein since the predetermined benzotriazole-based compound is included, good adhesion of a resist film of the composition to a substrate is maintained, a fine resist pattern is formed, and the generation of residues is suppressed even after the development of the resist film.例文帳に追加

（Ａ）アルカリ可溶性ノボラック樹脂、（Ｂ）感光剤、及び所定の（Ｃ）ベンゾトリアゾール系化合物を含有するポジ型レジスト組成物は、所定のベンゾトリアゾール系化合物を含有するため、レジスト膜と基板との密着性が良好に維持され、微細なレジストパターンを形成可能であると共に、レジスト膜の現像後においても、残渣の発生を少なく抑えることができる。 - 特許庁

In a method for forming a positive oxide thin film pattern in which the top of a substrate is coated with a composition containing a metal alkoxide and a chelate stabilizer, the resulting coating film is irradiated with light, a chemical reaction of the unirradiated part in the coating film is allowed to proceed and the irradiated part is dissolved and removed by etching with an etching solution, an aqueous alkali solution is used as the etching solution.例文帳に追加

金属アルコキシド及びキレート安定化剤を含む組成物を基板上に塗布し、塗布膜に光照射すると共に、この塗布膜における非照射部の化学反応を進行させた後、エッチング溶液にてエッチングして照射部を溶解、除去するポジ型酸化物薄膜パターンの形成方法において、前記エッチング溶液としてアルカリ水溶液を用いることを特徴とするものである。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having satisfactory transmittance when a source of light with 157 nm is used, having a wide defocus latitude, less liable to cause line edge roughness, free of concern for negative formation because a resist film is substantially thoroughly dissolved when developed with a developer and ensuring slight trailing of a line-and-space pattern.例文帳に追加

１６０ｎｍ以下、特にＦ２エキシマレーザー光（１５７ｎｍ）の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、具体的には１５７ｎｍの光源使用時に十分な透過性を示し、デフォーカスラチチュードが広く、ラインエッジラフネスが発生し難く、現像液で現像した際にレジスト膜が実質的に完全に溶解してネガ化の懸念がなく、ラインアンドスペースパターンの裾引きが小さいポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a photoacid generator for preparing a resist composition forming an excellent pattern shape because of excellent resolution, a wide margin of depth of focus (DOF), a small line edge roughness (LER) and further high sensitivity, and to provide a polymerizable monomer for preparing the photoacid generator in the resist composition composed of a resin having an acid unstable group and functioning as a positive resist, the acid generator and a solvent, etc.例文帳に追加

酸不安定性基を有しポジ型レジストとして機能する樹脂、酸発生剤および溶剤などからなるレジスト組成物において、解像度に優れ、焦点深度余裕（ＤＯＦ）が広く、ラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が小さく、さらには感度が高いことから優れたパターン形状を形成できるたレジスト組成物を調製するための光酸発生剤およびそれを調製するための重合性単量体を提供する。 - 特許庁

The positive type resist composition contains a compound which generates an acid when irradiated with active light or radiation and a resin containing an alkali-soluble group protected with at least one specified alicyclic hydrocarbon-containing partial structure, having ≤5% monomer content based on the entire pattern area by gel permeation chromatography(GPC) and having the rate of dissolution in an alkali developing solution increased by the action of the acid.例文帳に追加

特定の脂環式炭化水素を含む部分構造のうち少なくとも１つで保護されたアルカリ可溶性基を含み、且つモノマー成分の含有量がゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）の全パターン面積の５％以下である、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂と活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型レジスト組成物。 - 特許庁

Therefore, an operation of forming the positive type photopolymer pattern is carried out stably, without lowering the optical characteristic of the second optical filter due to light portions of the ultraviolet region component.例文帳に追加

照明部からの光路に紫外領域の波長成分を選択的に低減する第一光学フィルタと、５２０ｎｍ以下の波長域成分を選択的に低減させる第二光学フィルタを挿入することにより、照明光の紫外領域の波長成分を選択的に低減させ、紫外領域成分の光線による第二光学フィルタの光学特性を低下させることなく、安定したポジ型感光性樹脂パターン形成を行なうことが可能となる。 - 特許庁

This polybenzoxazole imide film is formed by performing pattern exposure and alkali development of the film of a positive type photosensitive resin composition containing a diazonaphthoquinone-based photosensitizer in the hydroxyamide group-containing alicyclic polyimide containing a recurring unit expressed by general formula (4) [wherein, A is a tetravalent aromatic group; and B is a divalent aromatic or aliphatic group] or its precursor, and then heating.例文帳に追加

下記一般式（４）：（式（４）中、Ａは４価の芳香族基を表し、Ｂは２価の芳香族基又は脂肪族基を表す。）で表される反復単位を含有するヒドロキシアミド基含有脂環式ポリイミド又はその前駆体中に、ジアゾナフトキノン系感光剤を含有してなるポジ型感光性樹脂組成物の膜をパターン露光及びアルカリ現像した後、加熱することにより得られることを特徴とするポリベンゾオキサゾールイミド膜である。 - 特許庁

The prognostic determination method of the corpus uteri endometrioid adenocarcinoma comprises: measuring development patterns of a molecule, carbonyl reductase, which is bound to SCC antigen and is well known as a tumor marker of the epidermoid cancer, in a carcinoma tissue by an immune structure dyeing method using an antibody specifically bound to the carbonyl reductase; scoring the acquired development pattern; and, when the result is negative or weak positive, determining it as an adverse prognosis.例文帳に追加

癌組織において、扁平上皮癌の腫瘍マーカーとしてよく知られているＳＣＣ抗原に結合する分子カルボニルレダクターゼの発現パターンを、カルボニルレダクターゼと特異的に結合する抗体を用いた免疫組織染色法により測定し、得られた発現パターンをスコア化し、陰性であるか、弱陽性である場合を、予後不良と判定することを特徴とする子宮体部類内膜腺癌の予後判定方法を提供する。 - 特許庁